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DEPARTAMENTO DE QUMICA
FACULTAD DE CIENCIAS
UNIVERSIDAD AUTNOMA DE BARCELONA
AGRAMENTS
He dadmetre que jo no sc qumica per vocaci, tot sigui dit. En la mateixa lnia, el doctorat
no va ser una cosa que tingus planejada des del comenament de la carrera. Sc aqu perqu
volia estudiar i investigar quelcom que fos til per al medi ambient... Faig balan i b, no puc
dir que no hagi fet res relacionat amb la meva idea platnica inicial per no seria aix el que
ms destacaria daquest perode. Lautonomia, la logstica i la capacitat de motivaci
(personal i externa) que es poden arribar a assolir en determinades circumstncies s
sorprenent. Per tot aix, i per comenar, he dagrair al Julin Alonso que un dia, de la m del
mtic Eugeni Barquero, em deixs incorporar al grup i em dons total confiana per fer i
desfer a la meva manera (sabes que, a veces, tambin te hago caso).
Daltra banda, si no hagus estat pel Brasil, probablement jo ara no estaria escrivint aix. Hi
ha un abans, un durant i un desprs daquest pas. Labans s la tesina... etapa desastrosa dels
meus primers flirteigs amb la cincia, en la qual vaig estar a punt dabandonar el vaixell
perqu considerava que tanta mala sort no podia ser fruit de la casualitat sin de la meva
incompatibilitat amb aix de la investigaci. El durant s la meva estada al fantstic Brasil, a
So Paulo concretament, ciutat que estimo i odio en una proporci que encara no tinc clara.
All vaig aprendre de la m de la Zaira Mendes da Rocha i el Mrio Gngora-Rubio qu
eren les cermiques verdes i a intuir tot all que podia arribar a fer-se amb elles. No noms
vull agrair-los el fet que ens ensenyessin tot el que sabien, sin reconixer que sense ells
potser no haurem encetat aquesta lnia dinvestigaci.
El desprs s el retorn al grup i quatre anys duna productivitat cientfica que no mhagus
imaginat al comenament de la meva tesi: gaireb tot all que ens plantejvem sortia.
Referent a aquest perode, he dagrair la fantstica ajuda oferta per tres persones: el Manel
Bautista, la Rute Machado i el Carlos Azevedo, sense els quals segur que no hagussim
avanat tan rpid en el desenvolupament dels analitzadors potenciomtrics i
quimioluminiscents.
En la rauxa davaluaci dels ginys construts, a la Mireia Baeza voldria agrair-li no noms
lhaver-me endinsat en el mn de lespectrofotometria, sin tamb haver-me ajudat tant en la
complexa modelitzaci del sistemes de detecci de nitrits.
La Cynthia S. Martnez va aterrar al grup quan jo ja donava per tancat el contingut
experimental de la meva tesi... llstima! perqu la simbiosi amb lelectrnica mexicana ha
estat cientficament genial (malgrat que culinriament estigui encara molt lluny de les seves
increbles habilitats professionals).
Tret dalguns moments de pessimisme (ms o menys freqents en funci de lpoca)... qu b
mho he passat al GSB durant aquests sis anys! I aix t responsables amb noms i cognoms:
Aleix Parra, com pot ser que diguis tantes burrades fins i tot anant amb traje? The de
donar les grcies per haver-me fet riure mil vegades des de la taula del davant i per la teva
collaboraci en la avaluaci de les sondes. Per cert, aix no ens havia de fer rics? Laltra
nima de Sensors ha estat, indubtablement, la Mariona Massana. Has sigut companya de
laboratori (amb capacitat per aprendre quinze mil), consellera cientfica i, sobretot, una gran
amiga. The dit mil cops que sense tu, aquest laboratori ja no s el mateix. A Biosensors,
encara que degut al seu discret riure de vegades un es pensi que la t enganxada a lorella,
resideix loptimisme en forma de dinamita: lAnna Gonzlez. Sincerament, no dir que tu i jo
haguem compartit molts moments cientfics perqu seria enganyar-nos. Tamb a fora, per
sobretot a la facultat, quins bons cafs i quines bones tertlies hem tingut (primer a tres i
finalment a dues bandes). Ara et toca a tu enlairar-te. A la Laia Rivera, que ja fa temps que
vola per altres indrets, he dagrair-li algun que altre reny a temps, aix com lempremta
deixada a ptics.
A la resta de companys de Sensors (Rosa Oliv, Eva Arasa, Oriol Ymbern, Mar Pujol) us
desitjo sort i mols de pacincia.
A la Nria Gonzlez (la vena de quifi), a la Laura Grau i a lEva Ogu els agraeixo
lhaver-me recolzat i donat nims en els bons i en els no-tan-bons moments. Que ja sn...
quants? 10 anyets daventures? Tela. Aix deixa marca, darlings.
I s clar, a ning que em conegui se li escapa que no sn precisament els coneixements
cientfics all que ha valgut ms la pena del meu pas pel GSB. Encara que espero que ja ho
spiga, tamb vull deixar constncia dall que agraeixo a en Xavier Llopis. En primer lloc,
des dun punt de vista cientfic, la genial idea de la ubicaci de lelctrode de referncia que
tants bons resultats ens ha donat. Per altra banda, lhaver format equip en la construcci i
avaluaci de lampermetre miniaturitzat, que no podia haver sortit millor. Finalment, a nivell
personal tagraeixo que, al llarg daquests anys, hagis intentat encomanar-me la teva
tranquillitat i serenor en diversos aspectes de la vida. Malgrat la boira, cal caminar...
I per finalitzar amb la secci ms amigable de la tesi noms em falta esmentar el millor
projecte que mai em podran concedir: els meus pares (lAntnia Garcia i el Josep Maria
Ibez) i la meva germana (la Cristina Ibez), amb qui som ms germanes cada dia. Encara
que pugui semblar evident, vull tornar a reconixer als meus pares lesfor realitzat per a que
jo arribs fins aqu, facilitant-me tota la formaci que volia rebre i, sobretot, posant-mho tot
tan i tan fcil. Grcies de tot cor.
Com alguna vegada va escriure Shakespeare el que s passat s prleg. En el meu cas, la
tesi i aquesta fase estan a punt de ser passat. El que no tinc clar s de quin llibre seran prleg.
NDICE DE CONTENIDOS
1. INTRODUCCIN
1
1.1. Tecnologa del silicio ..................................................................5
1.1.1. CLASIFICACIN Y PROPIEDADES ................................................................5
1.1.2. TCNICAS DE MICROFABRICACIN ..............................................................6
1.1.2.1. Fotolitografa ........................................................................................6
1.1.2.2. Procesos de grabado .............................................................................7
1.1.3. TCNICAS DE SELLADO ............................................................................9
1.1.3.1. Soldadura andica (sellado electrosttico) ...............................................9
1.1.3.2. Sellado por presin................................................................................9
1.1.3.3. Sellado mediante adhesivo .....................................................................9
2. OBJETIVOS
47
3. METODOLOGA DE FABRICACIN
49
3.1. Diseo del dispositivo .............................................................. 50
3.2. Mecanizado de las capas .......................................................... 53
3.3. Serigrafa ................................................................................. 56
3.4. Integracin de otros componentes .......................................... 58
3.5. Laminacin............................................................................... 59
3.5.1. TERMOCOMPRESIN ............................................................................. 59
3.5.2. LAMINACIN A BAJA PRESIN Y BAJA TEMPERATURA..................................... 61
5. DISPOSITIVOS AMPEROMTRICOS
131
5.1. Analizador amperomtrico de pesticidas (DA1) .....................131
5.1.1. MATERIALES Y REACTIVOS ................................................................... 135
5.1.2. MONTAJE EXPERIMENTAL ..................................................................... 136
5.1.3. EVALUACIN DEL MICROSISTEMA CON DETECCIN AMPEROMTRICA ............... 136
5.1.3.1. Eleccin de la geometra del dispositivo............................................... 136
5.1.3.2. Optimizacin de las variables experimentales....................................... 139
5.1.3.3. Evaluacin del sistema....................................................................... 141
5.1.4. CONCLUSIONES ................................................................................. 141
6. DISPOSITIVOS PTICOS
143
6.1. Analizador de in nitrito con integracin monoltica
de celda de deteccin ptica (DO1)........................................143
7. OTRAS APLICACIONES
171
7.1. Potencimetro........................................................................ 171
7.1.1.
7.1.2.
7.1.3.
7.1.4.
8. CONCLUSIONES GENERALES
185
1. INTRODUCCIN
a Qumica Analtica se ha visto profundamente influenciada
por los avances cientficos y tecnolgicos ocurridos en las
ltimas dcadas. Ms all del uso que los qumicos/as
analticos/as hacen de esta disciplina, son muchas las personas que, en
diversas reas de la ciencia, utilizan las herramientas y tcnicas
desarrolladas por la Qumica Analtica: desde el estudio del consumo
de oxgeno durante el ejercicio, pasando por la monitorizacin de la
contaminacin del aire, hasta la sonda espacial que busca signos de
vida en otro planeta.
Las industrias y su necesidad de optimizar y controlar la calidad de los
productos para ser cada vez ms competitivas han potenciado y hecho
evolucionar el uso tanto de los mtodos de anlisis de alta sensibilidad
y exactitud como de los que suministran informacin en tiempo real.
Uno de los paradigmas de la evolucin experimentada en esta rea de la
ciencia, es el nivel de integracin que han alcanzado los mtodos de
anlisis clsicos. Se entiende por integracin la accin o efecto de unir
diferentes partes para formar un todo de manera que ste presente
caractersticas y funciones que no estaban presentes en las partes
constituyentes iniciales. A pesar de que este concepto ha sido ms
extensamente aplicado en el campo tecnolgico (los circuitos
integrados (IC) son un ejemplo), el significado que ste tiene en
Qumica Analtica resulta tambin significativo, ya que las partes que
pretenden integrarse son operaciones unitarias de un proceso analtico.
Se entiende por proceso analtico la obtencin de informacin til a
travs de una secuencia de operaciones bien definida: muestreo,
transporte de muestra, separacin, reaccin, medida, transduccin,
adquisicin de la seal y procesamiento. La mayora de sistemas
analticos se disean siguiendo, en parte o totalmente, la anterior
secuencia.1
Durante el proceso de integracin se dota de conectividad a las etapas
del proceso analtico de manera que se minimice al mximo la
intervencin humana. As, no slo se reducen costes y tamaos, sino
que se disminuyen los tiempos de anlisis y se requiere de personal
menos cualificado para su manejo.
Una manera flexible y sencilla de dotar de conectividad, parcial o total,
a las operaciones unitarias es mediante el uso de sistemas de flujo
continuo. De entre todas las tcnicas de flujo continuo existentes, la
ms utilizada es la denominada Anlisis por Inyeccin en Flujo (FIA).
sta se basa en la insercin de un pequeo volumen de muestra en un
canal por el que circula una disolucin que la impulsa hacia un
detector.
1. Introduccin
Manz, A.; Graber, N.; Widmer, H.M. Sens. Actuator B-Chem., 1990, 1, 244.
Terry, S.C.; Tesis Doctoral, Stanford, Stanford, CA, 1975.
4
Terry, S.C.; Jerman, J.H.; Angell, J.B. IEEE Trans. Electon. Devices, 1979, ED-26,
1880.
5
Capillary electrophoresis: Theory and Practice; Grossman, P.D. and Colburn, J.C.
(eds.); Academic Press, New York, 1992.
6
Jorgenson, J.W.; Lukacs, K.D. Anal. Chem., 1981, 53, 1298.
3
1. Introduccin
DISPOSITIVOS
DISPOSITIVOS
MINIATURIZADOS
MINIATURIZADOS
Figura 1.1:
Multidisciplinareidad
en la construccin de
dispositivos
miniaturizados.
Microptica
Microactuadores
Microsensores
Hidrodinmica
Mecnica
Microelectrnica
Informtica
7
8
Reyes, D.R.; Iossifidis, D.; Auroux, P.A.; Manz, A. Anal. Chem.,2002, 74, 2623.
Auroux, P.A.; Iossifidis, D.; Reyes, D.; Manz, A. Anal. Chem.,2002, 74, 2637.
1. Introduccin
Figura 1.2:
Situacin comparativa
de algunas tecnologas
de miniaturizacin.
1. Introduccin
1. Introduccin
Figura 1.3:
Proceso general de
micromecanizado de
una oblea de silicio.
24
Lin, L.Y.; Goldstein, E.L.; Tkach, R.W. IEEE Photon. Technol. Lett., 1998, 10,
525.
25
www.knovel.com (Junio 2006)
1. Introduccin
Figura 1.4:
Ataque anisotrpico de
una oblea de silicio.
1. Introduccin
26
1. Introduccin
Vidrio pyrex
Oblea de silicio
+
Placa calefactora
Figura 1.5:
Soldadura andica. A:
montaje experimental.
B: difusin de los iones
dentro del vidrio Pyrex
debido a la diferencia de
potencial aplicada.
Na+
O2-
Na+
O2-
Na+
Placa de aluminio
O2-
33
1. Introduccin
10
1. Introduccin
Denominacin qumica
HDPE
LDPE
PA
PC
PE
PDMS
PMMA
POM
PP
PS
PVC
SI
Rango de
temperatura(C)
Mnima
Mxima
-50
80 (120)
-50
75 (90)
-30
80 (140)
-100
135 (140)
-40
80 (90)
-40
200
-40
85 (90)
-40
90 (110)
-10
120(140)
-10
70(80)
-20
80
-50
180 (250)
35
36
11
1. Introduccin
Agente
qumico
PMMA
PC
PS
PVC
SI
cidos
dbiles
R-B
cidos
fuertes
R-M
B-E
M-B
cidos
oxidantes
--
R-B
--
Bases
dbiles
Bases
fuertes
Alcoholes
--
Cetonas
steres
--
HC
alifticos
R-B
HC
aromticos
Aceites
vegetales,
animales,
minerales
E-M
Ekstrm, B.; Jacobsson, G.; hman, O.; Sjdin, H. Patent WO 91/16966, 1990.
VerLee, D.; Alcock, A.; Clark, G.; Huang, T.M.; Kantor, S.; Nemcek, T.; Norlie, J.;
Pan, J.; Walsworth, F.; Wong, S.T. in: Proc. Solid State Sensor Actuator Workshop,
1996, 9.
