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CARACTERISTICAS DE LAS EMULSIONES

La resistencia a la tinta y a los otros productos qumicos utilizados en el proceso


* La resistencia mecnica
* La definicin del perfil
* El puenteo de la malla
* La resolucin

Cada una de estas propiedades, sin embargo, puede ser afectada por medio de la tcnica de
aplicacin. El logro de la calidad mxima depende del mtodo de aplicacin y del equipo
utilizado para la exposicin y el revelado.

SISTEMAS DE ESTENCIL ANTIGUOS


Pelculas de estncil cortadas a mano
Directo/Indirecto (la emulsin + la pelcula no sensibilizada)
Emulsin de bicromato sensibilizada
Pelculas basadas en gelatinas indirectas
Pelculas capilares Diazo
Pelculas sintticas indirectas

SISTEMAS DE ESTENCIL MODERNOS


Emulsiones Diazo fotopolmero
Emulsiones de SBQ fotopolmero
Pelculas capilares Diazo fotopolmero
Derivados de los sistemas SBQ

Los sistemas modernos poseen ventajas sobre los sistemas de estncil antiguos. Tienen
generalmente mejores cualidades de copia y requieren menos recubrimientos en la pantalla.
Los sistemas de Diazo fotopolmero poseen resistencias de estncil antiguos, tanto para tintas
base agua como solventes y u.v.

SISTEMAS DIAZO
Las emulsiones Diazoicas se desarrollaron a partir de 1950, y an se utilizan, Son de calidad
media a baja en relacin con la resistencia qumica y mecnica, y con las cualidades de
copiado. Hoy se utilizan principalmente en las aplicaciones que no son crticas acerca de la
calidad de la pantalla.

SBQ FOTOPOLIMERO Y SUS DERIVADOS

Los sistemas sensibilizados de SBQ y sus derivados son emulsiones pre sensibilizadas de
exposicin extremadamente rpida. Comparados con las emulsiones Diazo, el tiempo de
exposicin es aproximadamente 15 veces ms veloz. Esta es una gran ventaja para los
impresores de grandes formatos que necesitan una distancia excesiva entre la lmpara de
exposicin y el marco de vaco. Tambin son apropiados para acelerar el proceso de
exposicin al utilizar fuentes de luz ms dbiles. El principal campo de aplicacin es la
impresin de camisetas y prendas, en donde tienen que realizarse muchos centenares de
marcos cada da y se necesitan tiempos de exposicin ms rpidos.
Sin embargo, los tiempos rpidos de exposicin tambin disminuyen la tolerancia de la
exposicin (latitud) para la exposicin apropiada de la emulsin. El tiempo de exposicin tiene
que determinarse con exactitud. La sobre exposicin, o la sub exposicin, de unos pocos
segundos cambiar dramticamente la calidad de la pantalla. Las cualidades de copiado de los
sistemas Diazo de alta calidad, pero no alcanzan la misma calidad que puede lograrse con los
sistemas de Diazo fotopolmero (tambin conocidos como sistemas de curado dual). La
resistencia qumica de los SBQ es buena, pero no es notable, debido a la manera en que se
aplica el sistema.

SISTEMAS DE DIAZO FOTOPOLIMERO


Los sistemas de Diazo fotopolmero, tambin conocidos como sistemas de curado dual son
una combinacin de resinas Diazo sensibilizadoras y endurecedoras UV. La gran ventaja sobre
todos los otros sistemas son las destacadas cualidades de copia y la resistencia qumica que
pueden lograrse con esta qumica. Es aproximadamente de 5 a 8 veces ms rpida en la
exposicin que las emulsiones Diazoicas estndar y, tpicamente posee un contenido mayor
de slidos. Las emulsiones con mayor contenido de slidos requieren menos cantidad de
recubrimientos para lograr un cierto espesor de la emulsin. Otra ventaja es una muy amplia
latitud de exposicin. Las pantallas pueden exponerse correctamente y no hay un
requerimiento para acortar el tiempo de exposicin para el trabajo del detalle fino. Los sistemas
de Diazo fotopolmero son en este momento el sistema con el mejor balance de desempeo y
de calidad.

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