Universidad Nacional de Chimborazo Maestría en Seguridad Industrial Seguridad Industrial

Análisis del Factor de Riesgo Químico en la Industria Minera
Al iniciar las operaciones mineras las condiciones de riesgos y peligros de posibles intoxicaciones por accidentes en los vehículos que transportan los productos químicos tóxicos que son utilizados en los diferentes procesos mineros metalúrgicos, estos productos químicos principalmente son:} y Cianuro de Sodio (NaCN), y Hidrosulfuro de Sodio (NaSH) y Peroxido de Hidrogeno, (H2O2) y Ácido Sulfúrico (H2SO4) y Sulfato de Cobre (Cu2SO4) y Sulfato de Zinc (ZnSO4). y Emulsión matriz para voladura, Nitrato de Amonio (NH4NO3) empleado para voladuras, y Accesorios para voladura (booster, cordon detonante, detonadores) y Gases comprimidos (Nitrogeno líquido, acetileno, Oxigeno), Combustible (gasolina, diesel).

PLANIFICACIÓN E INGENIERÍA Polvo Inorgánico (mineral o metálico) Gases de (especificar) Presencia de Malos Olores REFORESTACIÓN Y APILAMIENTO DE LA CAPA VEGETAL Polvo Orgánico Polvo Inorgánico (mineral o metálico) Vapores de (especificar) Por Descomposición de Materia Orgánica PERFORACIÓN Y VOLADURA DE LA ROCA Polvo Orgánico Polvo Inorgánico (mineral o metálico) Gases de (especificar) Polvo Orgánico Manipulación de Químicos(sólidos o líquidos)

(DFG 2003). (piel) (ACGIH 2003). Categoría de limitación de pico: II(1). (H2O2) .5 C D = ---------------TLV ± TWA Hidrosulfuro de Sodio (NaSH) C D= 0.8 mg/m³ I. MAK: 3. Riesgo para el embarazo: grupo C. (valor techo). H (absorción dérmica). C D= 0.7 C D = ---------------TLV ± TWA Peróxido de Hidrogeno.Universidad Nacional de Chimborazo Maestría en Seguridad Industrial Seguridad Industrial EXPLOTACIÓN Polvo Orgánico Manipulación de Químicos(sólidos o líquidos) PROCESAMIENTO DEL MINERAL Polvo Orgánico Cianuro de Sodio (NaCN) LIMITES DE EXPOSICION: TLV: (como CN) 5 mg/m³.

Universidad Nacional de Chimborazo Maestría en Seguridad Industrial Seguridad Industrial C D= 0. Nitrato de Amonio (NH4NO3) empleado para voladuras . C D= 0.64 C D = ---------------TLV ± TWA Emulsión matriz para voladura. TLV (como STEL): 3 mg/m3 (ACGIH 1993-1994).5 C D = ---------------TLV ± TWA Sulfato de Cobre (Cu2SO4) C D= 0.3 C D = ---------------TLV ± TWA Ácido Sulfúrico (H2SO4) LIMITES DE EXPOSICION TLV (como TWA): 1 mg/m3 (ACGIH 1993-1994).

34 C D = ---------------TLV ± TWA .Universidad Nacional de Chimborazo Maestría en Seguridad Industrial Seguridad Industrial C D= 0.

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