38
12
1. Introduccin
Johnson, T.; Waddell, E.A.; Kramer, G.W.; Locascio, L.E. Appl. Surf. Sci., 2001,
181, 149.
40
Becker, H.; Dietz, W.; Dannberg, P. in: MicroTotal Analysis Systems 1998;
Harrison, D.J. and van den Berg, A. (eds.); Kluwer, Dordrecht, 1998, 253-256.
41
Becker, H.; Heim, U. Sens. Actuators A-Phys., 2002, 83, 130.
42
Ueno, K.; Kitagawa, F.; Kim, H.B.; Tokunaga, T.; Matsuo, S.; Misawa, H.;
Kitamura, N. Chem. Lett., 2000, 8, 858.
43
Uchiyama, K.; Xu, W.; Yamamoto, M.; Shimosaka, T.; Hobo, T. Anal. Sci., 1999,
15, 825.
44
Soper, S.A.; Ford, S.M.; Qi, S.; McCarley, R.L.; Kelly, K.; Murphy, M.C. Anal.
Chem., 2000, 72A, 642.
13
1. Introduccin
45
Ekstrand, G.; Holmquist, C.; Orlefors, A.E.; Hellman, B.; Larson, A.; Andersson, P.
in: MicroTotal Analysis Systems 2000; van den Berg, A.; Olthius, W. and Bergveld,
P. (eds.); Dordrecht, 2000, 249-252.
46
Weber, L.; Ehrfeld, W.; Freimuth, H.; Lacher, M.; Lehr, H.; Pech, B. in: Proc.
SPIE Micromachining and Microfabrication Process Technology II, 1996, 157.
47
McCormick, R.M.; Nelson, R.J.; Alonso-Amigo, M.G.; Benvegnu, D.J.; Hooper,
H.H. Anal. Chem., 1997, 69, 2626.
48
Paulus, A.; Williams, S.J.; Sassi, A.P.; Kao, P.K.; Tan, H.; Hooper, H.H. in: Proc.
SPIE Microfluidic Devices and Systems, 1998, 94-103.
49
Duffy, D.C.; McDonald, J.C.; Schueller, O.J.A.; Whitesides, G.M. Anal. Chem.,
1998, 70, 4974.
50
McDonald, J.C.; Duffy, D.C.; Anderson, J.R.; Chiu, D.T.; Wu, H.; Whitesides,
G.M. Electrophoresis, 2000, 21, 27.
51
Effenhauser, C.S.; Bruin, G.J.M.; Paulus, A.; Ehrat, M. Anal. Chem., 1997, 60,
3451.
52
Hosokawa, K.; Fujii, T.; Endo, I. in: MicroTotal Analysis Systems 1998; Harrison,
D.J. and van den Berg, A. (eds.); Kluwer, Dordrecht, 1998, 307-310.
14
1. Introduccin
Figura 1.7:
Proceso de
creacin de un
molde maestro en
silicio y, a partir de
l, dispositivos en
PDMS.
53
Jackman, R.J.; Brittain, S.T.; Adams, A.; Prentiss, M.G.; Whitesides, G.M. Science,
1998, 280, 2089.
54
Anderson, J.R.; Chiu, D.T.; Jackman, R.J., Cherniavskaya, O.; McDonald, J.C.;
Wu, H.K.; Whitesides, S.H.; Whitesides, G.M. Anal. Chem., 2000, 72, 3158.
55
Jo, B.H.; Van Lerberghe, L.M.; Motsegood, K.M.; Beebe, D.J. J.
Microelectromech. Syst., 2000, 9, 76.
56
Roberts, M.A.; Rossier, J.S.; Bercier, P.; Girault, H. Anal. Chem., 1997, 69, 2035.
57
Srinivasan, R. Polym. Degrad. Stab., 1987, 17, 193.
58
Schmidt, H.; Ihlemann, J.; Luther, K.; Troe, J. Appl. Surf. Sci., 1999, 138-139, 102.
15
1. Introduccin
59
Ford, S.M.; Kar, B.; McWhorter, S.; Davies, J.; Soper, S.A.; Klopf, M.; Calderon,
G.; Saile, V. J. Microcolumn, 1998, 10, 413.
60
Locascio, L.E.; Perso, C.E.; Lee, C.S. J. Chromatogr. A, 1999, 857, 275.
61
Soane, D.S.; Soane, Z.M.; Hooper, H.H.; Alonso-Amigo, M.G. International
Patent Application WO 98/45693, 1998.
16
1. Introduccin
62
Kwok, Y.C.; Jefferey, N.T.; Manz, A. Anal. Chem., 2001, 73, 1748.
Barker, S.L.R.; Tarlov, M.J.; Canavan, H.; Hickman, J.J., Locascio, L.E. Anal.
Chem., 2000, 72, 4899.
64
Lai, S.; Cao, X.; Lee, L.J. Anal. Chem., 2004, 76, 1175.
63
17
1. Introduccin
18
1. Introduccin
MATERIAL
Oblea de silicioa
Oblea de silicio
SOI (Silicon On
Insulator)
Glass (soda
lime glass)c
PDMS (Sylgard
186 Silicone
Elastomer)
PRECIO
0.14 /cm2 (25 /oblea)
FABRICANTE
Okmetic68
SOITEC69
Micralyne70
Dow Corning7172
0.04 /cm2
Dupont73
(1000 / 26.000 cm2)
a
rea de una oblea de 7.6 cm de dimetro (180 cm2)
b
Rollo de 50 pies x 6.625
c
De 2.5 cm de grosor
LTCCb
68
19
1. Introduccin
Ocvirk, G.; Munroe, M.; Tang, T.; Oleschuk, R.; Westra, K.; Harrison, D.J.
Electrophoresis, 2000, 21, 107.
79
Pugmire, D.L.; Wadell, E.A.; Haasch, R.; Tarlov, M.J.; Locascio, L.E. Anal. Chem.,
2002, 74, 871.
80
Wang, J.; Pumera, M.; Chatrathi, M.P.; Rodriguez, A.; Spillman, S.; Martin, R.S.;
Lunte, S.M. Electroanalysis, 2002, 14, 1251.
81
Lui, Y.; Fanguy, J.C.; Bledsoe, J.M.; Henry, C.S.; Anal. Chem., 2000, 72, 367.
82
Li, S.; Floriano, P.N.; Christodoulides, N.; Fozdar, D.Y.; Shao, D.; Ali, M.F.;
Dharshan, P.; Mohanty, S.; Neikirk, D.; McDevitt, J.T.; Chen, S. Biosens.
Bioelectron., 2005, 21, 574.
20
1. Introduccin
21
1. Introduccin
Figura 1.8:
Comparacin de
tecnologas cermicas
hbridas.
84
22
1. Introduccin
REFERENCIA
www.dupont.com
www.ferro.com
www.heraeus.com
www.ceramtec.com
www.electroscience.com
www.kyocera.de
www.nikkos.co.jp
www.es.northropgrumman.com
85
86
Luo, X.J.; Zhang, B.L.; Li1, W.L.; Zhuang, H.R. J. Mater. Sci., 2004, 39, 4387.
Jantunen, H. Tesis Doctoral, University of Oulu, Oulu, Finlandia, 2001.
23
1. Introduccin
87
24
1. Introduccin
88
Hausner, H.H. in: Sintering New Development, M.M. Ristic (ed.), Elsevier
Scientific Publishing Co, Amsterdam, 1979, 3.
89
Kuczynski, G.C. in: Sintering New Development. M.M. Ristic (ed.), Elsevier
Scientific Publishing Co, Amsterdam, 1979, 245.
90
Rahaman, M.N. Ceramic Processing and Sintering, Marcel Dekker, New York,
1995.
91
Kuang, X.; Carotenuto, G.; Nicolais, L. Advanced Performance Materials, 1997, 4,
257.
25
1. Introduccin
Figura 1.9:
Interpenetracin de las
partculas de almina
durante el proceso de
sinterizacin. Unin de
las capas constituyentes
iniciales y formacin de
un bloque slido
homogneo.
26
1. Introduccin
92
de Carvalho, T.; Garcia, L.; Pereira da Silva, M.L.; Ramos, I.; Furlan, R.; SantiagoAviles, J.J. in: Tenth Annual International Conference on Composites Engineering
(ICCE/10), 2003, 83.
27
1. Introduccin
APLICACIN
93
REF.
93
94
95,96
93,97
98,99
28
1. Introduccin
Microondas (MW)
Integracin de componentes pasivos en el diseo
y Radiofrecuencias
de circuitos miniaturizados para disminuir costes.
(RF)
100,101
(MW)
102 (RF)
Motor esfrico
Control de temperatura:
enfriamiento
activo/pasivo
APLICACIN
Propulsin de fluidos para facilitar su
mezcla a travs de estructuras de canales
complejas.
Actuadores de robtica: caderas, codos y
hombros.
Ruedas omni-direccionales para robots
mviles.
Actuadores para cmaras de visin.
Generacin de un mecanismo de transporte
trmico a travs de un sustrato. Si este
sustrato est unido a un material conductor,
el calor puede repartirse a travs de una
gran rea.
REF.
103,104
105
106
100
Dernovsek, O.; Naeini, A.; Preu, G.; Wersing, W.; Eberstein, M.; Schiller, W.A. J.
European Ceram. Soc., 2001, 21, 1693.
101
Jantunen, H.; Kangasvieri, T.; Vahakangas, J.; Leppavuori, S. J. European Ceram.
Soc., 2003, 23, 2541.
102
Sim, S.H.; Kang, C.Y.; Choi, J.W.; Choi, H.W.W.; Yoon, Y.J.; Yoon, S.Y.; Kim,
H.J. J. European Ceram. Soc.,2003, 23, 2717.
103
Bau, H.H.; Zhu, J.; Qian, S; Xiang, Y. Sens. Actuators B-Chem, 2003, 88, 205.
104
Zhong, J.; Yi, M.; Bau, H.H. Sens. Actuators A-Phys, 2002, 96, 59.
105
Li, J.; Ananthasuresh, G.K. J. Micromech. Microeng., 2002, 12, 198.
106
Bischoff, G.; Thust, H.; Thelemann, T.; Kirchner, T. in: International Symposium
on Microelectronics, 1999, 636.
29
1. Introduccin
107
Mengeaud, V.; Josserand, J.; Girault, H.H. Anal. Chem., 2002, 74, 4279.
Yang, Z.; Matsumoto, S.; Goto, H.; Matsumoto, M.; Maeda, R. Sens. Actuators APhys, 2001, 93, 266.
109
Petersson, F.; Nilsson, A.; Jonsson, H.; Laurell, T. Anal. Chem., 2005, 77, 1216.
110
Nguyen, N.T.; Wu, Z. J. Micromech. Microeng., 2005, 15, R1.
111
Dertinger, S.K.W.; Chiu, D.T.; Jeon, N.L.; Whitesides, G.M. Anal. Chem., 2001,
73, 1240.
112
Liu, R.H.; Stremler, M.A.; Sharp, K.V.; Olsen, M.G.; Santiago, J.G.; Adrian, R.J.,
Aref, H.; Beebe, D.J. J. Microelectromech. Syst., 2000, 9, 190.
113
Aref, H. Phys. Fluids, 2002, 14, 1315.
108
30
1. Introduccin
Figura 1.10:
Micromezcladores
activos:
(a) segmentacin en
serie, (b) turbulencia
por presin a lo largo
del canal de mezcla,
(c) microagitador
integrado en el canal de
mezcla, (d) turbulencia
electrohidrodinmica,
(e) turbulencia
dielectrofortica,
(f) turbulencia
electrocintica en la
cmara de reaccin,
(g) turbulencia
electrocintica en el
canal de mezcla.110
Cmara de reaccin
Cmara de reaccin
Figura 1.11:
Micromezcladores
pasivos bsicos:
(a) en forma de T,
(b) en forma de Y.111
118
114
Bertsch, A.; Heimgartner, S.; Cousseau, P.; Renaud, P. Lab Chip, 2001, 1, 56.
Ehrfeld, W.; Golbig, K.; Hessel, V.; Lowe, H.; Richter, T. Ind. Eng. Chem. Res.,
1999, 38, 1075.
116
Hinsmann, P.; Frank, J.; Svasek, P.; Harasek, M.; Lendl, B. Lab Chip, 2001, 1, 16.
117
Engler, M.; Kockmann, N.; Kiefer, T.; Woias, P. Chem. Eng. J., 2004, 101, 315.
118
Wong, S.H.; Ward, M.C.L.; Wharton, C.W. Sens. Actuators B-Chem, 2004, 100,
359.
115
31
1. Introduccin
MEZCLADOR
PASIVO
Serpentn
tridimensional
MATERIAL
Silicio
Nudos
tridimensionales
PDMS
Estructuras
tridimensionales
variadas
PDMS
Alternancia de flujos
laminares
Vidrio/silicio
Creacin de
gradientes de flujo
laminar
PDMS
Creacin de vrtex en
uniones tipo T
Silicio
TCNICA DE
FABRICACIN
Grabado anisotrpico con
KOH
Fotolitografa sobre obleas
de silicio. Moldeado del
PDMS sobre ellas.
Apilamiento de capas con
diferentes motivos.
Superposicin de capas de
PDMS con diseos
bidimensionales fabricadas
mediante moldeado de
PDMS sobre obleas de
silicio.
Grabado por ambos lados
del silicio.
Fotolitografa sobre obleas
de silicio. Moldeado del
PDMS sobre ellas.
Apilamiento de capas con
diferentes motivos.
Canales construidos
mediante RIE y cubiertos
de vidrio.
REF.
112
54,119,
120,53
55
121
111
117,118
Wu, H.; Odom, T.W.; Chiu, D.T.; Whitesides, G.M. J. Am. Chem. Soc., 2003, 125,
554.
120
McDonald, J.C.; Whitesides, G.M. Accounts Chem. Res., 2002, 35, 491.
121
Bessoth, F.G.; deMello, A.J.; Manz, A. Anal. Commun., 1999, 36, 213.
32
1. Introduccin
MATERIAL
Separacin de
partculas
Silicio
Separacin de
partculas
Silicio
CARACTERSTICA
Uso de fuerzas acsticas para la
separacin de partculas de 5 m
suspendidas en flujo laminar.
