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当代化工研究
Chenmical Intermediate 工艺与设备 2018 •0 8

成谈制贫设备的清洁验证

* 陈海雪
( 海 南 海 灵 化 学 制 药 有 限 公 司 海 南 570311)

搞要:在生产过程中,作为特别商品的药物,它是被用来作为人类疾病预防,治疗和诊断的物品。其作用是对人的生理功能进行调节,
并注明功效、用法及剂量。因此必须在每一次生产或每一次更换药品后进行生产设备的彻底清洁,以防止药品间的污染和交叉污染。本文
首先阐述了《药品生产质量管理规范》对设备清洁验证的要求,接着分析了制药设备的清洁验证,最后介绍了总有机碳分析在制药设备清
洁验证中的应用.
关鍵词:制药设备;清洁;验证
中图分类导:T 文献标识码:A

A Brief Discussion on Cleaning and Verification of Pharmaceutical Equipment


Chen Haixue
(Hainan Hailing Chemical Pharmaceutical C O ., LTD .,Hainan, 570311)
A b s tra c t'. In the process ofp ro du ction , as a special com m odity, drug is used as an a rtic le fo r the prevention, treatm ent and diagnosis o fhuman
diseases. Its fu n ctio n is to regulate the p h ysio lo g ica lfu n ctio n o f human beings and in dica te the efficacy, usage and dosage. Therefore, the production
equipm ent m ust be thoroughly cleaned a fte r each production o r every replacem ent ofm edicines so as to prevent contam ination and cross contam ination
between m edicines. This paperfir s t expounds the requirem ents o f equipm ent cleaning and ve rifica tio n o f '"S tand ard fo r q u a lity management o f drug
p ro d u c tio n ' then analyzes the cleaning and ve rifica tio n ofpharm aceutical e q u ip m e n t,a n d fin a lly introduces the a p p lica tio n o f to ta l organic carbon
analysis in the cleaning and ve rifica tio n o fpharm aceutical equipm ent.
K e y w o rd s i pharm aceutical equipmenU cleaning; ve rifica tio n

