Recubrimientos PVD

-CVD

Contenido
Recubrimientos
Tcnicas de recubrimientos
Termorrociado
PVD
CVD

Implantacin Ionica
Comparacin

Recubrimientos
Mejoran propiedades mecnicas en la superficie de
una pieza
Tenacidad
Fatiga
Conductividad trmica
Resistencia a la corrosin
Dureza

Tcnicas de recubrimiento
Usualmente utilizados para herramientas de
corte, aunque tambin es utilizado e otras
industrias como la aeronutica,
microelectrnica, odontolgica, etc.

Tipos de capas
Capa delgada: Poseen espesores alrededor de 1
micra, se utiliza tcnica de termorrociado, PVD o CVD.
Capas gruesas: Poseen espesores mayores a los 100
micrones se utiliza la tcnica de termorrociado .

Materiales
Carburo de titanio (TiC): Muy duro, buena resistencia
al desgaste y estabilidad qumica, bajo coeficiente de
dilatacin trmica, excelentes propiedades de
adiccin (pueden utilizar varias capas).
Nitruro de Titanio (TiN): Friccin muy baja entre caras,
baja conductividad trmica, alta resistencia a la
corrosin, menores propiedades de adherencia que el
TiC, coloracin dorada.
Oxido de Aluminio (Al2O5):Elevada dureza, estabilidad
qumica, resistencia a la formacin de crteres, alta
fragilidad, dificultad de adherencia del substrato.

Termorrociado
Se conoce como termorrociado al grupo de procesos donde un
material de alimentacin es calentado y propulsado como
partculas individuales o gotas hacia una superficie.
Tipos:
Gases combustin
Arco elctrico
Plasma

Material de alimentacin: compuestos metlicos, cermets xidos,

vidrios y polmeros.
En forma de alambre, barras o polvos.

SOPORTES O SUSTRATOS

Esta tcnica de recubrimiento puede

usarse en casi cualquier tipo de
material: metales, cermicas, vidrios ,
polmeros, materiales compuestos, etc.

El enlace entre el sustrato y el

recubrimiento puede ser mecnico,
qumico, metalrgico o una combinacin
de estos.

Tipos de termorrociado
Proceso de combustin
Rociado por llama
Rociado por hvof
Rociado por detonacin

Procesos elctricos
Proyeccin al arco elctrico
Proteccin de plasma

Rociado por llama:

Puede ser usada con una gran
variedad de materiales de
alimentacin, incluyendo
alambres de metal, barras de
cermica, polvos metlicos y no
metlicos.
El material es continuamente
alimentado

Rociado HVOF (High Velocity

Oxygen Fuel)
Se utiliza una mezcla de oxigeno y
otros gases, acelerada a
velocidades supersnicas y se
alimenta con material en polvo.
Crea recubrimientos densos , con
baja porosidad y alta fuerza de
enlace.

 Rociado por detonacin:

Es un proceso de combustin
continuo con explosiones
intermitentes que funden y
proyectan las partculas hacia la
superficie.

En la cmara hay una mezcla

de oxgeno, acetileno y el material
en polvo del cual se har el
recubrimiento, y las detonaciones
se hacen varias veces por
segundo. El material es depositado
a muy altas velocidades.

Proyeccin con arco elctrico:

Es generalmente el mtodo de
termorrociado ms econmico.

En este proceso se usa una corriente

elctrica para generar la energa trmica
necesaria para fundir los materiales,
utilizando 2 barras de metal como
alimentacin, las cuales actan como
electrodos que son continuamente
consumidos mientras se funden debido al
arco elctrico presente entre ellos.

Proyeccin de plasma

Este proceso utiliza un arco elctrico DC para

generar un flujo de plasma gaseoso ionizado
con muy altas temperaturas que acta como
la fuente de calor para el rociado.

El arco se forma entre dos electrodos no

consumibles, el ctodo de tungsteno y el
nodo de cobre. La antorcha es alimentada
con un flujo continuo de gas inerte el cual es
ionizado por el arco DC y es comprimido y
acelerado por la antorcha de forma tal que
sale a grandes velocidades y altas
temperaturas como un jet de plasma.

Material alimentado en forma de polvo,

pueden ser metales refractarios y cermicas.

