ACTIVIDAD 6: TRABAJO COLABORATIVO 1 MICROELECTRNICA

GRUPO: 299008-179

PRESENTADO POR:

EDWIN ALEXANDER ECHEVERRY Cd. 1.116.434.569 FABIO FERNANDO MARTNEZ OROZCO Cd. 1110481.582 JAMER ZRATE VERGRA Cd. 1124004944 JUAN ALEJANDRO OSORIO Cd. 1110457631

TUTOR: NESTOR JAVIER RODRGUEZ

UNIVERSIDAD NACIONAL ABIERTA Y A DISTANCIA ESCUELA DE CIENCIAS BSICAS TECNOLOGA E INGENIERA 05-04-2014-IBAGU TOLIMA

INTRODUCCIN

La Microelectrnica, es la aplicacin de la ciencia a componentes y circuitos de dimensiones muy pequeas, aumentando su funcionalidad que ha contribuido en todo momento y en todas las actividades al desarrollo de la humanidad dando bienestar. El presente trabajo tiene como objetivo la aplicacin de conceptos previamente estudiados en la UNAD. En la actualidad a ninguna profesin le es ajena a esta ciencia, no slo por los mtodos y procedimientos que aporta, sino por el desarrollo tecnolgico que avanza a pasos agigantados. En los procesos de formacin profesional de los estudiantes, contribuye al desarrollo de su pensamiento lgico y la capacidad del pensamiento. En nuestro programa acadmico es fundamental la aplicacin de los conceptos que estudiaremos en Microelectrnica para el desarrollo y la aplicacin de las competencias y posterior aplicacin en los diferentes campos que abarca la ciencia de la ingeniera que da a da vemos como el desarrollo basado en estas disciplina alcanza cada vez ms importantes aportes a solucionar problemas y dar bienestar al ser humano. Es importante ver la necesidad de tener presente que debemos basarnos en los recursos que nos brinda la informtica y la telemtica como herramientas de apoyo en el aprendizaje.

OBJETIVOS

Que el estudiante investigue y analice las teoras que soportan los fundamentos de la microelectrnica. Que el estudiante plantee soluciones adecuadas a problemas que involucran las temticas referenciadas.

1- Revisar los videos Creacin de circuitos integrados parte 1 y Creacin de circuitos integrados parte 2 y sacar los aspectos ms importantes y relevantes de estos.

FABRICACIN DE CIRCUTOS INTEGRADOS En la actualidad la microelectrnica es de gran importancia, ya que su desarrollo ha generado ventajas e innovacin de equipos con menos robustez y con disminucin de costos, para darnos mayor confiabilidad dado que estos dispositivos presentan en su proceso de produccin menos mrgenes de error, por consiguiente se eliminan procesos de soldadura reduciendo notablemente la aparicin de fallas para proporcionarnos igualdad de caractersticas. Podemos hallar algunas definiciones o concepto que definen La microelectrnica como la aplicacin de la ingeniera electrnica a componentes y circuitos de dimensiones muy pequeas, microscpicas y hasta de nivel molecular para producir dispositivos y equipos electrnicos de dimensiones reducidas pero altamente funcionales1. Para ahondar un poco ms en este tema, vamos a centralizarnos en la fabricacin de circuitos integrados monolticos partiendo de su definicin que nace de las races griegas Mono y Lithico, es decir que estos circuitos son de una sola pieza que es un mono cristal de silicio la cual integra diversos componentes y su fabricacin est fundamentada en la tecnologa planar, que estn formadas de capas de silicio que forma el cuerpo en el que se llevara a cabo la construccin del circuito y tiene una funcin adicional, que consiste en aislar los componentes, para la elaboracin de estas capas se emplean los procesos epitexial, difusin e implantacin de iones respectivamente. El proceso planar se llevan a cabo a partir de los procesos de crecimiento epitaxial, difusin de impurezas, implantacin de iones, crecimiento del xido, fotolitografa, grabado qumico y mentalizacin y de los cuales podemos definir los siguientes conceptos: Crecimiento del cristal del Sustrato: se forma un lingote de cristal tipo "p" mediante el proceso de Czochralski (El mtodo consiste en tener un crisol que contiene el semiconductor fundido, por ejemplo germanio. La temperatura se controla para que este justamente por encima del punto de fusin y no empiece a solidificarse 2), este lingote se corta en obleas de espesores aprox. de 0.2mm en este sustrato se ubicaran los componentes. Crecimiento epitaxial, es este proceso fundamentalmente se hace crecer una capa de silicio adicional a la ya existente en un reactor con un temperatura entre los 900 y 1000C un horno y se aplican las impurezas PH3 para el dopado tipo n o B2H6 para el dopado tipo "p".