Separacin de esferas de 5.5 m
de
dimetro
mediante
la
fabricacin de cavidades rodeadas
por microcolumnas. No se aplica
ninguna fuerza externa, slo el
propio flujo.
REF.
109
123
122
33
1. Introduccin
Intercambio
inico
Vidrio
Separacin de
ADN
PDMS
Extraccin
lquido-lquido
Varios
Dilisis
PVC
124
125
126
127
Oleschuk, R.D.; Shultz-Lockyear, L.L.; Ning, Y.; Harrison, D.J. Anal. Chem.,
2000, 72, 585.
125
Deng, T.; Prentiss, M.; Whitesides, G.M. Appl. Phys. Lett., 2001, 80, 461.
126
Psillakis, E.; Kalogerakis, N. Trends Anal. Chem., 2002, 21, 53,
127
Mir, M.; Frenzel, W. Analyst, 2003, 128, 1291.
128
Prado-Rosales, R.C.; Luque-Garca, J.L.; Luque de Castro, M.D. Anal. Chim. Acta,
2002, 461, 169.
34
1. Introduccin
Electroqumica
Peristltica
Oscilatoria
MATERIAL
Silicio/vidrio
PDMS
Vidrio,
poliimida y
PDMS
Silicio y
poliimida
PCB
PMMA y
silicona
PDMS
PDMS
On-off
Magnetohidrodinmica
PDMS y
silicona
LTCC
ACTUADOR?
S: piezoelctrico
S: imn.
S: reaccin
electroqumica que
controla la formacin de
H2
S: reaccin
electroqumica que genera
o consume gas.
S: piezoelctrico
S: ferrofludos
No: uso de presin
(aunque ste era generado
por una vlvula externa
electromecnica)
No: uso de presin
(aunque ste era generado
por una vlvula externa
electromecnica)
S: variacin de presina
REF.
130
131
132
133
134
135
136
136
137
S: uso de electrodos y
138
diferencias de potencial
a
Al contrario que la referencia n136, este artculo considera que la aplicacin de
presin es en s un actuador y, por lo tanto, la vlvula/bomba resultante es activa.
35
1. Introduccin
On-off
MATERIAL
ACTUADOR?
REF.
Silicio y siliconas
PDMS
PDMS
Vidrio, poliimida y
PDMS
S: neumtico
No: uso de presin
No: uso de presin
S:
reaccin
electroqumica
que
controla la formacin de
H2
S: variacin de presin
140
136
136
132
PDMS y silicona
137
139
36
1. Introduccin
145
Palmer, T.; Understanding Enzymes (2da ed.), Ellis Horwood Publishers, John
Wiley & Sons, Inglaterra, 1985.
146
Wilding, P.; Shoffner, A.; Cheng,J.; Hvichia, G.; Kricka, J. Clinical Chem., 1995,
41, 1367.
147
Woolley, A.T.; Hadley, D.; Landre, P.; de Mello, A.J.; Mathies, R.A.; Northrup,
M.A. Anal. Chem., 1996, 68, 4081.
148
Kopp, M.U.; de Mello, A.J.; Manz, A. Science, 1998, 280, 1046.
149
Nakano, H.; Matsuda, K.; Yonda, M.; Nagamune, T.; Endo, I.; Yamane, T. Biosci.
Biotechnol. Biochem., 1994, 58, 349.
37
1. Introduccin
E = E0 +
RT
ln ai
zi F
38
Prantis, D.M.; Telting, D.; Meyerhoff, M.E. Crit. Rev. Anal. Chem., 1992, 23, 163.
1. Introduccin
Alegret, S.; Alonso, J.; Bartrol, J.; Lima, J.L.F.C.; Machado, A.A.S.C.; Pauls,
J.M. Anal. Lett., 1985, 18, 2291.
152
Wang, J. Trends Anal. Chem., 2002, 21, 226.
153
Tantra, R.; Manz, A. Anal. Chem., 2000, 72, 2875.
154
Cranny, A.W.J.; Atkinson, J.K. Meas. Sci. Technol., 1998, 9, 1557.
155
Mroz, A.; Borchardt, M.; Diekmann, C.; Cammann, K.; Knoll, M.; Dumschat, C.
Analyst, 1998, 123, 1373.
156
Ciobanu, M.; Wilburn, J.; Lowy, D.A. Electroanalysis, 2004, 16, 1351.
157
Huang, I.Y.; Huan, R.S.; Lo, L.H. Sens. Actuators B-Chem., 2003, 94, 53.
158
Ciobanu, M.; Wilburn, J.P.; Buss, N.I.; Ditavong, P.; Lowy, D.A. Electroanalysis,
2002, 14, 989.
159
Yalcinkaya, F.; Powner, E.T. Med. Eng. Phys., 1997, 19, 299.
160
Ibaez-Garcia, N.; Mercader, M.B.; da Rocha, Z.M.; Seabra, C.A.; GongoraRubio, M.R.; Chamarro, J.A., Anal. Chem., 2006, 78, 2985.
39
1. Introduccin
I=
nFADAC A
= K CA
161
40
Dohner, R.E.; Wegmann, D.; Morf, W.E.; Simon, W. Anal. Chem., 1986, 58, 2585.
1. Introduccin
162
Woolley, T.; Lao, K.; Glazer, A.N.; Mathies, R.A. Anal. Chem., 1998, 70, 684.
Martin, R.S.; Gawron, A.J.; Lunte, S.M.; Henry, C.S. Anal. Chem., 2000, 72, 3196.
164
Wang, J.; Tian, B.; Sahlin, E. Anal. Chem., 1999, 71, 873.
165
Hilmi, A.; Luong, J.H.; Nguyen, A. Anal. Chem., 1999, 71, 873.
166
Hilmi, A.; Luong, J.H. Anal. Chem., 2000, 72,. 4677.
167
Pepin, J.G.; Borland, W.; OCallaghan, P.; Young, R.J.S. J. Am. Ceram. Soc.,
1989, 72, 2287.
168
Gasper, D.J.; Patterson, F.K.; Iorfido, B.L. in: ISHM Proceedings, 1998, 246.
169
Dixon, J.B.; Rooney, D.T.; Castello, N.T. in: ISHM Proceedings, 1976, 267.
163
41
1. Introduccin
170
42
1. Introduccin
Puyol, M.; del Valle, M.; Garces, I.; Villuendas, F.; Dominguez, C.; Alonso, J.
Anal. Chem., 1999, 71, 5037.
177
Bargiel, S.; Grecka-Drzazga, A.; Dziuban, J.A.; Prokaryn, P.; Chudy, M.; Dybko,
A.; Brzozka, Z. Sens. Actuators A-Phys, 2004, 115, 245.
178
Szekely, L.; Reichert, J.; Freitag, R. Sens. Actuators A-Phys, 2004, 113, 48.
179
Greenway, G.M.; Haswell, S.J.; Petsul, P.H. Anal. Chim. Acta, 1999, 387, 1.
180
Fletcher, P.; Andrew, K.N.; Calokerinos, A.C.; Forbes, S.; Worsfold, P.J.
Luminiscence, 2001, 16, 1.
181
Zhang, Z.; Zhang, S.; Zhang, X. Anal. Chim. Acta, 2005, 541, 37.
182
Nakamura, H.; Murakami, Y.; Yokoyama, K.; Tamiya, E.; Karube, I.; Suda, M.;
Uchiyama, S. Anal. Chem., 2001, 73, 373.
183
Yuan, J.; Shiller, A.M. Anal. Chem., 1999, 71, 1975.
184
Zhang, W.; Danielson, N.D. Microchem. J., 2003, 75, 255.
43
1. Introduccin
Sensores electroqumicos:
Hot-layer
Medidores de presin de la
lengua
Sensores medioambientales
APLICACIN
Identificacin de ADN, clonacin
genmica y diagnstico de enfermedades.
Tcnica de separacin.
Deteccin de compuestos qumicos
peligrosos.
Tcnica rpida de deteccin de trazas de
explosivos y drogas.
Investigacin de coeficientes de
temperatura de pares redox en estado no
estacionario.
Estudio de la desnaturalizacin de
molculas biolgicas.
Control del crecimiento de las
mandbulas.
Monitorizacin de contaminantes en ros
y aguas residuales.
REF.
185
186
187
188
189
190
185
Chou, C.F.; Changrani, R.; Roberts, P.; Sadler, D.; Burdon, J.; Zenhausern, F.; Lin,
S.; Mulholland, A.; Swami, N.; Terbrueggen, R. Microelectron. Eng., 2002, 61-62,
921.
186
Henry, C.S.; Zhong, M.; Lunte, S.M.; Kim, M.; Bau, H.; Santiago, J.J. Anal.
Commun., 1999, 36, 305.
187
Pfeifer, K.B.; Rumpf, A.N. Anal. Chem., 2005; 77, 5215.
188
Vo, T.; Grndler, P.; Kirbs, A.; Flechsig, G.U. Electrochem. Commun., 1999, 1,
383.
189
Muller, R.; Schuster, G.; Rose, A.; Hohfeld, O.; Blechschmidt-Trapp, R.;
Werthschutzky, R. Biomed. Tech., 2003, 48, 226.
190
Blechschmidt-Trapp, R.A.; Hohlfeld, O.; Muller, R.; Werthschutzky, R. Biomed.
Tech., 2002, 47, 43.
44
1. Introduccin
45
2. OBJETIVOS
l objetivo bsico de esta tesis es la puesta en marcha de una
nueva lnea de investigacin dirigida a la obtencin de
microsistemas de anlisis utilizando para su fabricacin la
tecnologa LTCC. Como aplicaciones demostradoras de su potencial, se
pretende aprovechar el bagaje del grupo de Sensores y Biosensores en
el desarrollo de equipos automticos para la monitorizacin de
parmetros medioambientales.
As, el objetivo global de la tesis es el siguiente:
3. METODOLOGA DE FABRICACIN
lo largo de esta seccin experimental se describir la
metodologa general de construccin de dispositivos
mediante el uso de la tecnologa LTCC. El procedimiento
establecido es una adaptacin a nuestras necesidades del protocolo
general de fabricacin de circuitos electrnicos mediante el uso de
cermicas verdes. Para una explicacin en detalle se han incluido los
Anexos A y B, en los que se puede encontrar informacin que en este
captulo ha sido omitida expresamente para aligerar su contenido, pero
que puede ser de utilidad en caso de querer reproducir alguno de los
diseos que aparecen a lo largo de este trabajo.
Este captulo se ha estructurado en apartados que coinciden con las
etapas bsicas del proceso de fabricacin. Estas etapas, esquematizadas
en la figura 3.1, son:
DISEO CAD
MECANIZADO LASER/CNC
Y/O
SERIGRAFA
CERMICAS VERDES
INDIVIDUALMENTE
MECANIZADAS
P,T
Figura 3.1:
Esquema general del
proceso de fabricacin
de un dispositivo
mediante la tecnologa
LTCC.
T
850C
350C
P,T
CAPAS LAMINADAS
TERMOCOMPRESIN
3. Metodologa de fabricacin
DESAGE
DESAGE
V5
V6
Figura 3.2:
A: Circuito hidrulico
de un equipo analizador
macro (~ 35x50cm).
B: esquema del circuito
y etapas de
funcionamiento del
equipo.
C: estructura
tridimensional del
circuito hidrulico a
disear mediante la
superposicin de capas.
D: analizador LTCC
miniaturizado,
conteniendo la
estructura descrita en C
(~ 5x5cm).
50
V7
DESAGE
V10
B2
B1
V8
V1
V2
V3
V4
E LUYENTE
P1
P2
P3
V9
P4
REGENERADOR
3. Metodologa de fabricacin
Figura 3.3:
A: capa superior del
diseo (delimita las
entradas y salida del
lquido). B: capa
inferior (delimita la
forma y medidas del
canal). C: estructuras
microfludicas. La
diferencia entre ellas se
encuentra en el nmero
de capas tipo B que se
utilicen.
C
El nmero de capas que pueden llegar a formar parte de un dispositivo
LTCC es variable, aunque el trmino medio oscila entre 6 y 12.
51
3. Metodologa de fabricacin
Figura 3.4:
rea efectiva de trabajo
dentro de la cual se
pueden disear los
dispositivos (en mm).
Los cuatro agujeros en
cada esquina
(fiduciales) son los
puntos de alineacin.
Figura 3.5:
Imagen del software
CircuitCAM con una de
las capas de un
dispositivo.
52
3. Metodologa de fabricacin
Una vez diseadas cada una de las capas constituyentes del dispositivo
mediante software CAD, se guardan por separado en extensin DXF y
se procesan mediante el programa CircuitCAM. A travs de este
programa se asignan, a los diferentes trazos del diseo, herramientas
concretas y tipos de corte que sern requeridas al usuario por el
software de control (Board Master) de la microfresadora.
Heraeus
HL2000-5.31
Dupont 951AX2
CARACTERSTICAS
Grosor de la cermica verde:1335 m
Encogimiento en el eje X-Y: 0.20.04%
Encogimiento en el eje Z: 32%
Rugosidad superficial: 0.7 m (medidas
Tencor)
No contienen Pb ni Cd
Grosor de la cermica verde: 25413 m
Encogimiento en el eje X-Y: 12.70.3%
Encogimiento en el eje Z: 150.5%
Rugosidad superficial: <0.34 m
Figura 3.6:
Fotografa del equipo
LPKF Protomat
C100/HF.
1
2
53
3. Metodologa de fabricacin
FORMA
FUNCIN
Universal Cutter
0.2mm
Contour Router
Spiral drill
End Mill
54
3. Metodologa de fabricacin
Figura 3.7:
A: motivos recortados
totalmente del sustrato
cermico. B: motivos en
bajo-relieve (canales) y
recortados (orificios).
55
3. Metodologa de fabricacin
3.3 Serigrafa
Una vez mecanizadas cada una de las capas, y antes de superponerlas y
laminarlas, puede ser necesario integrar pistas conductoras con
diferentes finalidades.
A lo largo de esta tesis se ha trabajado con diferentes pastas
conductoras de dos casas comerciales: Dupont y Heraeus.
PROVEEDOR
REF.
6141
6142
6146
DUPONT
HERAEUS
Q5171
Q9615
QQ550
5739
5742
QC150
TC0306
TC0307
TC0308
FUNCIN
Pasta de Ag para rellenar vas.
