Sebastián Mendoza

Efecto de la rotación de
Rincón
Director: Phd. Elisabeth sustrato sobre
Restrepo Parra
Co-director: Phd. Daniel
Escobar Rincón
exponentes de
escalamiento

1
 Introducción y Justificación

Objetivos

Contenido Metodología

Resultados

Conclusiones

2
Introduccion y justificacion

3
Introduccion Ingenieria de superficies
Morfologia superfcial
“Plenty of Room at the Bottom”
Richard Feynman - 1959

Bulk Tecnica GLAD Crecimiento de estructuras

Polvo
Apantallamiento

nanoparticula

Difusion
atomos superficial

Mecanismo de crecimiento

4
Marco Teorico
5
Morfologia Superficial
Altura promedio Rugosidad RMS
ത
ℎ(𝑡) ≡ ℎ(𝒙, 𝑡)
𝑤 𝑡 = [ℎ(𝒙, 𝑡)]2
Si el flujo de partículas es constante
ത
ℎ~𝑡

2. Perfiles de superficie A, B y C con la misma RMS

Figura 1. Perfil de superficie 6

Conceptos Fractales Auto – Afín: Objetos escalados bajo
Auto – Similar: Invariante bajo transformación anisotropías
2 4
transformaciones de escala 1 (a) Cambio isotrópico de
isotrópicas 1 2
escala
2 (b) Escalamiento
anisotrópico
(a) (b)
Figura 3. Representacion tipos de tranformaciones

Función auto afín

Conjunto de Cantor ℎ 𝑥 ~𝑏 −∝ ℎ(𝑏𝑥) Horizontal Vertical
𝑥 → 𝑏𝑥 ℎ → 𝑏𝛼 𝑑𝑓 = 2 − 𝛼

(a) (b) (c)

B1 = 4
B2 = 2 (d)

7
Escalamiento dinámico
Family & Viseck Escalamiento

Exponente
de rugosidad

Exponente de
crecimiento

Figura 4. Evolucion de la rugosidad RMS en el Figura 5. Curva de correlacion de alturas (HHCF)

tiempo de un crecimiento
8
Exponentes de escalamiento
Exponente de crecimiento
Exponente de rugosidad

𝜶≈𝟏

𝑤~ℎ𝛽
𝜶≈0

Figura 6. Perfil de rugosidad de superficie

Figura 7. Crecimiento columnar
α refleja la rugosidad local o de corto rango de una superficie
β caracteriza la dinámica de la rugosidad y no
crece indefinidamente
9
Siewert, J. M. A. (2012). Dissassembling Glancing Angle Deposited Films for High Throughput Growth Scaling Analysis.
Tipos de superficies

Superficies Auto Superficies

afines Montañosas

Escalar en la proporciones
correctas nos llevara a
Existe una longitud
tener una superficie
característica
idéntica estadísticamente a
la superficie original

Técnicas como sputtering

No existe una longitud
CVD es usual encontrar
característica
superficies montañosas Figura 8. Tipos de superficie. Longitud
de onda de superficie
10
Superficies montañosas
Escalamiento normal

Figura . Perfil de superficie montanosa

Escalamiento anomalo

Figura . Funcion de densidad espectral

11
Mecanismos de crecimiento de superficies
montañosas
Efecto de Barrera Ehrlich–Schwoebel

Sombreado
Reemisión
balístico

Efectos no locales
Sombreado tiene a volver mas rugosa la superficie, mientras que la reemision suaviza la superfcie
R. Wagner, R. Moon, J. Pratt, G. Shaw, and A. Raman, “Uncertainty quantification in nanomechanical measurements using the atomic force microscope,”
Nanotechnology, vol. 22, no. 45, 2011. 12
Universalidad
• Determinados mecanismo de crecimiento generan valores
específicos de exponente de escalamiento
. Universalidad • Condiciones experimentales (naturaleza del sustrato, fuente
de material, presión, temperatura, etc. ) no contribuyen a los
valores de los exponentes de crecimiento

Clases de • Los exponents de crecimiento predichos por ecuaciones

universalidad continuas son llamados clases de universabilidad

Modelos α β z
Kardar-Parisi-Chang ½ 1/3 3/2
Mullins-Herring 3/2 3/8 4
.
13
 Técnica GLAD

14
Zhao, Y. (2014). Dynamic Shadowing Growth and Its Energy Applications. Frontiers in Energy Research, 2(September), 1–8.
Antecedentes

15
Antecedentes Simulacion
Experimental

Chen et. al 2013

Tokas 2018 et. al

Siewert et al. 2012

Pregunta de investigación Backholm et. al 2013

¿Cual es el comportamiento de los exponentes de escalamiento cuando se varia la velocidad de rotación del sustrato?
16
Objetivos

17
 • Obtener exponentes de escalamiento por medio de
simulaciones de crecimiento de nanoestructuras basado en el
método de Monte Carlo cinético

