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Asignacin # 3:
Integrantes:
Grupo: 1IE-331
Fecha de entrega:20/02/17
QU ES EL MTODO DE CRECIMIENTO EPITAXIAL?
A partir de una cara de un cristal de material semiconductor, o sustrato, se hace crecer una
capa uniforme y de poco espesor con la misma estructura cristalina que este. Mediante esta
tcnica se puede controlar de forma muy precisa el nivel de impurezas en el semiconductor,
que son los que definen su carcter (N o P). Para hacer esto se calienta el semiconductor hasta
casi su punto de fusin y se pone en contacto con el material de base para que, al enfriarse,
recristalice con la estructura adecuada.
El crecimiento epitaxial puede dividirse en dos categoras muy amplias:
- Homoepitaxia: La capa que se crece es qumicamente similar al substrato, es la
epitaxia ms simple e involucra la extensin de la red del substrato en una res de
material idntico.
- Heteroepitaxia: La capa que se crece difiere en trminos qumicos, estructuta
cristalina, simetra o parmetros de red con respecto al substrato.