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de baja dimensionalidad y
nanoestructuras
-Nanociencia y Nanotecnología
de Materiales
-Fotoemisión resuelta en ángulo
-Estructura electrónica de
nanoestructuras en superficies
- Metales unidimensionales
Nanociencia y Nanotecnología
de Materiales
Resumen
• EE.UU.
Inversión en NANOTECNOLOGÍA
– Inversiones a largo plazo
(10-15 años)
– Necesaria inversión Estatal V-PM
M illones de $
400
nanotecnología, un 43% se 300 2001
2000
dedicarán a estudios 200 1999
100 1998
fundamentales. 1997
0
• “Situación de Pre- U. pó
n U E ís e s
E E .U Ja pa
revolución industrial” Ot
r o s
• EE.UU. Reconoce no
poseer superioridad
Tecnológica.
• Europa
V i di
In late 1959 at the California Institute of
Technology, he [Richard Feynman] presented what has become
one of 20th century science’s classic lectures. Titled “There
is Plenty of Room at the Bottom,”
[...]
He was talking about nanotechnology before
the word existed. Feynman regaled his audience with a
technological vision of extreme miniaturization in 1959, several
years before the word “chip” became part of the lexicon.
[...]
“Up to now,” he added, “we have been content to
dig in the ground to find minerals. We heat them and we do
things on a large scale with them, and we hope to get a pure
substance with just so much impurity, and so on. But we must
always accept some atomic arrangement that nature gives us...I
can hardly doubt that when we have some control of the
arrangement of things on a small scale we will get an
enormously greater range of possible properties that
substances can have, and of different things that we can do.”
Repeatedly, during this famous lecture, Feynman
reminded his audience that he wasn’t joking. “I am not
inventing anti-gravity, which is possible someday only if the
laws are not what we think,” he said. “I am telling you what
could be done if the laws are what we think; we are not
doing it simply because we haven’t yet gotten around to it.”
Nanotecnología: el límite atómico
9Almacenamiento
Magnético: GMR
y válvulas de espín
9 Nanopartículas 9 Materiales
Cuando las partículas de un material alcanzan el
tamaño de nm, sus propiedades mecánicas,
compuestos a escala
electromagnéticas y químicas pueden cambiar nanométrica
notablemente (nanocomposites)
9 Recubrimientos con
nanopartículas
Los nanorrecubrimientos tienen
aplicaciones en aislamientos,
reducción de fricción, mejora de
resistencia, etc.
Polímero reforzado a
escala nanométrica
9 Catalizadores nanoestructurados
9 Nanopartículas
magnéticas
Con aplicaciones en
sensores, actuadores,
dispositivos fluídicos y
aplicaciones biomédicas
Nanotecnología: el estado del arte
en procesado y fabricación en 2003
Microelectrónica:
La tecnología CMOS de IBM: 90 nm en obleas de 300 mm 80 nm
Características:
• Películas delgadas de Si (sobre un aislante) en vez de
una oblea volúmica.
• Conexiones de Cu (baja disipación de potencia).
• Aislamientos de bajo k con Si nanoporoso (bajo
acoplamiento capacitivo).
• Litografía interferométrica en el ultravioleta lejano
(157 nm2 láser de excímero)
La tecnología CMOS alcanza el límite cuántico a 40-50 nm. Por ejemplo, en un MOSFET, el canal debe ser más largo
que 25 nm y más grueso que 1.5 nm. Pero aún queda un amplio margen para mejorar el diseño de circuitos y la
arquitectura de los ordenadores, y no cabe esperar que se reemplace la tecnología CMOS en los próximos 15-20 años.
Almacenamiento de datos:
La tecnología AFC de IBM: 17 Gbit/pulgada2
• El acoplamiento AF reduce la inversión de espín (spin flip).
• Una capa espaciadora de Ru de tres átomos de espesor permite un
acoplamiento máximo.
• Cabe esperar que en los 10 próximos años se alcancen los 100
Gbit/pulgada2 aumentando el grosor de la capa magnética.
Nanotecnología: primer circuito molecular
2006 IBM
Expertos de IBM consiguen crear el primer circuito
integrado que utiliza un solo nanotubo de carbono
en lo que sería en primer circuito molecular. Esta
tecnología podría permitir sustituir la tecnología
actual de semiconductores cuando alcance su límite
tecnológico a mediados de la próxima década.