Pasta de Ag para capas internas. Si se coloca sobre la
superficie de una capa, sta se deforma durante el
proceso de sinterizacin. Este efecto es mucho ms
pronunciado en el caso de la pasta 6141, por lo cual se
desaconseja su uso si es superficial.
Pasta de Ag/Pd para colocar en la superficie de la
cermica. Se pueden soldar cables elctricos sobre
ella.
Pasta conductora. Especialmente utilizada en almina.
Pasta de vidrio para altas temperaturas (850C).
Pasta de vidrio para temperaturas moderadas (550C).
Pasta de Ag/Au para superficies (serigrafa de
electrodos, por ejemplo). Se aconseja la 6146 para este
fin.
Pasta de Au para LTCC (no almina).
Pasta de Au para almina o LTCC ya sinterizada.
Pasta de Ag para la superficie de la cermica.
Pasta de Ag para capas internas.
Pasta de Ag para rellenar vas.
Henry, C. S.; Zhong, M.; Lunte, S. M.; Kim, M.; Bau, H.; Santiago, J. J. Anal.
Commun., 1999, 36, 305.
56
3. Metodologa de fabricacin
HERAEUS
DUPONT4
CARACTERSTICAS
Preacondicionado de las cermicas antes de la
serigrafa: 10 minutos a 80C.
Secado de las pistas serigrafiadas: 15 minutos a 80C.
Se realiza la serigrafa sobre la parte mate de la
cermica, aunque la brillante tambin puede ser
serigrafiada si se requieren pistas por ambos lados de
la cermica.
Se recomienda un preacondicionamiento de las
cermicas de 20-30 minutos a 120C o bien 24 horas
en una atmsfera de nitrgeno.
Secado de las pistas serigrafiadas: 5 minutos a
120C.
Se recomienda no retirar el Mylar para conferir
rigidez a la estructura.
57
3. Metodologa de fabricacin
Figura 3.8:
Esquema de una
pantalla con emulsin y
del proceso
fotolitogrfico. La
escala vertical se ha
exagerado
expresamente. La
fotoresina positiva
debera estar en contacto
con la malla.
Fuente de luz
Resina
Marco
Emulsin sobre la
malla.
Zona no expuesta
a la radiacin.
Figura 3.9:
Detalle de un circuito
impreso generado sobre
una capa LTCC. Se
puede observar la marca
de la malla en las pistas
conductoras.
58
3. Metodologa de fabricacin
3.5 Laminacin
La laminacin es el proceso ms importante dentro de la construccin
de dispositivos LTCC. La adecuada realizacin de esta etapa evita que
se produzcan deformaciones en las estructuras internas que podran
provocar prdidas de lquido, obturaciones, etc. Permite, adems, que
las capas de cermica queden perfectamente alineadas y generen un
bloque slido al final del proceso de sinterizado.
A continuacin, y aunque existen diferentes procedimientos para llevar
a cabo esta etapa, slo se describirn detalladamente la laminacin por
termocompresin (aplicacin de presin y temperatura) y la laminacin
a baja temperatura y baja presin.
3.5.1 TERMOCOMPRESIN
Es la metodologa clsica y consiste en aplicar presin mediante una
prensa a la vez que se mantiene una temperatura de entre 70 y 150C.
Figura 3.10:
A: soporte de alineacin
con un grupo de
cermicas ya
mecanizadas.
B: esquema del proceso
de laminacin.
P,T
P,T
59
3. Metodologa de fabricacin
60
3. Metodologa de fabricacin
61
3. Metodologa de fabricacin
Figura 3.11:
A: canales deformados
por una presin excesiva
(foto tomada con un
microscopio
convencional). B: perfil
de un canal deformado
por exceso de presin.
C: perfil de tres capas
sinterizadas donde no se
observa diferencia entre
ellas. D: perfiles de
canales no deformados.
(Fotos B, C y D
tomadas con SEM:
Scanning Electron
Microscopy).
200m (despus de
sinterizar)
Gongora-Rubio, M.R.; Rocha, Z.; Ibaez-Garcia, N.; Oliveira, N.A.; Matos, J.R. in:
IMAPS Conference and Exhibition on Ceramic Interconnect Technology, 2004, CDROM.
62
3. Metodologa de fabricacin
Figura 3.12:
Dispositivo de 40 capas
con miel entre cada una
de ellas. En el centro se
observa el carbn
generado y la
deformacin
consiguiente.
3.6 Sinterizacin
63
3. Metodologa de fabricacin
Figura 3.13:
Perfil de temperaturas
seguido en el proceso de
sinterizacin.
Temperatura (C)
800
600
10C/min
400
5C/min
350C
200
10C/min
50
100
150
200
250
300
Tiempo (min)
64
3. Metodologa de fabricacin
TGA
%
100.00
Figura 3.14:
Anlisis
termogravimtrico
donde se puede observar
la variacin de peso de
la cermica en funcin
de la temperatura
durante el proceso de
sinterizacin. Tambin
se muestra la derivada
(DrTGA).
DrTGA
mg/min
-0.375 %
0.00
-3.337 %
LTCC Tape
DTG
95.00
231.81C
-0.10
-8.175%
LTCC Tape
TG
90.00
388.42C
0.00
200.00
400.00
Temp [C]
-0.20
600.00
800.00
LTCC - unfired
LTCC - fired
Figura 3.15:
AFM de la superficie de
una capa de cermica en
verde y despus de su
sinterizado.
65
3. Metodologa de fabricacin
66
3. Metodologa de fabricacin
B
C
67
3. Metodologa de fabricacin
PROTOTIPO DE
ANALIZADOR
SISTEMA DE DETECCIN
CARACTERSTICAS
Principio
Medida
Nivel
Integracin
DP1: in fosfato
Mezclador serpentina.
Potenciomtrico
Monoltica
(ISE)
DP2: in cloruro
Mezclador serpentina.
Potenciomtrico
Monoltica
(ISE)
Potenciomtrico
Modular
(Hbrido)
Potenciomtrico
Modular
(Hbrido)
Potenciomtrico
Monoltica
(ISE y REF)
Potenciomtrico
Monoltica
(ISE y REF)
DP7: in nitrato y
amonio en suelos
Etapa de preconcentracin
mediante resinas de
intercambio inico.
Mezclador serpentina.
Etapa de difusin gaseosa.
Integracin de membranas
potenciomtricas mediante
dos metodologas: disco
preformado y mtodo
preserigrfico.
Integracin del electrodo de
referencia en un canal
auxiliar.
Mezclador bidimensional y
serpentina.
Integracin de un electrodo
selectivo basado en
membranas polimricas y de
otro basado en un slido
homogneo cristalino.
Integracin del electrodo de
referencia en un canal
auxiliar.
Integracin del electrodo de
referencia.
Mezclador bidimensional y
serpentina.
DP3: in fosfato
DP4: in amonio
DP5: in amonio/
in nitrato
DO1: in nitrito
DO2: inhibicin
quimioluminiscencia
Integracin de un mezclador
vrtex como celda de
deteccin.
Potenciomtrico
Amperomtrico
Monoltica
(ISE y REF)
Monoltica
(IND, AUX
y REF)
ptico
Monoltica
ptico
Monoltica
D1: electrnica:
control y adquisicin
Potenciomtrico
seales
D2: sistema de control
de temperatura
* En el caso de los dispositivos con deteccin ptica (DO), se entiende por integrado el hecho de
que contengan o no el equivalente a la celda de deteccin ptica en sistemas de flujo macro.
68
4. DISPOSITIVOS POTENCIOMTRICOS
ada uno de los microdispositivos con deteccin
potenciomtrica mediante electrodos selectivos a iones
diseados y presentados en este captulo tiene un precedente
macro en nuestro grupo de investigacin. El diseo, construccin y
evaluacin de equipos analizadores automticos y autnomos para la
determinacin de parmetros de inters medioambiental es una de las
lneas de investigacin prioritarias dentro del Grupo de Sensores y
Biosensores. Gran parte de los equipos desarrollados han sido
transferidos a la empresa Adasa Sistemas del Grupo AGBAR para su
fabricacin e implantacin en estaciones automticas de control de la
calidad de aguas superficiales de la Red SAICA y XACQUA. El
principio de funcionamiento de estos analizadores conjuga las ventajas
de los sensores (integracin del procedimiento analtico) y de los
sistemas de flujo continuo (automatizacin del procedimiento
analtico).
Los equipos se basan en el uso de este tipo de sensores, que simplifican
notablemente algunas etapas del proceso analtico,1 y tcnicas de flujo
continuo como el FIA (Flow Injection Analysis), que permiten la
automatizacin de las medidas.2 En algunos casos suele ser necesaria la
integracin de determinadas etapas de pretratamiento de muestra para
dotar al sistema de sensibilidad y selectividad.
En los siguientes apartados se muestran algunos de los dispositivos
construidos fruto del escalado de los analizadores ya existentes. Los
analizadores DP1 y DP2 utilizan la misma plataforma fludica, un
mezclador tridimensional en forma de serpentina, lo que permite
evaluar la facilidad de construccin de este tipo de estructuras, as
como el grado de mezcla conseguido entre los reactivos utilizados. Los
dispositivos DP3 y DP4 sirven para evaluar la posibilidad de
integracin de etapas de pretratamiento de muestra. En concreto, se
estudia la implementacin de un proceso de preconcentracin y una
etapa de difusin gaseosa. A continuacin se presentan dos
analizadores (DP5 y DP6) representativos de todos los prototipos
construidos y evaluados, que integran en diferente grado el sistema de
deteccin. Finalmente, y apartndonos del anlisis de aguas, se presenta
la sonda DP7, diseada para el anlisis de nutrientes en suelos y que
utiliza algunos de los aspectos estudiados en los anteriores prototipos,
aunque el mbito de aplicacin sea totalmente diferente.
Alegret, S.; Alonso, J.; Bartol, J.; Pauls, J.M.; Lima, J.L.F.C.; Machado, A.A.S.C.
Anal. Chim. Acta, 1984, 164, 147.
2
Ruzicka, J.; Hansen, E.H.; Anal. Chim. Acta, 1975, 78, 145.
4. Dispositivos potenciomtricos
4.1 Analizador de in
serpentina (DP1)
fosfato
con
mezclador
70
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.1:
A: Fotografa del
dispositivo.
B: Imagen en rayos X.
C: dimensiones del
dispositivo despus de
sinterizado:
a, b, c (entradas)= 4.1
mm de dimetro,
d (salida)= 4.1 mm de
dimetro,
e (cavidad para el ESI)=
4.9 mm de dimetro,
f= 12 bucles,
g= 13.6 mm, h= 34 mm,
f1= 5.1 mm, f2= 3.4 mm,
f3= 1.7 mm, f4= 0.6 mm.
C
f1
f4
f2
f3
a
f
d
e
Chen, Z.; De Marco, R.; Alexander P.W. Anal. Comm. 1997, 34, 93.
De Marco, R.; Phan, C. Talanta, 2003, 60, 1215.
8
Xiao, D.; Yuan, H.; Li, J.; Yu, R. Anal. Chem. 1995, 67, 288.
9
Beer, P.D. Acc. Chem. Res. 1998, 31, 71.
7
71
4. Dispositivos potenciomtricos
Para ello se utiliz una cola conductora de plata que se cur a 40C
durante 24h. Posteriormente, se sold un cable conductor sobre la pista
de cobre. El electrodo se insert en la cavidad diseada con esta
finalidad y se fij a ella mediante silicona.
A
Figura 4.2:
A: disco de cobalto con
capa de xido. B: disco
de cobalto normal.
CASA COMERCIAL
Gilson (Wisconsin, USA)
Hamilton MVP (Reno, USA)
TMI (Barcelona, Espaa)
Thermo (Whaltman, USA)
Ismatec (Zurich, Suiza)
Scharlab (Cambridge, UK)
CASA COMERCIAL
Fluka
Fluka
Fluka
Fluka
Fluka
Fluka
72
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.3:
Esquema del sistema de
flujo empleado para la
evaluacin del
dispositivo DP1.
4.1.3 EVALUACIN
DE
LA
INFLUENCIA
DE
LAS
VARIABLES
4.1.3.1 Caudal
Para el estudio del efecto del caudal en la seal obtenida se utiliza una
solucin acondicionadora de KHP 0.05 M y se inyectan 1.5 ml de un
patrn de 10 ppm de H2PO4- (ver Figura 4.4). Se observa que a
caudales bajos se obtiene una mayor altura de pico, hecho asociado al
mayor tiempo de contacto entre la muestra y la placa de cobalto. No
obstante, este mayor tiempo de contacto lleva asociado tambin un
mayor tiempo de anlisis. Como situacin de compromiso, se decide
trabajar con un caudal de 1.15 ml/min.
En la grfica 4.4 tambin se puede observar el efecto provocado por el
denominado potencial de corriente (Es, streaming potential). Cuando
los ESI se utilizan en sistemas de flujo continuo, al potencial medido
por la celda electroqumica, constituida por el electrodo indicador y el
de referencia, se le une el potencial de corriente. Cuando un fluido
circula por un tubo, entre los dos extremos de ste aparece una
diferencia de potencial cuya magnitud depende de diferentes factores
de acuerdo con la siguiente expresin:
Es =
2dDl
2 r 4
73
4. Dispositivos potenciomtricos
Potencial (mV)
500
Figura 4.4:
Evolucin de los picos
FIA obtenidos en
funcin del caudal
utilizado.
480
460
440
420
400
0
Tiempo (min)
480
Figura 4.5:
Relacin lineal entre el
potencial de corriente
generado y el caudal.
470
460
450
440
430
420
0,6
0,8
1,0
1,2
1,4
1,6
1,8
2,0
2,2
Caudal (ml/min)
74
4. Dispositivos potenciomtricos
Potencial (mV)
0.4 ml
0.8 ml
1.2 ml
1.6 ml
2.4 ml
3.2 ml
420
400
380
360
340
0
Tiempo (min)
55
50
Figuras 4.6:
A: registro de los picos
FIA obtenidos.
B: alturas de pico frente
al volumen de
inyeccin.
45
40
35
30
25
20
15
0
75
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.7:
Curvas de calibrado
obtenidas para
diferentes
concentraciones de
solucin
acondicionadora.