PVD
Se caracteriza por la
evaporacin del
material a muy altas
temperaturas,
material ms utilizado
Nitruro de Titanio (TiN)

Tcnica de Sputterin
Los tomos del recubrimiento se
obtienen bombardeando unos
blancos con iones de un gas
inerte a baja energa.
Es posible producir capas de
recubrimientos binarios,
ternarios, etc.
El proceso es lento, pero limpio,
verstil, y mas controlable que el
de evaporacin.

 Los recubrimientos por PVD mas extendidos

son los de Nitruro de Titanio (TiN), en capas
de 1 2 m obtenidas por mtodos de
evaporacin.(500C)
El TiN abarca cerca del 90 % del mercado de
recubrimientos duros, seguido por otros
como el TiC o el Carbonitruro de Titanio
TiCN.
Existen otros recubrimientos comerciales
como es el caso del Nitruro de Cromo (CrN),
el Carburo de Tungsteno (WC) o la alumina
(Al2O3 ).
Otra lnea es la de la lubricacin slida. El
Disulfuro de Molibdeno (MoS2) es ideal para
los problemas de friccin.

IBAD
ION BEAM ASSITED DEPOSITION
Se somete la superficie sobre la que se esta formando el
recubrimiento a un bombardeo simultaneo con iones de una
determinada energa.

Aplicaciones PVD (Torneado)

CVD

Este tipo de tcnicas tienen en comn que utilizan

medios qumicos para obtener recubrimientos a
partir de compuestos en fase de vapor.

Se utilizan cmaras de vaco, se utilizan

temperaturas altas (1.000 C) o medias para
obtener capas finas (10 micras) o gruesas de (100
micras).

Reacciones

qumicas

En esencia, los mtodos de CVD implican siempre reacciones qumicas,

que llamamos de transporte. En ellas, determinados compuestos
voltiles de los elementos que nos interesan son reducidos en la
superficie a recubrir dando lugar a la deposicin de dichos elementos.

Plasma CVD
La presencia de una descarga elctrica (en
forma de plasma) en el interior del reactor
hace que las molculas de los gases pasen a
estados de energa elevada favoreciendo la
velocidad de reaccin.
Fuentes de CA de alta frecuencia.
Se puede realizar con plasma asistido por
radiofrecuencia o por microondas.
En la tcnica de CVD asistida por plasma de
radiofrecuencia ( PACVD) normalmente se
trabaja a presiones bajas ,y la T de
operacin suele ser baja (< 350C).

 El calentamiento local del substrato se lleva a

cabo mediante una bobina de induccin
situada debajo del porta substrato.
La intensidad del campo est calculada para
que los electrones de la descarga giren
alrededor del campo magntico con una
frecuencia igual a la frecuencia de la descarga.
Se alcanza as la condicin de resonancia en la
oscilacin de los electrones ("electrn
cyclotron resonance" o ECR) lo cual aumenta
la eficiencia de la ionizacin y por tanto la
densidad del plasma.

Aplicaciones CVD (Torneado)

Bombardeo Inico

Si la energa es muy baja (10 voltios de

aceleracin) los tomos se depositan en la
superficie.

Si la aceleracin es mayor (500 voltios)

predomina el proceso de pulverizacin de la
superficie (sputtering)

A energas mayores (100000 voltios) se

incrustan alcanzando profundidades de 0.2
micras.

EQUIPOS INDUSTRIALES

Las dos aplicaciones industriales

mas importantes de la implantacin
inica son el dopado de
semiconductores y el tratamiento de
superficies metlicas.

La implantacin de superficies
metlicas, para ser eficaz, requiere
dosis de iones de mil veces
superiores a las utilizadas en
microelectrnica.

SUPERFICIES IMPLANTADAS
La implantacin inica produce
cambios de composicin que son el
origen de aumento de la resistencia
al desgaste, friccin y corrosin.
Los parmetros que caracterizan
cada implantacin son:

Tipo de in

Energa de implantacin

Dosis implantada.

VENTAJAS
Consigue aumentos de vida til de hasta cinco o diez veces segn la aplicacin
No produce cambio alguno de dimensiones

No produce cambio alguno en el acabado superficial

Hay una transicin gradual entre zona tratada y substrato de manera que la parte
tratada no puede desprenderse.