Quizás lo más interesante resida en que para crear
este chip se ha utilizado procesos el proceso de
fabricación estándar para chips de silicio al que se
ha añadido el nanotubo de carbono en lugar de
montar todos los componentes a la vez con una
nueva técnica. Esto puede simplificar la construcción
de este tipo de circuitos comprobar sus
potencialidades técnicas y abaratar costos si
finalmente se encuentran aplicaciones.
Durante 50 años la industria de semiconductores ha
descansado sobre la habilidad para integrar más y
más componentes en un solo chip de silicio, pero
debido a las leyes de la Física llegará un momento
en el que no se puedan empaquetar más
transistores, y el número de éstos no pueda
doblarse cada año y medio como lo hace hoy en día.
Por eso desde hace un tiempo se investiga en
nuevas y diversas técnicas nanotecnológicas que
reemplacen la actual industria.
Nanotecnología: el estado del arte
en procesado y fabricación en 2006
Litografía de haz de
Línea de 90 nm de electrones (SEM).
anchura trazada Izda: puntos de 20
con rayos X en una nm sobre una resina
resina de polimetil de calixareno. Dcha:
metacrilato líneas de 5 nm sobre
(PMMA). una resina inorgánica
(AlF dopado con
LiF3).
El autoensamblado se produce para minimizar la energía, pero puede estar limitado por la cinética del
sistema. Es preciso seleccionar cuidadosamente los elementos y las condiciones externas
(temperatura, concentración, etc). Usando soportes que ya presenten una estructura (moldes) pueden
producirse distribuciones de átomos, moléculas, puntos o hilos a voluntad. El objetivo es guiar la
naturaleza en la dirección correcta.
Autoensamblado en superficies sólidas
Las superficies sólidas son moldes excelentes para crecer sistemas autoensamblados,
porque puede accederse a ellas de inmediato con dispositivos de lectura/escritura.
Distinguimos dos casos:
Una ventaja adicional de las superficies es que pueden sondearse mediante numerosas
técnicas sensibles a las mismas, que proporcionan una gran cantidad de información sobre
la geometría atómica, niveles electrónicos y funciones de onda de las nanoestructuras.
108 nm
Cinética: mezcla sustrato-película, difusión superficial, barreras de difusión en los escalones
(difusión entre capas) ⇒ cambio el ritmo de crecimiento, temperatura del sustrato, “surfactantes”.
sin surfactante con surfactante
(a) 25 capas atómicas (ML) de Ag sobre Ag(111) (vista
superior, STM). Las elevadas barreras de difusión en los
escalones generan una superficie rugosa, con muchas capas
expuestas. (b) 2 ML Ag/0.1 ML Sb/Ag(111). Sb actúa como
un “surfactante”, suprimiendo la barrera de difusión de los
escalones, y permitiendo el crecimiento de una película
plana (sólo dos capas expuestas). Phys. Rev. Lett. 72, 3843
(1994)
1 µm 570 nm
Crecimiento de nanoestructuras verticales:
películas delgadas y multicapas
La rugosidad de la película está determinada por los QWS
que se observan en fotoemisión
Función envolvente Banda de valencia
Cu/Co(100)
⇒ Ajuste 1:1 de las redes,
crecimiento capa a capa a
300 K. película de 20 ML
Cu(100) volumen
-2 -1 EF
Energía (eV)
Oscilación Bloch
Al/Si(111) Ag/Fe(100)
⇒ ajuste 3:4. 20 ML Al/Si(111) ⇒ ajuste √2:1.
Mezcla en la Crecimiento SK a
interfase a 300 K. 300K. Capa a capa
Capa a capa a 100 K sobre hilos y
con interfase facilitando
abrupta y nucleación a 100 K.
nucleación 6 5 4 3 2
Energía (eV)
1 EF -1 Science 292, 1131
facilitada. (1999)
Autoensamblado: puntos, hilos, tiras y matrices
Se forman espontáneamente durante el crecimiento por debajo de la monocapa. Fomentado por el encaje de las
redes (tensión) y las propiedades anisótropicas y/o inhomogéneas de las superficies (difusión, afinidad química,
potencial electrónico).
reconstruida
no reconstruida
escalón
terraza
unidad de la reconstrucción
Puntos: Nuclean en sustratos inhomogéneos o sin encaje de red. Su forma depende de la energía y cinética.
Hilos, tiras: Crecen en sistemas uniaxialmente anisotrópicos (por desajuste de red, afinidad y/o difusión).
Matrices: se forman en sustratos con un patrón o debido a interacciones elásticas fuertes de largo alcance.