100
80
60
40
[KHP]=0.0125M
E=4.357+78.61log(x+0.6179); r2=0.9899
[KHP]=0.025M
E=-22.04+53.27log(x+2.443); r2=0.9847
[KHP]=0.05M
E=-63.91+90.67log(x+4.83); r2=0.9917
20
0
-20
0,1
10
100
[H2PO4 ] (ppm)
76
pot
X ,Y
(aY )
nx
nY
4. Dispositivos potenciomtricos
80
60
40
20
A
0
0,1
10
[H2PO4-] (ppm)
80
Cali1: E=-89.86+116.8log(x+6.232); LD=2.78 ppm
Cali2: E=-67.07+100.5log(x+5.168); LD=1.92 ppm
Cali3: E=-66.40+93.57log(x+5.925); LD=2.73 ppm
Cali4: E=-59.38+91.69log(x+5.028); LD=2.25 ppm
70
60
Figuras 4.8:
Rectas de calibrado
obtenidas con
A: [KHP]=0.025 M;
B: [KHP]=0.05 M.
50
40
30
20
10
0
0,1
10
[H2PO4-] (ppm)
12
77
4. Dispositivos potenciomtricos
500
0.2ppm
0.5ppm
1ppm
2ppm
4ppm
8ppm
10ppm
15ppm
20ppm
480
Figura 4.9:
Registro de un calibrado
por triplicado obtenido
con las condiciones
experimentales
optimizadas y patrones
puros.
Potencial (mV)
460
440
420
400
380
360
340
0
10
12
Tiempo (min)
Figura 4.10:
Comparativa de dos
calibrados obtenidos
con la configuracin
tubular convencional y
el electrodo integrado en
el dispositivo LTCC.
80
60
40
20
0,1
10
[H2PO4-] (ppm)
78
4. Dispositivos potenciomtricos
120
0.05 M
100
Figura 4.11:
Calibrados obtenidos al
variar la concentracin
de KHP. Patrones con
interferencias tipo
Llobregat. En el caso de
[KHP]=0.0125M, no se
pudieron cuantificar los
picos correspondientes a
concentraciones
inferiores a 4 ppm.
0.025 M
0.075 M
0.1 M
80
0.125 M
0.25 M
60
40
20
0
-20
0,1
10
[H2PO4-]
(ppm)
79
4. Dispositivos potenciomtricos
4.1.4 CONCLUSIONES
La integracin de electrodos selectivos a iones del tipo slido cristalino
homogneo, mediante su insercin en una cavidad especialmente
diseada para ello presenta ciertas ventajas. Por ejemplo su fcil
sustitucin cuando las caractersticas de respuesta del sensor
disminuyen. Adems, la configuracin tangencial de la celda de medida
parece incrementar la respuesta del sensor a bajas concentraciones,
mejorando el lmite de deteccin respecto a la configuracin tubular
convencional. Aunque una de las principales ventajas de la tecnologa
LTCC es la posibilidad de integrar monolticamente en el seno del
material cermico diferentes componentes, en este caso, la oxidacin de
la placa metlica de cobalto durante la sinterizacin lo hace inviable, tal
y como se explic en el apartado 4.1.
4.2 Analizador de in
serpentina (DP2)
cloruro
con
mezclador
Figura 4.12:
Efecto del proceso de
sinterizacin sobre un
disco de Ag2S/AgCl
pegado a una pista
conductora de Ag
serigrafiada sobre una
lmina de LTCC. Se
observa el xido
formado en la superficie
de la membrana sensora.
13
80
4. Dispositivos potenciomtricos
CASA COMERCIAL
Fluka
Fluka
Fluka
Fluka
Fluka
Figura 4.13:
Esquema del sistema de
flujo empleado para la
evaluacin del
dispositivo DP2.
4.2.3 EVALUACIN
DE
LA
INFLUENCIA
DE
LAS
VARIABLES
15
Ibaez-Garcia, N.; Machado Gonalves, R.D.; Mendes da Rocha, Z.; GngoraRubio, M.R.; Seabra, A.C.; Alonso Chamarro, J. Sens. Actuator B-Chem., 2006, 118,
67.
81
4. Dispositivos potenciomtricos
100
Figura 4.14:
Optimizacin del
volumen de inyeccin
para dos
concentraciones de
analito.
80
60
40
20
20ppm
200ppm
0
0
200
400
600
800
1000
1200
1400
1600
1800
Figura 4.15:
Efecto del caudal en las
alturas de pico de los
dos patrones de
cloruros.
90
80
40
30
20
0,6
0,8
1,0
1,2
1,4
Caudal (ml/min)
82
1,6
1,8
2,0
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.16:
Efecto de la
concentracin de K2SO4
en la respuesta del
electrodo.
100
80
60
40
20
0
0,0
0,1
0,2
0,3
0,4
0,5
0,6
[K2SO4] (M)
0.2
5
10
20
40
50
100
200
300
400
Figura 4.17:
Efecto de varias
concentraciones de
iones interferentes sobre
la respuesta del
electrodo. Condiciones
empleadas: volumen de
inyeccin de 680 l,
[K2SO4]=0.025 M y
caudal de 1.13 ml/min
10
20
30
40
60
70
50
40
30
20
10
0
NO3-
H2PO4-
HCO3-
In interferente
83
4. Dispositivos potenciomtricos
60
50
Figura 4.18:
Efecto de la variacin
de la concentracin de
K2SO4 de la solucin
acondicionadora y de su
pH sobre la respuesta
del electrodo al analizar
patrones de 50 ppm de
Cl- con diferentes
concentraciones de
HCO3-.
400ppm HCO3-
40
30
20
10
0
[K2SO4]=0.025M
[K2SO4]=0.025M
pH=5.5
pH=2.4
[K2SO4]=0.1M
pH=5.5
[K2SO4]=0.1M
pH=2.4
-120
-140
5ppm
10ppm
20ppm
40ppm
50ppm
80ppm
100ppm
200ppm
250ppm
500ppm
Potencial (mV)
-160
-180
-200
-220
-240
-260
0
20
40
60
80
100
Tiempo (s)
84
120
140
160
180
4. Dispositivos potenciomtricos
140
120
Figuras 4.19:
A: Picos FIA obtenidos
durante un proceso de
calibracin.
B: Secuencia de
calibrados.
[K2SO4]=0.1 M; pH=2.4
Viny=680 l;
Caudal=1.13 ml/min
100
80
60
40
20
0
10
100
1000
[Cl-] (ppm)
[Cl-] (ppm)
LTCC
Nominal
(n=3, 95%)
6.9
162
12.7
11.50.8
17.2
172
23
262
39.7
31.20.8
584
59970
EC
[HCO3-] nominal
(ppm)
12
7
14
22.8
33.2
603
135
107
252.2
420
295.3
2081
85
4. Dispositivos potenciomtricos
4.2.4 CONCLUSIONES
Al igual que sucediera con el dispositivo DP1, el electrodo selectivo a
iones no pudo ser integrado durante el proceso de sinterizacin porque
la oxidacin de su superficie anulaba sus propiedades sensoras. Sin
embargo, el carcter modular del sistema permiti el recambio del
electrodo cuando su funcionamiento no fue el ptimo.
Como en el caso anterior, se ha podido comprobar la efectividad del
mezclador pasivo en forma de serpentina tridimensional para conseguir
una perfecta mezcla entre reactivos. En este dispositivo, ha permitido
ajustar la fuerza inica y el pH de las muestras evitando as anomalas
en la forma del pico.
con
etapa
de
A
Figuras 4.20:
A y B: capas CAD
superpuestas. La
diferencia entre los dos
tipos de dispositivos se
encuentra en la forma de
la cavidad donde se
introduce la resina
preconcentradora.
a: cavidades donde se
introduce la rejilla
metlica verticalmente;
b: uno de los puntos de
carga de la resina;
c: columna
preconcentradora.
C: fotografas de los
dispositivos construidos:
d1= 2 cm; d2=5.3 cm.
D: imagen en rayos X.
86
C
D
d1
d2
4. Dispositivos potenciomtricos
Malla
suport
Mallade
soporte
Malla de
de control
control
Malla
de
de 15
15 micras
micres
Esquema
transversalduna
de
Esquemadedelalaseccin
secci transversal
una malla
sinterizada,
mallatricapa
tricapa de
de hilos
fils sinteritzada,
Thermobond
Thermobond
87
4. Dispositivos potenciomtricos
CASA COMERCIAL
Merck
Panreac
Fluka
Fluka
Merck
Panreac
Merck
Figura 4.22:
Grupo funcional de la
resina Lichrolut-NH2.
88
Si
O
Si
O Si
(CH2)3NH2
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.23:
Esquema del sistema de
flujo empleado para la
evaluacin del
dispositivo DP3. En
nmeros, las vlvulas
solenoides.
16
89
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.24:
Configuracin del
electrodo tubular en una
celda de metacrilato. Se
pueden observar la
entrada y salida de
lquido (conectores
verdes).
90
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.25:
Creacin de un camino
preferente al pasar el
flujo a travs de la
resina.
91
4. Dispositivos potenciomtricos
500
480
1er anlisis
5to anlisis
Potencial (mV)
460
440
420
400
380
360
30mV
340
320
0
Tiempo (min)
410
400
390
Potencial (mV)
Figuras 4.26:
Registros obtenidos para
un patrn de fosfatos de
0.2 ppm con
interferencias:
A: Variacin en la
altura y la lnea base.
B: Aparicin de dobles
picos y no recuperacin
de la lnea base.
380
370
360
350
340
0
Tiempo (min)
92
4. Dispositivos potenciomtricos
380
Sin sobrepresin
Con sobrepresin
Potencial LB (mV)
370
Figura 4.27:
Evolucin de la lnea
base a lo largo de 11
anlisis en un sistema
con y sin sobrepresin.
360
350
340
330
320
310
0
10
11
12
N anlisis
TIEMPO (min)
2
3
3
1
Tabla 4.7: Secuencia inicial de anlisis. Todos los caudales son de 1.6
ml/min.
93
4. Dispositivos potenciomtricos
O
Si
Si
Si
OK
O
(CH2)3NH2
Si
O
Si
s na
poncio
gprsufu
ingru
racels
nei d
geerac
Rgeen
Re
NH3 o Na2CO3
lit
na
'l a
n
ce
on
c
e
Pr
ci
tr a
de
al
it
OK
K2HPO4
Pr
ec
on
ce
ElE
uclu
nt
ic
ra
die
ci
nl'
n
an
OK
ls
Figura 4.28:
Esquema del proceso de
preconcentracin/
elucin del analito y
regeneracin de los
grupos funcionales.
(CH 2)3NH3
H2PO4 K+
O
OK
Si
O
Si
OH
O
Si
O
(CH 2)3NH3
2-
HPO4
94
4. Dispositivos potenciomtricos
160
140
Figura 4.29:
Calibrado realizado
utilizando patrones con
interferencias y bajo las
condiciones
experimentales de la
tabla 4.7.
120
100
80
60
40
20
0
0,1
10
100
[H2PO4-] (ppm)
Tabla 4.8: Segunda y tercera secuencia de anlisis. Los caudales son de 1.6
ml/min, excepto el de preconcentracin de muestra.
160
Secuencia 2: [KHP]=0.05M
Secuencia 3: [KHP]=0.07M
140
Figura 4.30:
Curvas de calibrado
obtenidas para la
secuencia 2 y 3.
120
100
80
60
40
20
0
0,1
10
[H2PO4-] (ppm)
95
4. Dispositivos potenciomtricos
TIEMPO (min)
4
4
3
3
96
4. Dispositivos potenciomtricos
460
a
440
Potencial (mV)
Col 1 vs 0.2ppm
Figura 4.31:
Evolucin del potencial
a lo largo de la
secuencia 4.
420
b
b
400
3
380
360
340
0
10
12
14
16
18
Tiempo (min)
120
Figura 4.32:
Alturas de pico para los
patrones de 0.2, 0.5 y
1 ppm bajo las
condiciones de la
secuencia 4.
110
100
90
80
70
60
0,1
[H2PO4-] (ppm)
4.3.4 CONCLUSIONES
La integracin de las rejillas de acero sinterizado como filtros ha
demostrado ser una adecuada alternativa para la retencin de partculas
como las de las resinas de intercambio inico. Escogiendo la
configuracin de dispositivo correcta, no se observan prdidas de
material y la compactacin, que suele ser un problema comn en
equipos que utilizan esta etapa de pretratamiento, se puede prever y
evitar mediante diversas frmulas.
97
4. Dispositivos potenciomtricos
C
3
98
4. Dispositivos potenciomtricos
Este equipo integra una etapa de difusin gaseosa necesaria para aislar
el analito de inters (el in amonio) del resto de la matriz, que podra
causar interferencias en el electrodo selectivo a iones utilizado.
Previo a la etapa de difusin, se transforma el in amonio en amonaco
gas basificando la muestra con hidrxido de sodio. El gas generado
difunde a travs de la membrana y es recogido por la solucin aceptora.
Esta ltima es una solucin de TRIS a pH 7.2 que convierte de nuevo el
amonaco gas en amonio. Este proceso de separacin permite eliminar
la interferencia del sodio o potasio presentes en la matriz. Si el caudal
de la solucin aceptora es inferior al caudal de la solucin donadora, se
consigue, adems, un efecto preconcentrador.
La etapa de difusin gaseosa del sistema miniaturizado se realiza
escalando adecuadamente tanto la configuracin como el tamao y tipo
de membrana utilizada (polifluoruro de vinilideno, PVDF). En el
equipo macro, esta membrana se coloca en medio de un soporte de
metacrilato especialmente diseado para ello, que tambin contiene las
entradas y salidas de flujo.
a
Figura 4.34:
A: imagen en rayos X.
B, C y D: fotografas
secuenciales del
dispositivo; en el bloque
a tiene lugar la
transformacin de
amonio a amonaco que
atraviesa la membrana
difusora (b) y es
recogido en el bloque c,
donde vuelve a ser
transformado en
amonaco. d1=27 mm;
d2= 58 mm.
C
D
d1
d2
99
4. Dispositivos potenciomtricos
CASA
COMERCIAL
Panreac
Baker
Fluka
Fluka
Fluka
Fluka
Merck
21
100
Alegret, S.; Alonso, J.; Bartroli, J.; Martinez-Fabregas, E. Analyst, 1989, 114, 1443.