1. 《药 品 生 产 质 量 管 理 规 范 》对 设 备 清 洁验证 的要求 规程或清洗剂更新、生产设备变更或大修后、生产工艺有较


⑴根据情况综合选择有效的清洁方法 大改变,突发事件使设备严重污染)应再验证。制药设备的
①通过验证的设备清洁方式。为了不让杂质污染药物及 清洁验证至少进行连续三批的验证、采用经过验证的分析方
相互污染,需要验证清洗制药工艺设备的方法,让设备中微 法 ;对清洗后的擦拭法取样应进行去除率验证。
生物和其代谢物降到足够低的水平,用严谨的数字确保其中 (2)验证内 容。①清洗与灭菌规程评估。通 过验证 ,检
的残留不会对产品的安全、质量及疗效构成影响。②结合运用 查清洗、灭菌规程能否达到彻底清洁设备和灭菌的目的。清
多种清洁方式。有的制药企业怕麻烦往往采用同一种方式清洁 洗 、灭菌规程的完整性可从以下几方面考察:是否包括辅助
所有的设备。但是实际工作当中,通常需要运用不同的方式 设 备 ;是 否 按 其 持 续 一 致 的 操 作 ;是否规定了行之有效的
对设备的各个部分进行清洁,还有的设备要按照使用情况的 干燥方法;是否规定了清洗程序和参数,并按照程序清洗;
不同采用不一样的方式进行清洁。此外,按照残留物取样的 是否规定了适用的灭菌程序和参数,并按照程序灭菌;是否
回收情况、残留物的检查方式、残留物质性质的限制,所选用 规定了生产结束至开始清洗的最长时间;是否规定了设备清
的清洁方式也不相同。③按照使用说明书进行清洁。所有制药 洗 、灭前后的保留有效时间;是否规定了清洗、灭菌周期的
公司在清洁工业设备时必须根据具体的操作守则来进行清洁。 时间;是否详细描述了设备清洗后的安全存储 条件。
⑵ 制定严格的基于制药■企业内部的清洁操作规程 ② 设 备 评 估 。根 据 每 个 药 品 的 生 产 工 艺 ,确认所用到
相关国家机构必须对制药工艺的各个环节进行管控,要 的 生 产 设 备 有 哪 些 ,根 据 设 备 和 产 品 接 触 的 情 况 ,可以分
求各制药公司为不一样的工艺设备,不同的工艺流程和不同 成 :A.直 接 接 触 多 个 情 况 的 设 备 ;B.不直接接触产品的设
的制药机械制定具体的内部清洗程序,在上级部门审核完成 备 ;C.仅 与 1个产品直接接触的设备,即专用设备;从而确
后及时严格按照规程执行。在规程中通常会详细列出不同的 定清洁验证项目。通过验证,确认在位清洗、灭菌制药机械
清洁剂、设备及方法进行操作。同时还有清洁物品的调配方 (设备)清洗、灭 前 后 符 合 《药 品 生 产 质 量 管 理 规 范 (2010
式 、名称,使用前还需要对设备进行检查。每次清洁用了哪 年 修 订 ),满足药品生产工艺要求,达到规定清洗、灭菌效
些不一样的清洁剂和清洁方法,如有需要,还可以设置设备 果 。最 后 ,在形成清洁验证及日常监测报告之后,就可以正
生产结束至清洁前所允许的最长时间间隔时限等等。 式实际应用,再对整个过程监控、重复进行验证等。
2. 制 药 设 备 的 清 洁验 证分 析 3.总 有 机 碳 分 析 在制药设备清洁验证中的 应用
(1)验 证 前 提 。制药设备的清洁验证,是为了证明按批 有 机 碳 (T0 C ) 分 析 是 适 用 于 清 洁 验 证 的 分 析 方 法 之
准的清洗规程清洗后,制 药 机 械 (设 备 )的清洗部位的残留 一 。试验采用的 HTY- DI 1000型 T0 C分 析 仪 ,以生产中最常用
物 、微生物符合限度标准。按批准的灭菌规程灭菌后符合灭 的DMEM干粉培养基代替生产过程的残留物。在其他国家,对
菌要求。当出现以下情况时应进行验证:新产品投产;临床 制药设备进行清洁验证时,一般采用比较常见的三种方法,
试制样品生产;生产频率极低的药品;发 生 变 更 时 (如清洗 包括总有机碳(T0C) 法 、高效液相色谱法、紫外一 可见分
当代化工研究
2018 •0 8 工艺与设备 Chenmical Intermediate 丄 ,J

烧械蒸发工艺现状与节能改造的延议思考

* 程强张军
(新 汶 矿 业 集 团 有 限 责 任 公 司 泰 山 盐 化 工 分 公 司 山 东 271024)

摘 要 :最近几年,政府和社会越来越重视节能环保,政府部门陆陆续续出台了各种节能环保的政策与方案,企业也开始转为节能环保型
发展。社会结构发生了变化,很多企业开始借助科学信息技术发展工业,提高企业经济效益,实现企业可持续发展。本文就对我国烧碱蒸
发的可持续发展进行分析探讨,从烧碱蒸发工艺的发展现状出发,提出烧碱蒸发工艺节能改造的几点建议•
关 键 词 :烧碱蒸发;工艺;节能改造;建议
中图分类吾 :T 文 献 标 识 码 :A

Current Situation of Caustic Soda Evaporation Process and Suggestions on Energy


Saving Renovation
Cheng Qiang,Zhang Jun
(Taishan Salt Chemical Branch of Xinwen Mining Group CO ., LTD., Shandong,271024)
Abstract: In recentyears, the governm ent and society have p a id m ore and m ore attention to energy conservation and environm entalpro te ction .
G overnm ent departm ents have issued various energy conservation and environm entalp ro te ctio n p o licie s and plan s one a fte r another, and enterprises
have also begun to tu rn to energy conservation and environm entalp ro te ctio n developm ent. Changes have taken place in the so cia l structure, and many
enterprises have begun to develop th e ir industries w ith the help o fscience and inform ation technology to im prove th e ir econom ic benefits and realize
th e ir sustainable developm ent. This paper analyzes and discusses the sustainable developm ent o f caustic soda evaporation in o u r country, and based
on the developm ent status o f caustic soda evaporation process, puts fo rw a rd some suggestions on energy saving reform o f caustic soda evaporation
process.
Key wordsz caustic soda evaporation ;process;energy saving renovation-, suggestion

