INSTITUTO TECNOLOGICO DE

VILLAHERMOSA

Materia: Métodos Eléctricos

Alumno: Carlos Armando de la Torre López
Docente: Ing. Eli Manuel Austria Hernández
Carrera: Ing. Petrolera
Aula: H_4 Horario: 1:00-2:00 pm
 Introducción

Curvas de Orellana y Mooney. ... la curvas de Orellana y Mooney permiten realizar

una comparación de la curva obtenida en terreno versus la curva patrón, cuando se
realiza un estudio de sondeo vertical o medición de resistividad volumétrica.

El cálculo de la resistividad de un campo de hasta cuatro capas a través de un

conjunto de mediciones de resistividad aparente, de acuerdo con el método del
patrón de curva, se demuestra el ajuste de error minimizando la función de error
medio porcentaje cuadrático. Al comparar los resultados entre el campo y la curva
teórica, se demostró que la función de error más el porcentaje de las curvas
cuadradas del patrón se ajustan al conjunto de curvas Orellana y Mooney
Interpretación de curvas de Orellana y Mooney

Esta investigación propone que al calcular la resistividad de un terreno de hasta

cuatro capas, de acuerdo al método Curva Patrón, se demuestra minimizar el error
de ajuste por medio de la función de error medio cuadrático porcentual. Mediante la
comparación de los resultados entre la curva de campo y teórica, se demostró que
la función error medio cuadrático porcentual, algoritmos propios diseñados, más las
curvas de patrón, se ajustan al set de curvas de patrón de Orellana & Mooney,

La resistividad del terreno es de importancia decisiva en el diseño de un Sistema

Puesta a Tierra (SPAT) y la única forma de conocerla con exactitud es mediante
medidas directas de campo.

Figura 1:Terreno formado por 4 estratos

Figura 2: Resistencia Puesta a Tierra.

La metodología actual, que es muy utilizada en CHILE, de interpretación mediante

curvas patrón presenta algunos inconvenientes que implica la observación gráfica
para seleccionar correctamente la curva apropiada. Veamos por medio del siguiente
Diagrama de Causa/ Efecto (Ishikawa) la definición del problema:

Diagrama de Causa/ Efecto (Ishikawa)

En la figura 3 se distinguen las piezas principales que permiten resolver y contar
con un proceso adecuado de interpretación mediante curva de patrón.
Se identifica la toma de datos del Terreno, como información a ser consumida o
transformada por el proceso. Para controlar o regular el proceso, se incorporan tres
componentes importantes de control, el primero las tablas de datos que conforman
las curvas de patrón, en segundo lugar la clasificación de las curvas y en tercer
lugar, el ajuste de curvas. Estos controles permiten que la salida de información del
proceso tenga un alto resultado de éxito. La salida se considera como información
producida por el proceso, entregando como resultado el calce de las curvas de
campo o terreno con las curvas patrón. Como mecanismo de llevar a cabo todo el
proceso, es necesario contar con un computador y sus software apropiados.

Figura 3: esquema resumido

En la figura 4, se obtiene el resultado final en la recolección de datos y procesados

en los software investigados IPI2WIN, WINSEV y el método manual de Curva patrón
de Orellana & Mooney.

Figura 4: Curva campo y teórica ajustada

En la figura 5, se observa el resultado del sistema desarrollado. Se tiene que la
curva que más se ajusta por superposición visual y por ajuste por medio de la
ecuación de error medio cuadrático porcentual es la curva K-14/10. La curva de
campo se identifica con color rojo y la curva teórica con menor ajuste con color
amarillo.

Figura 5: Curva Campo y Patrón K-14/10.

Los resultados experimentales se presentan en la siguiente Tabla.

Tabla 1. Resultados experimentales

Interpretación de datos a través de curva patrón.

 La metodología actual de interpretación mediante curvas patrón presenta
algunos inconvenientes que implica la observación gráfica para seleccionar
correctamente la curva apropiada.

Esta operación de selección podría en algún caso ser errónea, y por consiguiente
el cálculo de la resistividad del terreno puede incidir en un mal diseño físico del
sistema puesta a tierra. En segundo lugar se requiere de una colección amplia de
curvas patrón y resolver cómo calzar los datos obtenidos en terreno frente a los
datos almacenados en las tablas de Orellana y Mooney [1] (esto podría
incurrir en errores de manipulación de los datos).