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.35:
Esquema del sistema de
flujo empleado para la
evaluacin del
dispositivo DP4.
NaOH
TRIS
Sistema de
deteccin
H2O/Muestra
I
US
IF
N
3
NH
+H
+
H4
+O
/Muestra
Figura 4.36:
Funcionamiento de la
etapa de difusin
gaseosa y esquema del
montaje de la membrana
de difusin.
PVC
PVC
TRIS
NH4+
PVDF
PVC
PVC
NH3
101
4. Dispositivos potenciomtricos
8'
3'
4'
-20
2'
1'
-60
-100
0.5'
-80
2'*
Figura 4.37:
Altura de pico en
funcin del tiempo de
acumulacin de la
solucin portadora. 2*
corresponde a un pico
sin acumulacin. Patrn
de 5 ppm.
Potencial (mV)
-40
-120
-140
-160
0
10
15
20
25
30
Tiempo (min)
102
4. Dispositivos potenciomtricos
-60
Potencial (mV)
0.1ppm
0.2ppm
0.5ppm
2ppm
5ppm
10ppm
20ppm
-40
-80
-100
-120
-140
-160
0,0
0,2
0,4
0,6
0,8
1,0
1,2
1,4
1,6
Tiempo (min)
120
Figuras 4.38:
A: Registro de picos
obtenidos en un
calibrado del
dispositivo.
B: Curva de calibracin.
100
80
60
40
20
0
0,01
0,1
10
[NH4+] (ppm)
103
4. Dispositivos potenciomtricos
4.4.4 CONCLUSIONES
La metodologa de integracin de la membrana difusora de gases
propuesta es viable pero no es la ptima. La existencia de dos
elementos cermicos separados entre los cuales se sita la membrana
de difusin gaseosa genera en ocasiones problemas de estanqueidad,
que hacen el sistema poco robusto. Este hecho es inevitable debido a la
imposibilidad de integrar monolticamente la membrana plstica, ya
que no soporta las temperaturas a que se somete a las cermicas durante
el proceso de sinterizacin (850C). En estas condiciones, aunque se
consigue difundir analito a travs de la membrana, no se alcanzan los
lmites de deteccin obtenidos con el analizador convencional (0.1
ppm).
En el futuro y para solventar estos problemas, se proponen diferentes
alternativas:
a) integrar el electrodo selectivo a in amonio en el propio dispositivo
cermico con la finalidad de disminuir al mximo la dispersin/dilucin
sufrida por la muestra entre la etapa de difusin y su deteccin,
b) integrar la membrana difusora de gases en el seno del dispositivo
para evitar problemas de estanqueidad.
Para conseguir esto sera necesario utilizar una membrana porosa a
gases basada en aluminosilicatos que soportara altas temperaturas (por
lo menos 850C). Una membrana de estas caractersticas podra ser
ocluida en la estructura multicapa obtenindose una estructura
monoltica que integrara completamente la celda de difusin gaseosa.
Adems, sera interesante aumentar la superficie de contacto entre la
membrana y las disoluciones donadora y aceptora mediante la
fabricacin de una celda de difusin de configuracin en espiral.
22
104
4. Dispositivos potenciomtricos
Por ser estos los primeros dispositivos presentados que integran pistas
conductoras serigrafiadas, se dar una descripcin ms detallada de las
diferentes capas integrantes del diseo.
La figura 4.39 muestra el diagrama esquemtico del dispositivo, as
como de alguno de los elementos principales que lo componen. El
ancho de los canales, realizados en bajorelieve, queda prefijado por el
dimetro de la herramienta utilizada en su fabricacin (Contour Router
de 1.3 mm de dimetro) y por el nmero de capas empleadas, dos en
este caso. Las dimensiones de los canales en estado verde fueron 1.3
mm de ancho y 580 m (2x254 m cada capa) de profundidad.
Despus del proceso de sinterizado, las dimensiones se redujeron a ~1.1
mm y ~431 m, debido al encogimiento del ~15% en X, Y y Z.
En el dorso de la capa b (figura 4.39A) se depositaron pistas
conductoras (TC0307) de 1x0.5 cm de rea que actuaban como
electrodo de referencia y tomas de tierra. Estas pistas se conectaron al
exterior mediante vas o agujeros contenidos en las capas superiores y
rellenos de pasta conductora (TC0308). En la superficie, dichas vas se
conectaron con nuevas pistas conductoras serigrafiadas (TC0306) a las
cuales se soldaron los cables de conexin a la electrnica de medida
externa.
Figura 4.39:
A: capas componentes
del dispositivo: a: capa
superior (contiene las
conexiones para el
sistema de medida
externo y la cavidad
para depositar la
membrana); b: capa
intermedia (contiene
pistas conductoras
serigrafiadas); c: capa
fludica (contiene los
canales); d: capa
inferior soporte.
B: detalle de la zona de
deposicin de
membrana. C: esquema
de la seccin transversal
del dispositivo donde se
deposita la membrana.
Electrodo referencia
Tierra
Tierra
ESI
a
Vas conexin
Membrana
Pista conductora
Flujo de lquido
Deposicin
membrana
Capa a
Capa b
Capa c
Capa d
105
4. Dispositivos potenciomtricos
A
Figura 4.40:
A: membrana
depositada mediante el
mtodo preserigrfico.
B: membrana
depositada mediante el
mtodo del disco
preformado.
500 m
1mm
106
4. Dispositivos potenciomtricos
A
Figura 4.41:
Fotografas del
dispositivo para la
metodologa de
deposicin
preserigrfica.
A: a: entrada de
solucin de Cl-;
b: entrada de
agua/muestra; c: entrada
de solucin
acondicionadora;
d: conexin toma tierra;
e: electrodo de
referencia; f: pista
conductora sobre la cual
se deposita la
membrana; w: desguace
(salida fluidos).
d1: 3.9 cm. d2: 5.3 cm.
B: arquitectura interna
del dispositivo:
d3: 3.9 cm; d4: 1.4 cm;
d5: 18.4 mm;
d6: 2.7 mm.
d
d
e
w
d2
d1
B
d6
d3
d
f
e
d5
d4
107
4. Dispositivos potenciomtricos
CASA COMERCIAL
Panreac
Baker
Fluka
Merck
Fluka
Fluka
Fluka
Fluka
Fluka
Fluka
Merck
Figura 4.42:
Esquema del sistema de
flujo empleado para la
evaluacin del
dispositivo DP5.
23
Alegret, S.; Alonso, J.; Bartroli, J.; Lima, J. L. F. C.; Machado, A. A. S. C.; Paulis,
J. M. Anal. Lett., 1985, 18, 2291.
24
Knoll, M.; Cammann, K.; Dumschat, C.; Eshold, J.; Sundermeier, C. Sens. Actuator
B-Chem., 1994, 21, 71.
108
4. Dispositivos potenciomtricos
4.5.3 EVALUACIN
TECNOLOGA LTCC
109
4. Dispositivos potenciomtricos
0,04
TC0307 Heraeus
6142 Dupont
Figura 4.44:
Cronoamperometra de
las dos pastas
conductoras internas.
Potencial: 1.1 V.
Medio: 0.2 M KCl.
Intensidad (A)
0,03
0,02
0,01
0,00
0
200
400
600
800
1000
1200
1400
Tiempo (s)
Figura 4.45:
Fotos SEM de las pistas
antes y despus de la
oxidacin
a: TC0307 (Ag);
b: TC0307 (AgCl);
c: 6142 (Ag);
d: 6142 (AgCl).
110
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.46:
XPS de la pista TC0307
de Heraeus despus de
la oxidacin.
A: zona en forma de
agujas;
B: zona granulada.
Figura 4.47:
Evolucin del potencial
en funcin del tiempo,
en un fondo 0.1 M KCl,
agitacin y oscuridad.
55
50
45
40
35
30
0
20
40
60
80
100
120
Tiempo (min)
111
4. Dispositivos potenciomtricos
DE
LA
INFLUENCIA
DE
LAS
VARIABLES
Figura 4.48:
Optimizacin del
volumen de inyeccin.
[TRIS]=0.01 M y caudal
de 1.13 ml/min.
140
120
100
80
60
40
20
0
200
400
600
800
112
1000
1200
4. Dispositivos potenciomtricos
90
Figura 4.49:
Optimizacin del
caudal. [TRIS]=0.01M y
volumen de inyeccin
450 l.
80
70
60
50
5ppm
50ppm
40
0,2
0,4
0,6
0,8
1,0
1,2
1,4
1,6
1,8
2,0
2,2
Caudal (ml/min)
140
5ppm
50ppm
Figura 4.50:
Optimizacin de la
concentracin de TRIS.
Caudal 1.15 ml/min y
volumen de inyeccin
450 l.
120
100
80
60
40
20
0
0,00
0,02
0,04 0,08
0,10
0,12
[TRIS] (M)
RECTA DE
RANGO
L.D.12
CALIBRADO
LINEAL
E=2(5)+46(3)log[NH4+] 2-50 ppm 0.480.04 ppm
(n=5, 95%); r2>0.995
(n=7)
E=5(6)+44(4)log[NH4+] 2-50 ppm 0.470.04 ppm
(n=3, 95%); r2>0.995
(n=3)
113
4. Dispositivos potenciomtricos
100
Figura 4.51:
Comparacin de varios
calibrados obtenidos
con el dispositivo de
amonio y los dos tipos
de electrodos de
referencia empleados.
80
60
40
20
0,01
0,1
10
100
[NH4+] (ppm)
-80
Potencial (mV)
Figura 4.52:
Registro obtenido con el
microsistema donde se
deposit la membrana
utilizando la
metodologa de
deposicin
preserigrfica bajo las
condiciones
experimentales
optimizadas.
0.1ppm
0.2ppm
0.5ppm
1ppm
2ppm
5ppm
10ppm
20ppm
50ppm
-100
-120
-140
-160
-180
0,0
0,2
0,4
0,6
0,8
1,0
1,2
1,4
1,6
Tiempo (min)
114
4. Dispositivos potenciomtricos
DE
LA
INFLUENCIA
DE
LAS
VARIABLES
RANGO
ESTUDIADO
0.69-1.87
150-1720
0.025-0.5
2.4 y 5.5
VALOR
PTIMO
1.15
680
0.1
2.4
Potencial (mV)
-20
-40
-60
-80
-100
-120
-140
0,0
0,2
0,4
0,6
0,8
1,0
1,2
Tiempo (min)
115
4. Dispositivos potenciomtricos
140
1er calibrado
2do calibrado
3er calibrado
4to calibrado
5to calibrado
120
Figura 4.53:
A: registro de picos
obtenidos en un
calibrado; B: secuencia
de cinco calibrados.
100
80
60
40
20
0
B
0,1
10
100
1000
10000
[NO3-] (ppm)
116
4. Dispositivos potenciomtricos
y
y
La futura aplicacin de los microanalizadores en la monitorizacin insitu de parmetros de inters medioambiental en un entorno real hace
necesario prever la existencia en la muestra, junto al analito, de un
conjunto de potenciales especies interferentes. Aprovechando la
versatilidad que proporciona la tecnologa LTCC, en este apartado, se
propone la fabricacin de dispositivos multiparamtricos. Estudios
previos realizados en nuestro grupo de investigacin han puesto de
manifiesto que el in cloruro es el principal interferente en la respuesta
de los electrodos selectivos a nitrato. Este efecto es especialmente
importante si se tiene en cuenta que la concentracin del interferente
puede doblar la del analito en aguas naturales.13
d1
a
2
2
d
Figura 4.54:
A: prototipo 1;
B: prototipo 2;
C: prototipo 3. Para
todos ellos:
a: entrada de solucin
acondicionadora;
b: entrada de
muestra/patrn;
c: entrada de solucin
de cloruros para
estabilizar el potencial
de referencia;
d: salida o desguace;
1: tomas de tierra;
2: electrodo de
referencia;
3: pista conductora
sobre la que se deposita
la membrana selectiva a
nitratos depositada;
4: disco slido sensor de
cloruros, sin pista
conductora; d1= 28 mm;
d2= 56 mm; d3= 47 mm;
d4= 53 mm.
d2
d
4
1
3
d3
a
d4
2
3
117
4. Dispositivos potenciomtricos
Por este motivo, en vista de los ptimos resultados obtenidos con los
analizadores de in nitrato (DP5) y cloruro (DP2), se disea un
dispositivo biparamtrico para poder realizar el anlisis simultneo de
los dos iones. De esta manera, tal y como sucede con el equipo
comercial desarrollado por el GSB en colaboracin con Adasa Sistemas
(Aquanitra), la obtencin de la concentracin de cloruros en el medio
nos ayuda a corregir la concentracin de nitratos determinada por el
electrodo selectivo a esta especie.
En la figura 4.54 se muestran tres de las diversas versiones construidas
del analizador biparamtrico. En los tres dispositivos se han sombreado
las zonas correspondientes a la ubicacin de las pistas conductoras
serigrafiadas. Las zonas gris claro simbolizan las pistas conductoras
internas que estn en contacto directo con los lquidos que circulan por
los canales que se encuentran bajo ellas. Las pistas internas, como se ha
descrito con anterioridad, se ponen en contacto con las externas o
superficiales (simbolizadas con regiones gris oscuro) mediante unos
pequeos agujeros o vas rellenas con pasta conductora. El dispositivo
4.54C es algo ms complicado puesto que las pistas internas y las
superficiales no se ponen en contacto slo mediante una va de
conexin. Entre ellas existe una capa de cermica con otra pista
conductora y es sta la que pone en contacto a las pistas conductoras
internas con las superficiales. Esto permite evitar que una misma pista
interna estuviera en contacto simultneamente con la muestra y la
solucin de cloruros estabilizadora del potencial de referencia.
A parte de lo referente a la serigrafa, las principales diferencias entre
los dispositivos se deben a los mezcladores. Los prototipos 1 y 2
contienen mezcladores serpentina, el segundo ms corto que el primero,
de manera que se consigue alejar a los electrodos selectivos del canal
del electrodo de referencia. El mezclador del prototipo 3 se construye
utilizando la tcnica de bajo relieve.
Para la integracin del sistema de deteccin (tanto la membrana
polimrica, como el disco slido policristalino y el electrodo de
referencia) se siguen las metodologas utilizadas en el caso de los
dispositivos DP2 y DP5 (4.2 y 4.5).
