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i
( )
2
AT
3
e
EG
KT
Donde:
A = constante de proporcionalidad,
T = temperatura absoluta en grados kelvin,
K = constante de boltzmann,
EG = energa de la banda de separacin (mnima energa requerida para romper un enlace covalente, 1.12 eV).
A 5.05x10
43
m
6
K
3
K 1.38066x10
23
J
K
Semiconductores dopados
Las corrientes inducidas en los semiconductores puros son relativamente pequeas (menores que ).
La conductividad de un semiconductor puede se grandemente incrementada cuando se introducen pequeas cantidades de impurezas en
los cristales. Este proceso es llamado dopado.
Semiconductores dopados tipo N
Cuando el dopaje tiene electrones libres en exceso (mas electrones que huecos). El dopaje se conoce como donador.
Semiconductores dopados tipo P
Cuando las sustancias de dopaje tiene mas huecos que electrones, se conoce como (aceptor).
Los materiales dopados son conocidos como semiconductores extrnsecos, mientras que las sustancias puras como semiconductores
intrnsecos.
10
9
Amp
Semiconductores tipo N
El silicio es contaminado con fosforo, arsnico, y antimonio, estos elementos poseen 5 electrones de valencia, sus tomos se fijan a la
estructura cristalina del silicio sin perturbarla creando un electrn libre.
Semiconductores tipo P
Las impurezas tienen 3 electrones de valencia. Se usa comnmente el boro. Debido a que su estructura atmica carece de un electrn de
valencia, esto provoca la aparicin de un hueco en la estructura de silicio.
Concentracion de cargas
4 clases de partculas cargadas existen en un semiconductor
Partculas con cargas positivas :
Partculas con cargas negativas:
Cada una de estas partculas tiene una carga de magnitud q (la carga del electrn). La densidad de carga, es dada por:
Condicin de equilibrio
Si no existiera dopaje =>
Adems, la concentracin intrnseca de cargas es dada por: donde y son concentraciones de carga de equilibrio.
huecos_mobiles _( )
y_donadores_inmobiles _(
D
).
electrones _mobiles _( )
y_aceptores _inmobiles _(
A
).
q( +
D
A
)
0
D
A
i
( )
2
0
0
0
0
Para materiales tipo n, Para materiales tipo p,
D
>>
A
D
A
D
+
D
Ahora
i
( )
2
0
0
i
( )
2
0
i
( )
2
A
>>
D
D
A
A
+
A
A
_ dado_que_
A
>>
Ahora
i
( )
2
i
( )
2
i
( )
2
'
Transporte de la corriente elctrica
A temperaturas diferentes de cero grados kelvin, los tomos de el cristal poseen energa cintica en forma de vibraciones cerca de la
posicin neutral del cristal.
Estas vibraciones no contribuyen a un flujo de corriente en el material.
La velocidad de las cargas es dada por:
m/seg
Donde
m= masa efectiva de la carga
K= es la constante de boltzmann
T= es la temperatura absoluta en grados kelvin
Corriente de arrastre en un campo elctrico
Un campo elctrico aplicado en el semiconductor puede romper el equilibrio, ocasionando un movimiento de cargas.
La velocidad de arrastre es definida como:
Donde:
y es la movilidad de los huecos y electrones en
es la intensidad del campo elctrico.
Para el silicio
Dicha movilidad no es constante, depende de la temperatura y la densidad del dopaje.
3KT
m
h
h
e
e
h
e
m
2
V s
e
0.135
m
2
V s
h
0.045
m
2
V s
La corriente electrica asociada con el arrastre de cargas se calcula de la siguiente manera:
suponga que existen N electrones en una longitud L de un conductor.
Suponer que le toma aun electrn un tiempo de seg. Para viajar la distancia L .
Por lo tanto la cantidad de electrones que atraviesan cualquier seccin de un conductor en una unidad de tiempo es:
la corriente en amperes, es dada por:
donde q = carga del electron
= T
por definicin, la densidad de corriente , esta dada por : donde: es la concentracin de electrones por
unidad de rea. Por lo que donde es la conductividad en combinndolas se obtiene
t
0
N
t
0
I
N
t
0
q
Nq
t
0
Nq
L
T
1
L
Nq
L
I
Nq
L
t
0
J
A
m
2
J
I
A
Nq
LA
N
LA
J q
J q nqN
recordar _que_ N
qN
W m
( )
- 1
I JA
I A
L
L
AV
L
V
R
V L
1
R
A
L
I
V
R
Llegamos a la ley de ohm.
Para los huecos y electrones es el silicio, se tiene:
La corriente total de arrastre esta dada por:
J
h
q N
h
J
e
q N
e
J
t
J
h
+ J
e
J
t
q N
h
+q N
e
J
t
q N
h
+ N
e
( )