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Electrodepositos de Cu y Ni
Electrodepositos de Cu y Ni
METROPOLITANA
UNIDAD IZTAPALAPA
TRABAJO
ELECTRODEPOSITOS DE COBRE Y DE NIQUEL
PROCESAMIENTO DE MATERIALES ACUOSOS
POR:
PROFESORA:
4/Diciembre, 2006
ELECTRODEPOSITOS DE COBRE Y NIQUEL
Recubrimientos electrolticos
(5)
RECUBRIMIENTOS DE COBRE
Normalmente, los baos no se cambian, slo se filtran peridicamente ya sea con filtro
de materiales textiles o usando carbn activado para retirar los aditivos o impurezas
orgnicas que se han degradado. Por el peligro que representa a la salud humana y al
ambiente, al usar baos cianurados, deben respetarse normas especiales referentes a la
salud ocupacional y seguridad en el trabajo, y la proteccin al ambiente, tanto durante el
cobrizado como en el manejo y el tratamiento de los residuos y las aguas residuales. Los
residuos generados en el cobrizazo son: residuos de filtracin, concentrados
provenientes del cambio de bao o del mantenimiento de los tanques (lodos) y
enjuagues contaminados por los arrastres de los baos durante el transporte de las piezas
de un tanque a otro.
En la siguiente tabla se menciona las concentraciones que debe de tener un bao para
cobre acido y cobre alcalino.
Tabla 1. Recomendaciones de adicin para baos de cobre. Informacin proporciona por SurTec
Internacional (3)
Bao Acido
Compuesto
Composicin
CuSO4
250 g/L
H2SO4
100 g/L
ClMenor 1 g/L
Aditivos
6 g/L
Bao Alcalino
Compuesto
Composicin
CuCN
60 g/L
NaOH
20 g/L
Aditivos
10 g/L
Las reacciones involucradas en este tipo de recubrimiento para el cobre acido son
bsicamente de oxido-reduccin y se muestran a continuacin, pero primero el sulfato
de cobre se disocia en el bao:
CuSO4 Cu 2 SO42
log K 2.31
En la siguiente figura se muestran los tipos de complejos que se pueden formar en los
baos de Cobre acido, adems se observa que la concentracin de iones Cu 2+ va
disminuyendo conforme aumenta el pH; es por ello que este tipo de baos se opera a pH
de 4.5 en donde la concentracin de iones Cu2+ es casi constante. Los otros tipos de
complejos formados, que se pueden afectar en cierta medida el recubrimiento, se hacen
reaccionar en algunos casos con los compuesto que constituyen los aditivos para lograr
de esta forma darle brillo y uniformidad al recubrimiento.
[C u2+]TO T =
[ S O 4 2 ] T O T =
1 .5 7 M
2 .0 8 M
C u S O 4 : 5 H 2 O (c )
S O 42
C uSO 4
H SO4
-1
H+
C u2+
H 2SO 4
Log Conc .
-3
-5
C uO H +
-7
-9
1
pH
E 0.153V
E 0.153V
Este proceso se lleva a cabo a un pH de 4.5 y con una corriente de 1-8 Amp/ dm2
Otro aspecto importante a considerar es que los aditivos para cobre, que generalmente
pueden estar constituidos de polietilenglicol (PEG), acido mercaptopropano sulfonico
(MPS) y disulfopropil disulfuro (SPS), pueden facilitar el recubrimiento de cobre
debido a que pueden interaccionar con los iones de Cu 2+ para agilizar su reduccin a
Cu. Adems, los aditivos reaccionan con algunos complejos que aunque se encuentran
en proporciones pequeas pueden afectar en gran medida el recubrimiento.
(4)
Cu 2 Cl e CuCl
Cu 2 MPS e Cu[ S (CH 2 ) 3 SO3 H ] H
Cu[ S (CH 2 ) 3 SO3 H ] H e Cu MPS
SPS 2 H 2e 2 MPS
(1)
RECUBRIMIENTOS DE NIQUEL
En el galvanizado con nquel se pueden utilizar baos de sulfamatos o baos Watts con
sulfatos de nquel. El bao con sulfamatos generalmente est compuesto de sulfamato
de nquel, cido brico, bromuro de nquel, nodos de nquel y aditivos que influyen
sobre las propiedades. El sulfamato de nquel (Ni(SO3NH2)2) es la fuente principal de
iones de nquel en este tipo de bao. En un bao Watts de nquel modificado, las sales
utilizadas con ms frecuencia son el sulfato de nquel (NiSO4), como la principal fuente
de iones, y el cloruro de nquel por su efecto despasivizante (que hace activa la
superficie de deposito) de los iones de cloro sobre los nodos de nquel.
El cido brico tiene la funcin de sustancia buffer y reduce la formacin de defectos a
altas densidades de corriente, generados por la acidificacin de la solucin debida al
exceso de iones H+. El bromuro de nquel (NiBr2) se usa para reducir las tensiones
internas y disolver los nodos de nquel. El nquel metlico sirve como nodo para la
corriente elctrica y libera los iones de nquel que recubrirn a las piezas (niquelado).
Generalmente no se utilizan placas de nquel como nodos en el recubrimiento
galvnico, ya que ste, por la pasivacin (capacidad de no hacer reactiva la superficie a
recubrir) slo se disuelve en electrolitos con un alto contenido de cloruro. En cambio
un pequeo contenido de sulfuro u xido de nquel en el material de nodo tiene un
efecto despolarizador. Las sales que pueden utilizarse de manera alternativa para el
galvanizado, son el sulfato amnico niqueloso fcilmente soluble en agua, el sulfato
amnico niqueloso o el tetrafluoroborato niqueloso.
(3)
Composicin
240 g/L
NiCl2
40 g/L
Acido brico
Aditivos
30 g/L
2-3 g/L
NiSO4 Ni 2 SO42
log 2.29
NiCl 2 Ni 2 2Cl
E 2.50V
E 2.50V
Los iones de cloro que son los que facilitan la conduccin de la corriente a travs de la
solucin y se proporcionan mediante el cloruro de nquel.
[N i2+]TO T =
[ S O 4 2 ] T O T =
1 .1 6 M
1 .0 0 M
1
N iSO 4
N i2+
H+
- 1 H SO
4
SO 42
N i(SO 4)22
-3
Log Conc .
H 2SO 4
N iO H +
-5
N i2O H 3+
-7
-9
1
3
pH
Generalmente como el proceso de nquel se lleva a cabo a temperaturas altas como 4570C donde las sales de sulfato de nquel tienden a disolverse, y la concentracin total
de los iones de Ni2+ tiende a disminuir muy poco, lo que facilita el recubrimiento.
La siguiente grafica muestra los complejos que se forman en los baos alcalinos de Ni
[N i2+]TO T =
[ C N ] T O T =
1 .2 0 M
1 .0 0 M
1
N i2+
-1
N iH 2(C N )4
H+
N iH 3(C N )4+
HCN
N iH (C N )4
N i(C N )3
N i(C N )2
N i ( O H ) 2 ( c)
N i(C N )42
Log Conc .
-3
N iO H +
N i2O H 3+
-5
OH
CN
N i4(O H )4 4 +
-7
-9
1
pH
Figura 4. Complejos formados en un bao de nquel alcalino con pH menor de 8
No son muy comunes los baos de Ni alcalinos debido a que se forman una gran
cantidad de complejos que repercuten considerablemente en la calidad del bao.
CONCLUSIN
REFERENCIAS
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