Oxidacin: El dixido de silicio (SiO2) es atacado por HF y las impurezas empleadas para el dopado no penetran al (SiO2), y en este proceso es donde se puede obtener un dopado selectivo para zonas especficas del chip. Fotolitografa y ataque qumico: se suprimen zonas de SiO2, mediante el proceso de foto corrosin, se aplica una emulsin foto sensible sobre la cual ubicamos un negativo a manera de mascara para luego someterla a los rayos Luz UV, para luego ser sumergida en un solucin de cido fluorhdrico que elimina el xido donde se depositara el dopante. Difusin: es este proceso se introducen impurezas de manera controlada a 1000 C por un lapso de 1 a 2 hora, como impurezas se emplean Hidruros de Boro, Arsnico y Fosforo. El tipo de difusin vara dependiendo el tipo de Dispositivo ya sea un "npn" o "pnp". Implantacin: Segundo mtodo para introducir impurezas como Boro para el tipo p o Fosforo para el tipo "n" y la velocidad de penetracin se encuentra determinada por la concentracin de iones dopantes y la energa de aceleracin y se emplea para la obtencin de capas finas de silicio como la regin de emisor de un BJT, el canal de un Mosfet, y la regin de puerta de un JFET, y este es considerado como el principal procedimiento de la fabricacin de CI. Metalizacin: mediante este proceso se forman las interconexiones de los componentes y el chip. En conclusin y luego de una breve descripcin de los proceso de fabricacin de los CI, en este momento tras el desarrollo avanzado que ha tenido el silicio, se est trabajando para desarrollar el System On Chip, donde se quiere integrar a voluntad mdulos analgicos, de potencia, memoria y RF. Actualmente existen muchas de estas plataformas en desarrollo para los altos niveles de frecuencia y potencia existira una solucin que se llamara SiGeBiCMOS. Definitivamente esta tecnologa se ha desarrollado de manera tal que ya no ser problema tener un ancho de banda de forma inalmbrica y soluciones integrales a bajo coste, aunque no debemos dejar atrs el hecho que el silicio tiene sus lmites y solo puede llegar hasta un punto especfico.

2- Crear una presentacin utilizando la pgina de Prezi una vez revisado los videos en donde explicaran que conclusiones, resumen, opiniones y dems, le dejan estos.

La url de prezi es la siguiente: http://prezi.com/qofidwynzmke/?utm_campaign=share&utm_medium=copy

3- Publicar esta presentacin con ayuda de la pgina de YouTube con la cual un compaero explicara los tems de la presentacin. En este caso se hizo en prezi.
http://prezi.com/qofidwynzmke/present/?auth_key=flqh9x5&follow=q6qoeoo-ptnj

4- Disear el layout y simulacin de la compuerta XOR con sus respectivos pantallazos y explicaciones de paso a paso de la construccin de dicha compuerta.

SIMULACION EN DSCH 2. Esta aplicacin consta de un editor lgico, basado en una captura de esquemas, y un simulador. Est orientado a la validacin del circuito lgico antes de pasar a la fase de sntesis de microelectrnica. Proporciona un entorno sencillo para el diseo lgico jerrquico y simulacin de anlisis en retardo, todo lo cual permite el diseo y la validacin de estructuras lgicas complejas. Una caracterstica muy importante es la posibilidad de estimar el consumo de potencia del circuito lgico que puede tomar como entrada la aplicacin Microwind 2 para crear el Layout. El entorno grafico Dsch es muy sencillo. Consta de una barra de men, una barra de herramientas con las tareas ms comunes y la superficie de edicin. Desarrollo del Esquema en DSCH. MicroWind y DSCH MicroWind es una herramienta para diseo y simulacin de circuitos a nivel de diseo. La herramienta cuenta con instalaciones completas de edicin (copiar, cortar, pasado, duplicar, mover), puntos de vista diferentes (MOS caractersticas, la seccin transversal 2D, visor de procesos 3D), y un simulador analgico. DSCH es un software para el diseo de la lgica. Basado en las primitivas, un circuito jerrquico puede ser construido y simulado. Tambin incluye retardo y la evaluacin del consumo de energa. El silicio es para la visualizacin en 3D de la estructura atmica de silicio, con nfasis en la estructura cristalina del silicio, los agentes de dopado, y el dixido de silicio. Par crear el fichero vamos a FileNew Luego en la Simbol Library, seleccionamos los objetos que vamos a utilizar

Abrimos el Editor en MicroWind (DSCH3). Hacemos clic en el smbolo transistor en la librera de smbolos al lado derecho

Tomamos una instancia de NMOS transistores PMOS de la librera de smbolos y lo colocamos en la ventana del editor

Tomamos tres transistores NMOS y tres PMOS

Conectamos los Drains y fuentes de los transistores de la forma que aparece en la imagen

Conectamos Vdd, GND, los pulsadores y el indicador led en el esquema que hemos creado. Ahora se comienza a simular con la tabla de verdad las condiciones de funcionamiento de la compuerta xor.