• Implementar un sistema de movimiento automatizado para

la rotación e inclinación del sustrato en el sistema magnetrón
Determinar el efecto de la sputtering del Laboratorio de Física del Plasma
rotación del sustrato en
nanoestructuras crecidas
• Crecer películas metálicas por medio de la técnica GLAD
con la técnica GLAD variando la velocidad de rotación del sustrato
mediante los exponentes de
escalamiento de la
rugosidad
• Caracterizar la rugosidad de las películas obtenidas mediante
la técnica de microscopia de fuerza atómica

• Obtener los exponentes de escalamiento de la rugosidad

para cada velocidad de rotación

18
Metodologia

19
Metodología

20
Metodología
Crecimiento de películas

Preparacion de muestras
Diseno Experimental
Tiempo Velocidad de
rotacion (rpm)

0 5 22 46
7 3 3 3 3
15 3 3 3 3
30 3 3 3 3 Presion de trabajo: 3.2 mTorr Ar
45 3 3 3 3 Potencia: 150 W
60 3 3 3 3 Distancia B-S: 12 cm

21
Metodología: Microscopia de fuerza atómica - AFM

Microscopio AFM
Punta AFM

Modelo ACCESS NC-A

• Forma Piramide triangular

• Altura 14 – 16 um
• ROC: 10 nm Modelo AFM 5000II Hitachi
• Oscillation Voltage: Maximum ±10V
• Oscillation Frequency: Maximum 2.5MHz
22
Metodología Caracterizacion de
morfologia de la superficie
Procesamiento de imágenes Efecto de la punta
Función de correlación de alturas (HHCF)

Función de densidad espectral (PSD)

𝑑 = 2𝑅 ∆𝑧 + ∆𝑧 + ∆ℎ
Gan2009

Obtención de espesor de película

23
 24

Resultados
Sistema de movimiento GLAD Repetibilidad

Dibujo CAD de sistema GLAD

Prototipo de sistema GLAD

25
Imágenes AFM

26
Curvas de correlación
de alturas

27
Exponentes de Escalamiento
Velocidad Exponente
de rotación de
(rpm) rugosidad
Global (α)
0 1.70±0.39
5 2.45±0.67
22 4.65±0.61
46 2.80±1.07

Alfa no es afectado por la rotación y α>1

aumenta proporcional al tiempo según Beta aumenta proporcional a la rotación.
literatura Sin embargo, no supera el limite (B=1)
establecido

28
Pendiente Local
1ൗ
𝛼𝑙𝑜𝑐
𝜔 2
𝑚=
𝜉
Escalamiento Escalamiento
anomalo normal
∗
𝒎~𝒕𝜷 𝑚~ln 𝑡

Velocidad de Exponente de
rotacion (rpm) crecimiento
local (𝛃∗ )
0 0.62 ± 0.07
5 0.62 ± 0.11
22 0.8 ± 0.04
46 0.75 ± 0.11

𝜷∗ > 𝟎
29
Función de densidad espectral

• Picos característicos a k bajos y

decaimiento a k altos

• Corrimiento de los picos característicos

hacia la izquierda con el tiempo,
indicando que la longitud de onda de la
superficie aumenta con el espesor de la
película

30
Longitud de correlación y onda superficial

31
Mecanismo de crecimiento
t = 45 min
0 rpm

t = 30 min

t = 15 min

0 rpm > 5 rpm

t = 45 min
46 rpm
t = 30 min

t = 15 min
32
Mecanismo de crecimiento
0 rpm

Sombreado
> 5 rpm

33
Mecanismo de crecimiento

Reemision
Termica Especular Uniforme

34
Aplicaciones potenciales
Prueba preliminar

Figura 21. Peliculas crecidas de Zr a 60 min

Figura 20. Espectro de reflectancia difusa
35
Preguntas

36
Conclusiones

37
Conclusiones

38
39
Dimensión Fractal: Caracterizar la
geometría fractal
Dimensión de
V(𝑙) = 𝑁 𝑙 𝑙 𝑑𝐸
Hausdorff
𝑁(𝑙)~𝑙 𝑑𝑓 Dimensión Fractal

ln 𝑁(𝑙)
𝑑𝑓 = lim
𝑙→∞
ln 1ൗ𝑙
ln 2
𝑑𝑓 = = 0.639 < 𝑑𝐸 Fractal!!
ln 3
Dimensión fractal del
Conjunto de Cantor

40
 Tipo de escalamiento anómalo
𝛼𝑠 < 1, 𝛼𝑙𝑜𝑐 = 𝛼𝑠 = 𝛼 Family-Vicsek 0.24 ≤ 𝛼𝑠 ≤ 0.99
𝛼𝑠 > 1, 1 = 𝛼𝑙𝑜𝑐 ≠ 𝛼𝑠 = 𝛼 Super-rugoso Anómalo intrínseco
0.82 ≤ 𝛼𝑙𝑜𝑐 ≤ 0.97
𝛼𝑠 < 1, 𝛼𝑙𝑜𝑐 = 𝛼𝑠 ≠ 𝛼 Anómalo intrínseco
1. 3 ≤ 𝛼 ≤ 0.52
𝛼𝑠 > 1, 𝛼𝑙𝑜𝑐 ≠ 𝛼𝑠 ≠ 𝛼 ≠ 1 Clase nueva

Ramasco et. al 2000

41