随 着 经 济 的 发 展 与 社 会 的进 步 ,我国烧碱蒸发工艺技 在生产中只追求经济利益,对环境造成严重的污染,以下就
术得到飞速发展,尤其是烧碱蒸发的离子膜法,在工厂中应 对我国烧碱蒸发工艺的发展现状进行详细的阐述。
用普遍,离子膜法烧碱蒸发工艺的生产耗能和其他工艺相比 1.我国烧碱蒸发 工 艺 的 现 状
低 ,符合我国推行的节能环保理念。但 是 ,依然有很多企业 a ) 隔膜烧碱蒸发工艺。隔膜烧碱蒸发工艺是我国企业
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光光度法,这几种方法一般都可以保证设备中没有药品产生 4811测出的1'0(:
响应值之间的1^0为2.49%,由此可知,该方法
残 留 。其 中 ,T0 C检测法区别于其他检测方法,虽然不是特 的线性、精密度、准确度、材料稳定性等均符合规定,方法
定的检测方法,但是可以检测出制药设备中残留下来的各种 简便、快 捷 ,适用于制药设备的清洁验证。
物 质 ,包括原药剂、化学制剂、微生物等等,而且判定的精 4.结束语
度比较高。此 外 ,与上述的检测方法比较,这种检测方法的 总之,已经通过验证的制药企业工艺设备,假如产品的
优点有很多,首先 , 检测需要的时间不长 , 一 般只要4至6分 处方被更改或者改变了清洁的流程,或者有的新的产品通过
钟 ;第 二 ,检测的范围比较广泛,且该检测方法相对于其他 验 证 ,专业制药人员需要评估变化情况及对通过验证的各个
机 器 ,不需要一直进行校准,一般说来,校准周期为一年。 指标进行重新评估,在清洁中清洁剂被更换的时候,二次验
T0C检测法的原理是样品经过进样口到仪器里面,并经 证是肯定要做的。
过分流器分成两个相等部分。当中一个经过延迟线圈并进入 【参 考 文 献 】
二 氧 化 碳 传 感 器 对 总 无 机 碳 (TIC ) 质量浓度进行检测;另 [1] 杨武胜 , 马春香•浅析制药设备清洁验证[J].黑龙江科技信
一个穿过镀覆的重铬酸盐。将螺旋式石英玻璃管及紫外线照 息,2012 (06): 3.
[2] 程艳.制药企业工艺设备的清洁规程及清洁验证 [J] •中国
射下的水中的有机物催化变成二氧化碳,进入电导率传感器
药业,2006 (09): 19-20.
检测总碳( TC) 质量浓度,总有机碳可通过下式计算:T0C= [3] 陶雪筠,李伟举,谷雪蔷.总有机碳T0C 分析在制药设备清洁
TC-TIC,最后一个废液蠕动泵从排水管流出。 验证中的应用 [J].药物分析杂志, 2013, 33 (03): 478-485.
总 方 法 采 用 了 擦 拭 法 ,并 用 T0 C分 析 仪 检 测 该 法 清 洁 [4] 廖锐仑.浅谈总有机破 (T0C)分析法在制药设备清洁验证中
验证的样品的结果。结果采用 T0 C法分析检测 DMEM培养基溶 的应用价值 [J]. 当代医药论丛,2015,13 (10): 16-18.
液 ,得 到 良 好 的 线 性 ,r >0. 9 9 , 回收率为98%-106%, RSD 【作 者 简 介 】
为2. 07%-3. 8 8 % 。检测限和定量限的 T0 C响应值分别为56和
陈 海 雪 (1 9 8 5 - ) , 女 ,海南海灵化学制药有限公司;研究方
向:药厂GMP 的验证,如设备验证、工艺验证及清洁验证等。
1688凡〇擦拭样品回收率为86.40%,样品放置1、4 、8 、30、