Condiciones: int3=0 int4=0

Condiciones: int3=0 int4=1

Condiciones: int3=1 int4=0

Condiciones: int3=1 int4=1

Diseo Del Layout De La Compuerta XOR Hacemos clic en Archivo - Crear Verilog Archivo. El Verilog Aparece la ventana. Esta ventana nos muestra el verilog representacin de la compuerta XOR. Hacemos clic en Aceptar para guardar el Verilog como un archivo. Txt.

Abrimos el editor de diseo ventana en MicroWind. Hacemos clic en Archivo Seleccionar Foundry y X.rul de seleccin.

10

Hacemos clic en Compile - Compilar archivo Verilog. Abrimos una ventana SIMULACION EN MICROWIND Guardamos el archivo Xor.MSK, del Programa DSCH y proseguimos a llamarlo con Microwind: File Open - Xor.MSK

Despus de seleccionar el archivo. Txt, aparece una nueva ventana archivo llamado Verilog

11

Hacemos clic a la derecha mens superiores. All nos muestra los tamaos NMOS y PMOS. Establecemos los tamaos de acuerdo a nuestra eleccin.

Hacemos clic en Compilar y luego de vuelta a la ventana en el editor en el Archivo de Verilog,esto nos crea el layout en la ventana layout editor usada automticamente para la generacin de la misma.

Hacemos clic en Simulacin

12

PROCESO DIFERENTE LLEGANDO A LA MISMA CONCLUSION.

Transistor P-MOS

Transistor N-MOS

13

Elaboracin de una compuerta XOR con Transistores CMOS usando Microwind. Seleccionamos regla a usar. la

Escogemos los transistores N-MOS y P-MOS de la librera, los cuales podemos modificar si as lo requerimos.

14

Definimos nuestro diseo, en este caso vamos a elaborar una XOR, y aunque existen varias formas de realizarla, para este caso escog la comnmente usada por los fabricantes, ya que resulta mucho ms prctica que otras opciones.

XOR IN_1 0 0 1 1 Imagen tomada de: http://en.wikipedia.org/wiki/XOR_gate XOR Tabla: Elaboracin propia IN_2 0 1 0 1 OUT 0 1 1 0

Tabla de Verdad

Identificamos el nmero de transistores N-MOS y PMOS necesarios (en este caso tres de cada tipo), y los distribuimos a conveniencia.

15

Realizamos las conexiones pertinentes, teniendo especial cuidado de usar los contactos adecuados para cada tipo de material.

Ahora observamos la grfica de respuesta de Voltaje contra tiempo, mediante la cual podemos verificar claramente la tabla de verdad de una compuerta XOR.

16

REFERENCIAS

FAIBER ROBAYO B. (2009). Modulo: Microelectrnica . Bogot, Colombia: Universidad Nacional Abierta y a Distancia UNAD. (2014).WIKI PEDIA. XOR gate. Recuperado el 17 de marzo de 2014 de la pgina web http://en.wikipedia.org/wiki/XOR_gate

(2014). ESCRIBD. The XOR gate. Recuperado el 17 de marzo de 2014 de la pgina web http://es.scribd.com/doc/64475156/42/The-XOR-Gate

WEGENER TESLA (2012). Chips, proceso de fabricacin [Vdeo]. Disponible en: http://www.youtube.com/watch?v=6AOdvdVnaI4

WEGENER TESLA (2012). Chips, proceso de fabricacin 2 [Vdeo]. Disponible en: http://www.youtube.com/watch?v=bwxLdG6VxtA

Eecheverry E (2014) Prezi: Creacin de circuitos integrados, Recuperado el 05 de abril de 2014 de la pgina web
http://prezi.com/qofidwynzmke/present/?auth_key=flqh9x5&follow=q6qoeoo-ptnj

17

CONCLUSIONES

Resulta interesante adentrarse en el mundo de la fabricacin de circuitos microelectrnicas que nos va a permitir tener una mejor nocin de cmo funcionan estos sistemas y por qu no abrirnos las posibilidades de en un futuro explorar ms de cerca estas tcnicas.

18