4.6.1 MATERIALES Y REACTIVOS
Se utilizaron los mismos reactivos que para la evaluacin de los
dispositivos DP2 (4.2.1) y DP5 (4.5.1) (analizador de in nitrato).
La evaluacin de los dispositivos se realiz calibrando cada uno de los
electrodos selectivos por separado y luego preparando patrones mixtos.
4.6.2 MONTAJE EXPERIMENTAL
El mismo utilizado en la evaluacin del dispositivo DP5 (4.5.2),
donde la solucin acondicionadora es K2SO4 0.1 M ajustado a pH = 2.4
con H2SO4.
118
4. Dispositivos potenciomtricos
DE
LA
INFLUENCIA
DE
LAS
VARIABLES
Potencial (mV)
140
Figura 4.55:
Respuesta de ambos
electrodos selectivos al
calibrarlos con patrones
de Cl- puros.
120
100
80
60
40
20
0
0
10
15
20
25
30
Tiempo (min)
25
119
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.56:
Calibrado en
discontinuo de dos
membranas selectivas a
NO3-.
Potencial (mV)
220
200
180
160
E=-284.7-59.27log(x+3.788); r2=0.998
E=-290.0-60.93log(x+5.577); r2=0.997
140
120
0,01
0,1
10
100
1000
[NO3 ] (ppm)
160
140
Figura 4.57:
Comparacin de
calibrados del electrodo
de Cl- en diferentes
condiciones del
electrodo de referencia.
120
100
80
60
40
Ref. integrado
ORION sin flujo ClORION con flujo Cl-
20
0
1
10
100
[Cl-] (ppm)
120
1000
4. Dispositivos potenciomtricos
121
4. Dispositivos potenciomtricos
110
Figura 4.58:
Calibracin de los
electrodos integrados en
el prototipo 3.
100
P3
90
P2
80
P3
P2
70
P1
60
50
P1
40
1
10
100
1000
122
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.59:
A y B: dibujos CAD de
dos sondas donde
d1= 25.5 mm;
d2= 47 mm;
d3= d4= 53 mm;
a: conexin al ESI d;
b: conexin al electrodo
de referencia f;
c: conexin al electrodo
e. C: fotografa del
dispositivo B.
d3
a
d4
d2
26
Lemos, S.G.; Nogueira, A.R.A.; Torre-Neto, A.; Parra, A.; Artigas, J.; Alonso, J., J.
Agric. Food Chem., 2004, 52, 5810.
27
Parra, A., Tesis Doctoral, Universidad Autnoma de Barcelona, Cerdanyola del
Valls, Espaa, 2007.
123
4. Dispositivos potenciomtricos
CASA COMERCIAL
Baker
Fluka
Fluka
Panreac
Figura 4.60:
Montaje experimental
para realizar el calibrado
de la sonda en tierra.
124
4. Dispositivos potenciomtricos
4.7.3 INFLUENCIA
Figura 4.61:
Esquema y fotografa de
las sondas con las que se
evaluaron los electrodos
de referencia. La flecha
indica la zona de la pista
conductora tratada para
conseguir el par
correspondiente.
125
4. Dispositivos potenciomtricos
400
Potencial (mV)
Ag/AgCl
300
[NH4NO3](M) vs E NO3[NH4NO3](M) vs E REF
[NH4NO3](M) vs E NH4+
[NH4NO3](M) vs e NO3[NH4NO3](M) vs e REF
[NH4NO3](M) vs e NH4+
Cu/CuO
-100
1e-7
1e-6
1e-5
1e-4
1e-3
1e-2
1e-1
[NH4NO3] (M)
300
Figura 4.62:
Evaluacin de los
electrodos de referencia
A: primer calibrado
realizado;
B: calibrado realizado a
las 24 horas del primero.
Potencial (mV)
Ag/AgCl
250
0
Cu/CuO
-50
1e-7
1e-6
1e-5
1e-4
1e-3
1e-2
1e-1
[NH4NO3] (M)
126
4. Dispositivos potenciomtricos
0,01
0,1
10
100
Figura 4.63:
Calibrado completo de
la sonda. Fondo de
TRIS 0.01 M (pH=7.3).
Potencial (mV)
200
1000
Ag/AgCl
100
ESI NO30
ESI NH4+
-100
-200
-300
0,01
0,1
10
100
1000
[NO3 ] (ppm)
-100
H2Water
O
-120
10-4 M
-140
Potential (mV)
Potencial (mV)
-5
10 M
-160
-180
10-3 M
-200
Y=
Y=-46,68
-46,68xx-337,5
-337,5
22
r r=
=0,9975
0,9975n=4
n=4
-220
-2
10 M
-240
-260
Nitrate sensor
HWater
2O
10-1 M
-280
-300
0
1000
2000
Tiempo (s)
3000
4000
5000
Time (s)
127
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.64:
Calibracin de la sonda
en suelo.
A: registro obtenido con
el sensor de NO3-; B:
registro obtenido con el
sensor de NH4+.
-20
-40
10-1 M
Amonium sensor
-60
10-2 M
-80
Y= 41.9x + 253.2
r2= 0.9787; n=5
-100
10-3 M
-120
H2O
-140
10-4 M
Water
-160
-5
10 M
-180
-200
00
1000
200
400 2000
600
Tiempo (s)
3000 800
4000
1000
5000
1200
Time (s)
Figura 4.65:
Montaje experimental
para la monitorizacin
de la dinmica de
nutrientes en un proceso
de crecimiento vegetal.
Se utiliz una fuente de
potencial y un Data
Logger para la
adquisicin de datos
durante 45 das.
28
Brady, N.C.; Weil, R.R. in: The nature and properties of soil; Prentice Hall, Inc.,
Upper Saddle, River, NJ; 1996, ISBN: 0-02-313371-6, 11 Ed.
128
4. Dispositivos potenciomtricos
-100
Ammonium
+
3: NH
Nitrification
process
4 NO
3
P t
ti l ( V)
Potencial (mV)
[NH4+]
[NH4+]? [NO3-]
-200
?of [NH4+]
Fertilizer supply
2
(1g of NH NO )
-300
Conditioning and
stabilitzation Period
(water additions)
-400
0
10
20
30
Tiempo (das)
Conditioning and
stabilitzation Period
(water additions)
Nitrat
-100
40
Time (days)
Fertilizer supply
2(1g of NH NO )
4
ti l ( V)
Potencial (mV)
P t
Figura 4.66:
A: evolucin de la
concentracin de NH4+;
B: evolucin de la
concentracin de NO3-.
-200
[NO3-]4
?
vegetable
?of [NO
33-]
consumption
-300
B
-400
0
10
20
Tiempo (das)
30
40
Time (days)
129
4. Dispositivos potenciomtricos
Figura 4.67:
Sondas fabricadas con el
equipo lser.
Cabe sealar que los resultados obtenidos con ellas son equivalentes a
los de las anteriores sondas. Sin embargo, la confirmacin de su
aplicabilidad general requiere de su evaluacin en diferentes tipos de
suelos y bajo las estrictas condiciones de campo, que incluyen
situaciones diversas como cambios de temperatura o de humedad.
130
5. DISPOSITIVOS AMPEROMTRICOS
n este captulo se describe el diseo, fabricacin y evaluacin
de dispositivos miniaturizados que integran monolticamente
detectores electroqumicos basados, en este caso, en medidas
amperomtricas.
El objetivo de los prototipos construidos es la determinacin de
pesticidas (organofosfatos, carbamatos, etc.) por el efecto inhibidor que
estos presentan sobre la actividad de la enzima acetilcolinesterasa. Esta
enzima cataliza la reaccin de hidrlisis de la acetiltiocolina (sustrato)
en tiocolina (producto), pudindose monitorizar esta ltima
amperomtricamente.
Figura 5.1:
Dispositivos para la
evaluacin de la
integracin del sistema
de medida
amperomtrico:
a: entrada de muestra;
b: entrada de tampn;
c: entrada de solucin
de KCl; d: desecho;
e: electrodos de platino;
f: electrodo de
referencia.
d1= 5.2 cm; d2= 2.6 cm.
d1
d2
Las zonas en gris indican el electrodo de referencia que, al igual que en
otros dispositivos, se coloca en un canal auxiliar por el que se haca
fluir una solucin de KCl para mantener un potencial de referencia
constante.
5. Dispositivos amperomtricos
132
5. Dispositivos amperomtricos
c
b
a
e
w
f
g
R1
R2
Figura 5.2:
Dispositivo utilizado
para realizar deteccin
amperomtrica con
mezclador serpentina.
A: estructura interna
tridimensional.
B y C: fotografas del
dispositivo despus de
sinterizar.
D: integracin de la
placa de platino en la
cavidad cermica.
a: entrada disolucin de
KCl 0.1M (referencia);
b: entrada de solucin
de acetiltiocolina;
c: entrada de solucin
de pesticida o agua;
d: entrada de solucin
de enzima;
e: pista conductora
(conectada al electrodo
de referencia interno);
f: electrodo auxiliar de
platino;
g: electrodo de trabajo
de platino;
w: desecho;
d1: 5 cm; d2: 5 cm;
R1: reactor 1;
R2: reactor 2.
e
d1
f
g
d2
C
e
f
g
D
Epoxy
aislante
Flujo lquido
Cable
soldado
Placa Pt
Pasta de vidrio
sinterizable
133
5. Dispositivos amperomtricos
a b
c d e
d2
f
g
h
Figura 5.3:
A: fotografa del
dispositivo con los
conectores elctricos y
fludicos; B: estructura
interna tridimensional,
donde:
a: desecho;
b: entrada de disolucin
de KCl 0.1M;
c: entrada de
acetiltiocolina;
d: entrada de
agua/muestra;
e: entrada de enzima;
f: pista conductora
(conectada al electrodo
de referencia interno);
g: electrodo auxiliar de
platino y conexin;
h: electrodo de trabajo
de platino y conexin;
d1: 5cm; d2: 5cm;
R1: reactor 1;
R2: reactor 2.
d1
c
a
d e
B
R1
h
R2
Llopis, X.; Ibaez-Garcia, N.; Alegret, S.; Alonso, J. Anal. Chem., DOI:
10.1021/ac062390z
134
5. Dispositivos amperomtricos
CASA COMERCIAL
Wilson (Wisconsin, USA)
Omnifit (NJ, USA)
Ismatec (Zurich, Suiza)
Scharlab (Cambridge, UK)
Bioanalytical Systems LC-4C
Fluka
Fluka
Fluka
Sigma
Sigma
Riedel-de Han
AChE
CH3COOH + HS-CH2-CH2-N+(CH3)3
Electrodo de trabajo:
2 HS-CH2-CH2-N+(CH3)3
500mV
-2e-
(H3C)3N+-CH2-CH2-S-S-CH2-CH2-N-(CH3)3 + 2H+
Joshi, K.A.; Tang, J.; Haddon, R.; Wang, J.; Chen, W.; Mulchandani, A.
Electroanalysis, 2005, 1, 54.
135
5. Dispositivos amperomtricos
Figura 5.4:
Esquema del sistema de
flujo empleado para la
evaluacin de DA.
1,5
1,0
I(A)
Figura 5.5:
Experimentos de
inhibicin preliminares.
Inyecciones de 100 l
de pesticida (carbofuran
10 ppb) a un caudal de
1.16 ml/min.
[ATCh ]= 5 mM;
[AChE]= 0.3 U.
Uso del electrodo de
referencia integrado.
0,5
0,0
Blanco
Blanco
10ppb
-0,5
300
320
340
360
380
400
420
440
460
480
Tiempo (min)
136
5. Dispositivos amperomtricos
I (A)
Figura 5.6:
Inyecciones
consecutivas de una
solucin de tiocolina
100 mM (volumen de
inyeccin: 100 l;
caudal: 1 ml/min).
0,4
0,3
0,2
0,1
0,0
90
100
110
120
130
140
150
Tiempo (min)
137
5. Dispositivos amperomtricos
A
30
I (A)
20
Insercin de tampones
10
0
500mV
Acondicionamiento con tiocolina
-10
-20
-500mV
-30
0
2000
4000
6000
8000
10000
Tiempo (s)
12
10
I (A)
Figura 5.7:
A: Pasivacin
controlada de la
superficie de los
electrodos con tiocolina
5 mM e inyeccin de
25 l de la misma
solucin a un caudal
de 0.75ml/min;
B: ampliacin de la
zona destacada en la
figura 5.7A.
B
Col 1 vs Col 2
0
8000
9000
10000
Tiempo (s)
138
11000
12000
5. Dispositivos amperomtricos
50
40
I (A)
Figura 5.8:
Voltametras
hidrodinmicas del
tampn A y de tiocolina
2 mM.
Caudal: 0.5 ml/min.
Barrido de potencial de
0 a 700 mV
(incrementos de 100
mV).
30
20
10
0
0
200
400
600
800
139
5. Dispositivos amperomtricos
I (A)
I (A)
Figura 5.9:
Registro de los picos
obtenidos y recta de
calibrado del
microsistema frente a
tiocolina . Se usaron
patrones de 0.08, 0.2,
0.5, 1 y 2 mM.
Volumen de inyeccin:
25 l; caudal: 1.0
ml/min; potencial: 500
mV vs. Ag/AgCl.
Solucin transportadora:
tampn A.
0
0,0
0,5
1,0
1,5
2,0
Tiocolina (mM)
3
2
1
0
110
120
130
140
Tiempo (min)
200
0,25 U AChE
0,5 U AChE
0,75 U AChE
1 U AChE
180
160
140
I (nA)
120
Figura 5.10:
Curvas de MichaelisMenten. Volumen de
inyeccin: 25 l.
Caudal: 0.5 ml/min
100
80
60
40
20
0
0
10
20
[ATCh] (mM)
140
30
40
5. Dispositivos amperomtricos
Figura 5.11:
Calibrado con
inhibicin de
carbofurano. Potencial
aplicado: 500 mV vs.
Ag/AgCl; caudal:
0.096 ml/min;
Volumen de enzima:
25 l de una solucin
madre de 0.5 U/ml
(0.0125 U);
[ATCh]= 10 mM;
tampn A (pH 7.4).