σ σ σ σ
equilibrio resultante para densidades
bajas: matriz de puntos.
Puntos, hilos
Los siluros de tierras raras presentan redes
hexagonales y crecen sobre Si(100) con los
ejes c y a a lo largo de direcciones ortogonales.
El eje c siempre tiene desajuste con el de Si,
mientras que el eje a varía mucho entre los
distintos siluros, lo que determina la
morfología del crecimiento. Izquierda, para
grandes desajustes de red en ambas direcciones
crecen puntos cuadrados de NdSi2. Derecha,
para desajustes muy anisotrópicos se forman
100 nm 700 nm hilos como en DySi2.
12 nm 100 nm 250 nm 2 µm
Los átomos de Ag se Los puntos de Co nuclean En los escalones de la Los escalones favorecen la
adhieren preferentemente en posiciones de baja superficie de Si(111) se difusión anisotrópica de Si e
a los escalones de Pt(111), coordinación de la nuclean y crecen islas de introducen una tensión
formando largas hileras superficie reconstruida de CoSi. La forma uniaxial extra. En Si(111)
atómicas. Au(111). redondeada y el pequeño escalonado, el CoSi2 crece
tamaño revelan un formando hilos, en las
desajuste de red muy superficies planas forma
grande anisotrópico. islas (recuadro).
Superficies vecinales y crecimiento por flujo de escalones:
crecimiento de tiras
Au(788) Au(322)
Las superficies vecinales con distribuciones (111) α = 3.5º
(788) α = 11.4º
regulares de escalones son moldes naturales d = 38.4 Å d = 12.8 Å
para crecer nanoestructuras unidimensionales.
Idealmente, los adátomos se enlazan a los α
escalones de la superficie de modo que los hilos
y las tiras crecen fila a fila. En la realidad existe
d
una competencia entre energía y cinética, de
150 nm 20 nm
modo que se observan crecimientos unidimen-
sionales tipo SK, tipo islas y fila a fila.
L
D
κ κθ
D (θ ) = ; L (θ ) =
sin( πθ ) sin( πθ ) 300 nm
donde
1+
C1 Si(111) vecinal mostrando separación de
θ = L / D ; κ = 2π a × e C2
,y fases entre terrazas planas (111) y
facetas (311). Ambas fases interacciones
1 −ν 2 2
C1 ≡ energía de frontera ; C 2 = F (tensión) ; a ≡ longitud de corte elásticamente y generan un faceteado
πE periódico.
Patrones
Patronesde
detiras
tirasproducidos
producidospor
porfaceteado
faceteado
Au(11 9 9) [111]
[9 9 11]
w1 = 36 Å
w2 = 14 Å
[112]
[110] [112]
D = 65 Å
w2
D w1=L1
L2
Ag/Cu(223) (223)
(112) (111)
300
Frequency
0,3
0,0
0 1 2
S/<S>
165 nm 150 nm
Nanomáscaras Las superficies escalonadas son muy adecuadas como molde
Nanomáscaras para obtener hilos unidimensionales. Actúan como máscaras en
procesos simples de evaporación.
390 nm 100 nm 60 nm
40 nm 200 nm 200 nm
Tira de Cu Tira de Ag La evaporación de Ag
induce el faceteado de
Cu(111) escalonado. Puede
evaporarse Co encima,
Tira de Co
llenando las tiras de Cu.
Tira de Ag
Como Ag y Co son
inmiscibles, puede repetirse
el ciclo hasta obtener titas
Co/Ag de varias capas de
Cu(775) +Ag +Co espesor.
Las moléculas orgánicas pueden modificarse para que
Autoensamblado
Autoensambladomolecular
molecular presenten propiedades específicas que favorezcan su auto-
ensamblado en distintas geometrías y con distintas
propiedades electrónicas.
cis-BCTBPP trans-BCTBPP Lander unida a escalones
⇒ punto ⇒ hilo ⇒ Conductor eléctrico
Zona poliaromática
(hilo conductor)
patas DTP
de apoyo,
aislantes
8 nm
180 nm
20 nm 100 nm
Cadenas
Cadenasatómicas
atómicas
Las superficies de Si tienen tendencia a
reconstruirse formando dímeros atómicos, lo que
induce una gran anisotropía uniaxial en la
adsorción. En Si(111), Li, K, Na, In, Bi, Au, and
Ag forman cadenas atómicas unidas a Si. Estos
sistemas son adecuados para estudiar propiedades
del gas de electrones 1D como la transición de
Peierls y la separación espín-carga en un líquido de
Luttinger. Derecha, cadenas (3x1) de Ag en
terrazas de Si(111). Izquierda, modelo atómico de
la reconstrucción (3x1). Se forman dímeros de Si a
ambos lados de la línea punteada.
