Documentos de Académico
Documentos de Profesional
Documentos de Cultura
Transistores
Objetivos
Objetivos
Emisor P N P Colector
Base
- -
- I Emisor Base Colector
--
e
Emisor N P N Colector
Base
p n p
E E
V V0
IE p n IB p IC
E E
V V0
IB + IC = IE
p n p
E E
V
IE = IC = IB = 0
V0
p n p
E E
IE
IpB
IC
IC IB
InB InC
IBB
IB
IpB
IE IC
InB InC
IBB
IB
IC IB factor de ganancia
Presentación por José Quiles Hoyo
(P) Emisor (N) Base (P) Colector
E C
B C B E
E C
B
IC = 99 mA
RC
C
RB C
B IC n
RC
IB VBE VCE
VBB VCC RB
E 99 %
B p
1% VCC
IB = 1 mA
VBB n
100 % E
IE = 100 mA
Ic
99
IE
IB
RC
C
RB
B IC
VCE
IB VCC
VBB VBE
E
0,7 V VBE
VBE = VBB - IB RB
VBE 0,7 V
Presentación por José Quiles Hoyo
Curva
Curva característica
característica de
de salida
salida
IC
RC (mA) IB = 60 µA
C
RB
B IC IB = 40 µA
VCE
IB VCC IB = 20 µA
VBB VBE
E
VCE (V)
VCE = VCC - IC RC
RC
Variables: VBE, VCE, IB, IC
RB
IC
VBE = VBB - IB RB
+VCC
IC
IC = IB RC
RB
Vsalida
VCE = VCC - IC RC IB
Ventrada
„
IB = 60 µA Región activa
IB = 40 µA Región de corte
IB = 20 µA
„Ruptura
RC
RB
IB = 0 µA
VBB VBE VCE
VCC
VCE (V)
• En región activa: unión EB con polarización directa, BC con
polarización inversa. Aplicación en amplificación.
• En región de corte: las dos uniones polarizadas inversamente:
circuito abierto.
• En región de saturación: las dos uniones polarizadas
directamente: cortocircuito.
Presentación por José Quiles Hoyo
Línea
Línea de
de carga
carga yy punto
punto de
de funcionamiento
funcionamiento
= 100 VBE 0,7 V
RC =1 k
VCC Q IB4
RC VBB (V) VCE (V) Ic (mA) IB (mA)
Q IB3
0,7
0,8
10
9,375
0
0,625
0
6,25
Corte
Región activa
1 8,125 1,875 18,75
1,2 6,875 3,125 31,25
1,4 5,625 4,375 43,75
IB2 lín 1,6 4,375 5,625 56,25
ea 1,8 3,125 6,875 68,75
d e 2 1,875 8,125 81,25
ca 2,2 0,625 9,375 93,75
rg
IB1 a 2,3 0 10 100 Saturación
Q
VCE
V = 10
Presentación
CC V
por José Quiles Hoyo
Línea
Línea de
de carga
carga yy punto
punto de
de funcionamiento
funcionamiento
V BE 0,7 V VCE (V) Ic (mA)
5,55 V 14
0 12,00 5,550 6,450
RC
Ic (mA)
1000 12 0,00
RB C 12
100k
150 V CC 10
B
VB E
12 V 8
B
6,49 mA
5V 43,00 µA 6,45 mA 6
2
43,000 IB 43,00 µA 30,1 PEB 30,10 µW
6,450 Ic 6,45 mA 35,7975 PCE 35,80 mW
6,493 IE 6,49 mA PT 35,83 mW 0
5,550 VCE 5,55 V 0 2 4 6 8 10 12 14
4,850 VCB 4,85 V Vcc (V)
O VCC VCE
VCE IC RC
IC
VCC IB4
RC RC
IB3
RB
IC
IB1
VCC VCE
IC
VCC IB4
RC1 RC
IB3
VCC RB
RC 2 IC
IB1
VCC VCE
IC
VCC 3
IB4
RC
RC
VCC 2 IB3
RB
RC IC
VCC1 IB2 IB VCE
VBB VBE VCC
RC
IB1
B E
INVERSOR Y = not A
A Y
Ventrada Vsalida
B
IB
RL
D
VEB V
VAD = RLIC
(-IC) = gm VEB VAD
RL g m
gm : transconductancia VEB
Presentación por José Quiles Hoyo
Transistores
Transistores de
de efecto
efecto campo
campo
Contactos óhmicos
Drenador D
Región de agotamiento
p n p Puerta G
Fuente S
a) G Puerta b) G
S p D S n D