En la figura 2 se distinguen las piezas principales que permiten resolver y contar

con un proceso adecuado de interpretación mediante curva de patrón. Se identifica
la toma de datos del Terreno, como información a ser consumida o
transformada por el proceso denominado Interpretación mediante curva de
Patrón.

Para controlar o regular el proceso, se incorporan tres componentes importantes

de control, el primero las tablas de datos que conforman las curvas de patrón, en
segundo lugar la clasificación de las curvas y en tercer lugar, el ajuste de curvas.

Estos controles permiten que la salida de información del proceso tenga un alto
resultado de éxito. La salida se considera como información producida por el
proceso, entregando como resultado el calce de las curvas de campo o terreno con
las curvas patrón. Como mecanismo de llevar a cabo todo el proceso, es necesario
contar con un computador y sus software apropiados.

SI: semi espacio infinito.

Se observa de la Tabla 1 que el resultado de p1 y e1 respectivamente del

software Ipi2Win, que el método Curva Patrón y sistema desarrollado, no hay
diferencias mayormente, presentando un tipo de suelo o estructura con resistividad
aparente similar.

Este resultado se infiere que el sistema desarrollado es satisfactorio debido a que

visualmente la curva de campo con la curva patrón coinciden y el valor de error de
ajuste es inferior al 2% demostrado por la ecuación (1,1). Para llegar a un 0,152%
se debe interpolar con mayor precisión la curva de campo.
Ecuación (1,1)

Los métodos de interpretación investigados corresponden a resultados diferentes

respecto a la resistividad aparente y espesores, debido a que cada uno utiliza
técnicas de métodos cuantitativos de interpretación diferentes (ver tabla 1). En la
experimentación del sistema desarrollado también se presentan variaciones de
información con respecto al espesor y resistividad.

Según los datos obtenidos en esta investigación, los cálculos de resistividad

aparente se basan de acuerdo a la metodología Schulumberger y de Orellana &
Mooney determinando la resistividad aparente medida y graficando la curva de
campo. De la observación del gráfico resultante, es posible identificar a que tipo de
posibles estratos corresponde y ayuda al sistema desarrollado en minimizar la
búsqueda de las curvas patrón.

Cuanto mayor sea el resultado del error medio cuadrático porcentual, mayor es la
diferencia entre los puntos de la curva teórica y de campo, peor es el ajuste de la
curva teórica. Según el método propuesto por Zohdy [4] al encontrar un mínimo
determinado menor que 2% respecto a la curva de resistividad aparente o de
campo es una curva teórica candidata.

Valida la primera coordenada de la curva de campo (x,y), denominada resistividad

auxiliar[1]. El sistema obtiene las coordenadas de las curvas de patrón y
multiplica su resistividad aparente por la resistividad auxiliar, que permite obtener
valores exactos con agrupamientos diferentes y hacen posible que cierta parte
de la curva tenga un calce de ajuste con la curva de campo y se almacena el
resultado de error de ajuste en la base de datos. Dentro del algoritmo se
pregunta si hay más curvas patrón para procesar.

Si existen entonces el valor de resistividad auxiliar es incrementado o disminuido

en 1 con el fin de contar con valores más exactos entre las curvas. Existe un
controlador que permite validar si el nuevo cálculo es superior al cálculo
almacenado en la base de datos.

Este proceso finaliza hasta que todas las curvas patrón del mismo tipo de capas
estén procesadas. Se lee los cinco resultados de los RMS registrados con
menor error medio cuadrático porcentual, graficando junto a la curva de campo y
patrón por medio de la superposición.
 Conclusión

La curva de Orellana y Mooney permiten realizar una comparación de la curva

obtenida en terreno versus la curva patrón, cuando se realiza un estudio de sondeo
vertical o medición de resistividad volumétrica. la medición de resistividad
volumétrica, es parte del proceso de estudio para diseñar malla a tierra de
instalaciones eléctricas, se trata de identificar una curva patrón que determine
factores que traduzcan las condiciones de la tierra donde se espera implementar
una malla a tierra, determinando la calidad del terreno para luego diseñar una malla
a tierra adecuada.