7.7 nm
Matrices
Matricesde
depuntos
puntos
4a0 0,3
50 0,2
z [nm]
0,1
40 0,0
0 2 4 6
5a0 x [nm]
counts
30
200 nm 80 nm 6a0
20 7a0
10
0
1 2 3 4 5 6 7
separation [nm]
En las superficies escalonadas, las cadenas atómicas se ven forzadas a formar monodominios, que pueden usarse como moldes para crecer
puntos cuánticos. Izquierda, cadenas de Ag (3x1) monodominio en Si(111) vecinal. Centro, puntos cuánticos crecidos sobre las zonas
(3x1). Derecha: distribución lineal de puntos y perfil.
Bits
Bitsde
deun
unsolo
soloátomo
átomo Adátomos de Si en Au(5x2)/Si(111)
Memoria atómica CD
Las estructuras de doble cadena en Au 5x2 se
comportan como líneas de escritura para bits
atómicos de Si. Izquierda: escribiendo líneas
para bits atómicos de Si. El autoensamblado
de las hileras en Si(111) produce posiciones
de adátomo semiocupadas. Derecha:
comparación con la superficie de un CD. ¡La
memoria atómica puede almacenar 250
Tbit/pulgada2!
(a) Antes de manipular la molécula Lander 1 desde un borde de escalón (136x112 Α2, V=−1768 mV,
Ι=−0.37 nΑ, Τ=95Κ)
(b) Después de la manipulación a lo largo de la dirección [1-10] del Cu (110).
(c) Modelo de la molécula Lander en la nanoestructura. El puerto conductor es paralelo
(d) Vista la sección de la molécula sobre una nanoestructura.
(e) Vista la sección de la molécula sobre unaterraza plana
Imágenes STM a altos
recubrimientos
Experimento de difracción de
fotoelectrones resuelta en ángulo:
Pilar Segovia
Curso 2005-2006
•ARUPS: Angle Resolved Photoemision
•Single-electron picture
-angle-resolved photoemission
• energy and momentum conservation
-Intensity effects
• Symmetry
• Resonant Enhancement
• Dimensionality
-Surface states
-Quantum-confined states
detección del
momento y la energía
de los electrones
fotoemitidos
θyφ
resolución angular
Requisitos experimentales
muestra cristalina
luz monocromática (ordenada)
detector de electrones
pequeña apertura angular
portamuestras con
varios grados de
libertad
k=k+G
Espacio recíproco
conjunto de vectores k
cuyas ondas planas
asociadas tienen la
periodicidad del
espacio real
Bandas de volumen
Los niveles discretos de los átomos se trasforman en
“bandas” en el sólido.
Todo el cristal
z
qi , BZ superficie
k||
Bandas de volumen vs Bandas de superficie
Volumen Superficie
Barrido en energía de fotón Barrido en ángulo de emisión
con k||=0 (normal emission) para energía de fotón fija
2m 2m(hν − Eb )
k⊥ = 2 ( hν
− Eb + V0 ) k ||= 2
⋅ sinθ
h h
Visualización bandas: ejemplo
datos experimentales
Photoemission Intensity
14 16 18
Kinetic Energy (eV)
•Una superficie
para un
material 3D
•Una línea para
un material 2D
•Un punto para
un material 1D
Las Superficies de Fermi de los metales
La superficie de Fermi de un gas de electrones
libres es una esfera. Los metales simples no se
alejan mucho de esta situación.
Na Cu
W Fe Fe
Midiendo la FS mediante Fotoemisión
El caso de Cu(100)
In/Si(111): un sistema 1D
Ondas de densidad de carga (CDW) y FS
En 1D el encaje (nesting)
es perfecto y se abre una
zona prohibida (gap) en
el borde de zona
En 2D y 3D, el encaje es
siempre imperfecto.
Dependiendo de su
importancia puede
estabilizarse o no una
CDW.
Acoplamiento e-ph y CDW
La SDW en Cr(110)
La FS proporciona la
condición de encaje
La estructura de bandas
muestra la apertura de
una zona prohibida
Conclusiones
• La fotoemisión es la técnica ideal para la
determinación de la estructura de bandas de un
sólido, ya que es la única que permite obtener
todos los números cuánticos del electrón.