n p
p n
Fuente Drenador
-VDD
+VDD
IG IG
D D
G G
VG
VG
S S
Canal n Canal p
Presentación por José Quiles Hoyo
de
campo de
n p
D
de campo
S ID ID
p
VDD
efecto de
de efecto
G
unión
unión
ID IDSS
Al aumentar la tensión entre
Drenador y Fuente VDS, la
Transistores de
D D
p ID p
S n ID S n ID ID
p VDD p VDD
VGS=0
G G
IDSS G
ID VGS= 0 V
VGS< 0
IDSat3
VGS= -1 V
2
VGS
IDsat IDSS 1
VP
IDSat2 VGS= -3 V
IDSat1 VGS= -VP
VPP (para VGS=0) VDS
V
Presentación por José Quiles Hoyo
Intensidad
Intensidad de
de saturación
saturación IIDS =f(V GS))
D
DS=f(VGS G
ID (mA) IDSS
VGS= 0 V
2
V
IDsat 7,81 GS
5 5
VGS= -1 V
VGS= -2 V
VP
1
VGS= -3 V
VGS (V) -5 -4 -3 -2 -1 0 5 10 15 VDS (V)
VP = 5 V
VGS= -VP
Semiconductor
efecto campo
n n n n
p p
Metal
óxido-semiconductor
de enriquecimiento de agotamiento
de efecto
Formado por una placa de metal y un semiconductor, separados por una zona de óxido del semiconductor -
por ejemplo SiO2 - de unos 100 nm de espesor. Posee cuatro electrodos:
D D D D
Transistor
G sustrato
p
G S
Contactos metálicos
S D
SiO2
n n
enriquecimiento
enriquecimiento nn G sustrato
p
p VDS
Región de agotamiento
Presentación por José Quiles Hoyo
Formación
Formación del
del canal
canal en
en el
el MOSFET
MOSFET de
de D
enriquecimiento
enriquecimiento nn G sustrato
p
VGS>VT G
ID
S +++++++++++++
D
-----------------
n n
p VDS
+ VG + VG + VDS=VDsat
Característica MOSFET de
+ VD + VDS
enriquecimiento de canal n
G G D G D
S D S S
+ + + + + + + + + + +
n+ n+ n+ -- -- -- -- -- -- -- -- -- n+ n+ -- -- -- -- -- -- -- -- - n+
p p p
ID (mA) ID (mA)
VGS= 7 V
ID Sat K (VGS VT )2
VGS= 6 V
VT VGS= 5 V
VGS= 4 V
1 2 3 4 5 6 7 8 VGS= VT VDS
Presentación
V (V) por José Quiles Hoyo
GS
MOSFET
MOSFET de
de agotamiento
agotamiento nn
D
G sustrato
p
S
D
n n n
G sustrato
p
VGS = 0 G
ID
S
D
- - - - - - - - -n
--------
n n
VDS
p
MOSFET
MOSFET de
de agotamiento
agotamiento nn G sustrato
p
VGS < 0 G-
ID
S ——————
D
n - -- -- -- -- -- -- -n- - - - - - - n
- - - - - -
+ + ++ ++ ++ ++ ++ ++ ++ ++ ++ ++ + + +
VDS
p
ID (mA) ID (mA)
2 VGS= 1 V
VGS
ID IDSS 1
Vp 10 10
de
IDSS
V
2 VGS= 0 V
Característica
ID 81 GS
4
5 5
VGS= -1 V
VP
VGS= -2 V
VGS= -3 V
-4 -3 -2 -1 0 1 VGS (V) 5 10 15 VDS (V)
Presentación por José Quiles Hoyo
Aplicaciones:
Aplicaciones: circuitos
circuitos lógicos
lógicos
puertas
puertas AND
AND yy OR,
OR, lógica
lógica de
de diodos
diodos
Puerta “AND” con diodos Puerta “OR” con diodos
10 V
A
Vs
B Vs
R
R
1N914
1N914
Inversor (NOT)
Presentación por José Quiles Hoyo
Aplicaciones:
Aplicaciones: memorias
memorias RAM
RAM
DRAM BIT
Se almacena un “1” en la celda cargando el
D condensador mediante una VG en fila y VD en bit
G
La lectura se hace aplicando VG en fila y midiendo la
S corriente en la línea bit
SRAM
EPROM
MOSFET ROM
CMOS sensor
CCD