Se aplica a baja temperatura (por debajo de l50 c)

Puede aplicarse sobre otros tratamientos (nitruracin, cromo duro, TiN )

multiplicando sus efectos.

Es extremadamente controlable y, por lo tanto, repetible.

Puede limitarse selectivamente a las partes de las piezas que se desean proteger,
enmascarando fcilmente el resto.

Es muy verstil dado el gran nmero de posibles combinaciones de iones y

parmetros del proceso.

Es medioambientalmente limpia.

Cuadro comparativo de Ventajas

Implantacin
inica

PVD

CVD

PACVD

Temperatura de proceso
muy baja (<150c): No
afecta al temple-revenido

Temperatura de proceso
relativamente baja (200500c): Normalmente no
hay que volver a templarrevenir.

Temperatura del proceso:

450-550c): incluso puede aplicarse en algunos
aceros sin tener que volver
a templar.

No precisa tratamientos
posteriores.

Normalmente no requiere
tratamientos posteriores

Normalmente no requiere
tratamientos posteriores

Acabado superficial totalmente inalterado.

Poca influencia en el
acabado superficial.

Poca influencia en el
acabado superficial.

Forma y dimensiones
totalmente inalteradas.

Poca influencia en la
forma y dimensiones.

Sin posibilidad de desprendimiento, (no es un recubrimiento).

Muy buena adhesin.

Mnimo riesgo de delaminacin

Mejor adhesin que el

PVD y mnimo riesgo
de laminacin.

Tratamiento sin riesgos.

Tratamiento muy uniforme

incluso en recovecos.

Puede recubrir algunos

recovecos y formas
complicadas

Limpieza previa necesaria

pero no tan crtica como
en el PVD.

La limpieza previa no
es crtica.

Limpieza previa menos

crtica que para el PVD.

Cuadro comparativo de Desventajas

Implantacin
inica

PVD

CVD

PACVD

Proceso direccional

Proceso direccional

No adecuado para herramientas que trabajan a

alta temperatura (>300c).

La temperatura del tratamiento puede afectar a

aceros con revenidos a
baja temperatura.

La temperatura del proceso alcanza los 1000c.

Puede causar deformaciones. En aceros ser preciso templar despus del
tratamiento.

La temperatura del tratamiento puede afectar a

aceros con revenidos a
baja temperatura. Puede
causar deformaciones.

Aade 2-3 m a las dimensiones de la herramienta.

La limpieza previa y el
estado superficial son
muy crticos. Cuando no
son perfectos no se puede
aplicar el PVD.

Aade 3-10 m a las

dimensiones de la herramienta. Altera el acabado
superficial. Puede ser
necesario pulir despus
del recubrimiento

Aade 2-3 m a las dimensiones de la herramienta.

Riesgo de desprendimiento del recubrimiento.

La capa implantada no es
muy profunda (<0,5). No
adecuada para desgaste
abrasivo severo.

Puede no ser suficiente

para el desgaste abrasivo
severo.

Cuadro comparativos de aplicaciones

Implantacin
inica
Capacidad
de solucin
de diversos
problemas

aplicaciones
tpicas

PVD

CVD

PACVD

Desgaste adhesivo
a cargas bajas.

Desgaste adhesivo
a cargas relativamente altas.

Desgaste adhesivo
en general.

Desgaste abrasivo
medio.

Desgaste abrasivo
fuerte.

Desgaste abrasivo
severo.

Corrosin.

Corrosin
(con limitaciones).

Herramientas sujetas
a grandes esfuerzos

Punzones, troqueles y
matrices para chapa de acero
y otros metales.

Herramientas de
mecanizado, brocas,
fresas y plaquitas.

Plaquitas de mecanizado.

Herramientas de
mecanizado, brocas,
fresas y plaquitas.

Moldes de inyeccin
de plstico.

Pequeos punzones
y troqueles para hojalata y acero inoxidable.

Pequeos punzones y
troqueles para hojalata y acero inoxidable.

Pequeos punzones y
troqueles para hojalata y acero inoxidable.

Herramientas de corte
para plsticos, caucho,
papel y alimentos.

Matrices de estirado.

Matrices de estirado.

Herramientas de meca
nizado especiales.

Componentes de
moldes de plstico.

Algunos componentes
de moldes de plstico.

Desgaste abrasivo
severo.