% Inhibicin
80
60
40
20
0
0
100
200
300
400
500
[Carbofuran] (nM)
5.1.4 CONCLUSIONES
En este captulo se ha demostrado la posibilidad de aplicar la tecnologa
LTCC para la fabricacin de un dispositivo analtico con deteccin
amperomtrica. El analizador miniaturizado incorpora el electrodo de
referencia anteriormente evaluado y dos placas de platino como
electrodos de trabajo y auxiliar.
4
Nunes, G.S.; Skladal, P.; Yamanaka, H.; Barcel, D. Anal. Chim. Acta, 1998, 362,
59.
5
Directiva 80/778/CEE relativa a la calidad de las aguas destinadas al consumo
humano.
141
5. Dispositivos amperomtricos
142
6. DISPOSITIVOS PTICOS
e entre los diferentes principios de deteccin empleados en
Qumica Analtica, los mtodos pticos ocupan un lugar
prominente. Este hecho es debido fundamentalmente a dos
factores: por un lado su elevada sensibilidad y por otro la amplia
variedad de reactivos auxiliares existentes que permiten mejorar la
selectividad intrnseca del fenmeno ptico utilizado. En este apartado
se ha explorado la integracin de sistemas de deteccin pticos sobre
plataformas de microfludica fabricadas mediante la tecnologa LTCC.
Con el objetivo de visualizar la potencialidad y versatilidad de esta
tecnologa para el desarrollo de microanalizadores con deteccin
ptica, se han fabricado dispositivos basados tanto en medidas de
absorcin molecular como quimioluminiscentes.
Baeza, M.D.M.; Ibanez-Garcia, N.; Baucells, J.; Bartroli, J.; Alonso, J. Analyst,
2006, 131, 1109.
6. Dispositivos pticos
CASA COMERCIAL
Wilson (Wisconsin, USA)
Omnifit (NJ, USA)
Ismatec (Zurich, Suiza)
Scharlab (Cambridge, UK)
Tecan (Zurich, Suiza)
NResearch (NJ, USA)
Novaspec II
(Qubec,Canad)
Hellma (Mllheim,
Alemania
144
6. Dispositivos pticos
REACTIVO
Nitrito de potasio
cido fosfrico (85%)
NED (99%)
Sulfanilamida (98%)
CASA COMERCIAL
Fluka
Panreac
Panreac
Panreac
145
6. Dispositivos pticos
A
Figura 6.1:
Dispositivo utilizado
para la determinacin de
nitritos, se pueden
observar dos entradas (a
y b), una salida (c) y la
ventana de deteccin
(d). A: fotografa real
donde d1= 22 mm; d2=
26 mm. B: imagen en
rayos X.
a b
d2
d1
A
1
Colorante
H2O
Figura 6.2:
A: Esquema del sistema
de flujo empleado para
la evaluacin del
dispositivo DO1.
1 y 2 indican las
vlvulas de 3 vas.
B: Fotografa del
montaje experimental
donde a: vlvulas de 3
vas, b: caja
contenedora del
microchip y el sistema
de deteccin y
c: microbureta.
146
LTCC
BURETA AUTOMTICA
Desecho
a
b
6. Dispositivos pticos
147
6. Dispositivos pticos
Figura 6.3:
Montaje del sistema de
deteccin y el
dispositivo cermico
Park, S.H. in: Robust Design and Analysis for Quality Engineering, Chapman &
Hall, London, 1996.
5
Box, G.E.P.; Wilson, K.B. J. Roy. Statist. Soc., 1951, 13, 1.
148
6. Dispositivos pticos
0,6
Figura 6.4:
Evolucin de la seal
obtenida en funcin del
volumen de reactivo
aadido en la
preparacin del
colorante azoico.
[NO2-]=10 ppm.
Caudal: 5.83l/s.
Microbureta de 250l.
0,4
0,2
0,0
20
40
60
149
6. Dispositivos pticos
Figura 6.5:
Calibrado obtenido con
patrones en los que el
NO2- haba reaccionado
con 10 ml de reactivo.
1,4
1,2
1,0
0,8
0,6
0,4
0,2
0,0
10
15
[NO2-]
20
25
30
35
(ppm)
V
0<t< s
C (t ) = C o 1 e V
Q
Qt
Vs
V
C (t ) = C o e V 1e V
t> s
Q
(6.1)
(6.2)
150
6. Dispositivos pticos
V = RCTA Q
(6.3)
t>0
(6.4)
0,8
Figura 6.6:
Escaln realizado con
10 ppm de NO2- y 10 ml
de reactivo. Se marcan
los dos tiempos de
residencia.
0,6
63.21%
0,4
0,2
RFP
0,0
RCTA
0
10
20
30
40
50
Tiempo (s)
Levenspiel, O. in: The Chemical Reactor Ommibook, OSU Book Stores, Corvallis,
OR, 1979.
151
6. Dispositivos pticos
Se repite la misma experiencia para dos concentraciones de NO2situadas dentro del rango lineal de trabajo (10 y 15 ppm), cuatro
caudales (comprendidos entre 4.16 y 25 l/s) y cuatro volmenes de
inyeccin (de 5 a 60 l). Los tiempos de cada una de las 4 fases
constituyentes del proceso de anlisis, tienen que ser adaptados a cada
condicin experimental. As, concentraciones de colorante elevadas
necesitan mayores tiempos de limpieza (t3) o caudales superiores
requieren de menos tiempo de inyeccin de colorante (t2), por ejemplo.
Antes de proceder a la modelizacin, se lleva a cabo la normalizacin
de las seales obtenidas. Es decir, se representa el cociente C/C0 (donde
C0 es la seal mxima obtenida en ausencia de dispersin) en funcin
del tiempo, para que las absorbancias sean independientes de la
concentracin.
La figura 6.7 muestra la comparacin de los resultados obtenidos
experimentalmente (lnea negra) con los modelizados (lnea roja). Las
colas de los picos presentan una ligera desviacin respecto a la teora,
probablemente debido a efectos de dispersin que no han sido tenidos
en cuenta en el modelo. Sin embargo, tal y como se observ en el caso
del dispositivo de silicio, se obtiene una buena concordancia entre el
tipo de respuesta obtenida con el microsistema LTCC y la respuesta
terica correspondiente a un sistema que combina un RCTA y un RFP
en ausencia de dispersin.
0,6
V1= 15 l
V2= 20 l
V3= 30 l
0,5
V4
V4= 40 l
0,4
Figura 6.7:
Efecto de la
concentracin sin
reaccin qumica, a un
volumen variable y un
caudal constante
(6.25 l/s).
C/C0
V3
0,3
C0 = 10 ppm
Q = 6.25 ls-1
V2
0,2
V1
0,1
0,0
0
10
20
30
40
50
tiempo (s)
Estos resultados nos permiten concluir que existe una mezcla efectiva
en el microsistema. Para comprobarlo experimentalmente se procede a
verificar la reaccin qumica en el interior de los microcanales.
6.1.4.2 Reaccin qumica
Las condiciones experimentales para llevar a cabo la evaluacin del
microsistema cuando la reaccin qumica tiene lugar dentro del
dispositivo cermico se escogen a partir de la caracterizacin
hidrodinmica realizada durante el proceso de modelizacin anterior
del dispositivo.
152
6. Dispositivos pticos
Figura 6.8:
Calibrado realizado con
el chip de LTCC. Slo
se muestran los picos
que entraron dentro del
rango lineal.
0,5
0,4
0,3
0,2
0,1
0,0
0
20
40
60
80
100
120
140
tiempo (s)
6.1.5 CONCLUSIONES
Los resultados muestran que, en lo relativo a la determinacin
colorimtrica de in nitrito, a pesar del pequeo volumen del reactor
del microanalizador LTCC (55 l), se produce una mezcla totalmente
efectiva. Este hecho se asocia a la presencia en el microcanal de codos
de 90 y 180 grados que, tal y como ya sucediera en el estudio
hidrodinmico del microchip de silicio, provocan una mezcla ms alta
de lo esperada para este tipo de sistemas donde normalmente
predominan regmenes de flujo laminar.
La integracin de la ventana de deteccin se realiza de manera sencilla.
Sin embargo, es importante destacar la limitacin inherente al escalado
de las dimensiones del camino ptico de la celda de deteccin, ya que
puede aumentar drsticamente el lmite de deteccin e invalidar el uso
del microsistema ante determinadas aplicaciones.
153
6. Dispositivos pticos
6.2 Microanalizador
basado
en
medidas
de
quimioluminiscencia. Celda de medida basada en
la configuracin mezclador vrtex (DO2)
Los mtodos de deteccin quimioluminiscentes ofrecen algunas
ventajas respecto a los basados en medidas de absorbancia puesto que,
a parte de ser sensibles y selectivos, no requieren de una fuente
emisora, con lo que la instrumentacin del sistema de medida se
simplifica
notablemente.
Adicionalmente,
las
tcnicas
quimioluminiscentes soportan mejor el proceso de escalado que es
necesario realizar para su integracin en microsistemas de anlisis.
Aunque la magnitud de la seal obtenida depende de la poblacin de
especies capaces de emitir, y sta disminuye en el proceso de escalado,
la seal generada por el detector puede ser amplificada enormemente
sin verse sometido a problemas de saturacin como ocurre con los
sistemas basados en absorcin de radiacin. Las reacciones
quimioluminiscentes presentan como caracterstica singular que, en
ocasiones, la intensidad de emisin se puede ver inhibida en presencia
de un exceso de molculas de la especie quimioluminiscente. Puesto
que el mximo de intensidad lumnica decae exponencialmente en
pocos segundos, la mezcla de muestra y reactivos debe producirse de la
forma ms rpida posible y en la propia cmara de medida para
permitir registrar el mximo de intensidad en el menor tiempo. Este
hecho condiciona el diseo de las celdas de medida en
quimioluminiscencia haciendo poco adecuados los esquemas de los
sistemas de flujo utilizados habitualmente. Para la fabricacin de estos
dispositivos, se escogi la configuracin del mezclador tipo vrtex
dado que, a parte de favorecer un rpido mezclado entre reactivos,
permiten dejar una ventana abierta en la cual ubicar el detector sobre la
zona de reaccin. De esta manera se evitan prdidas de intensidad
quimioluminiscente. En un mezclador vrtex, existen, por lo menos,
dos entradas de reactivos distintas que se bifurcan en dos o ms canales
antes de llegar a la cmara de reaccin, de manera que la mezcla, no
slo se ve favorecida por la velocidad con la que entran los reactivos a
la cmara (generando una gran turbulencia) sino porqu se incrementa
el rea de contacto entre ellos (aumentando as la difusin).7,8
7
Lin, C.H.; Tsai, C.H.; Fu, L.M. J. Micromech. Microeng., 2005, 15, 935.
Wong, S.H.; Ward, M.C.L.; Wharton, C.W. Sens. Actuator B-Chem., 2004, 100,
359.
8
154
6. Dispositivos pticos
Figura 6.9:
Simulacin de la
generacin de un vrtex
a partir de 2 reactivos
(rojo y azul) que se
bifurcan en: A: cuatro
canales de cada una de
las dos disoluciones
antes de entrar en la
cmara de reaccin;
B: ocho canales.
Figura 6.10:
Estrategias para la
fabricacin de un vrtex
con 8 entradas.
A: una sola capa de
cermica mecanizada;
B: 2 capas laminadas y
canales cortados
totalmente;
C: 2 capas laminadas y
canales en bajo relieve.
155
6. Dispositivos pticos
B
a
Figura 6.11:
A y B: figuras en CAD
de los 6 dispositivos
construidos. Difieren
entre ellos en el nmero
de entradas a la cmara
de reaccin (A: 8 y
B: 4); a: = 0.9 cm;
b: = 0.45 cm;
c: = 1.2 cm; C: dibujo
de la estructura interna
tridimensional;
D: reverso de uno de los
dispositivos, se puede
observar la cmara de
reaccin.
156
6. Dispositivos pticos
Figura 6.12:
Proceso de oxidacin
del luminol en medio
bsico y presencia de un
catalizador
Por otro lado, existen compuestos que tienen un efecto inhibidor sobre
la CL, reduciendo la intensidad de luz emitida. El porcentaje de
inhibicin se utiliza para determinar indirectamente la concentracin de
la especie inhibidora que, en ocasiones, es de gran inters. Tal es el
caso de algunos frmacos, cuya determinacin en aguas de consumo
esta empezando a ser considerada de inters prioritario por sus
potenciales efectos negativos sobre la salud y el medioambiente.
6.2.1 MATERIALES Y REACTIVOS
Los reactivos utilizados en esta seccin se muestran en la tabla 6.3.
Para simplificar el montaje experimental, la disolucin de reactivo
quimioluminiscente contena, de acuerdo con lo descrito en la
bibliografa,10 una concentracin 650 M de luminol y 60 M de Co2+
disueltos en una solucin 0.1M de Na2CO3 a pH 10.15 (ajustado con
HCl diluido). La solucin se dejaba en la nevera durante 48 horas en un
recipiente oscuro. Las soluciones de H2O2 (97.9 mM) fueron
preparadas diariamente y mantenidas tambin en recipientes aislados de
la luz.
10
157
6. Dispositivos pticos
REACTIVO
CASA COMERCIAL
cido L(+)ascrbico
Panreac
cido ctrico
Panreac
cido saliclico
Fluka
cido clorhdrico
Panreac
Carbonato de sodio
Panreac
EDTA
Panreac
D(+)Glucosa
Panreac
Probus
Hidrogenocarbonato de sodio
Fluka
Hidrxido de potasio
Fluka
Hidrxido de sodio
Panreac
Luminol
Fluka
Panreac
Paracetamol
Sigma
Sigma
Perxido de hidrgeno
Sigma
Sacarina
Aldrich
Sacarosa
Panreac
paracetamol
(compaa fabricante)
declarada
Otros componentes
(mg/comprimido)
Almidn de maz
Ben-u-Ron
(Neo-Farmacutica)
Talco
500
cido esterico
Almidn glicolato de sodio
Povidona
Dextromorfano monohidratado
Frenadol
(Mc Neil Iberica)
Citrato de cafena
650
Clorfeniramina
cido ascrbico
Sacarosa y otros excipientes
cido ctrico anhidro
Bicarbonato de sodio
Carbonato de sodio anhidro
Efferalgan
(Bristol-Myers Squibb)
1000
Sorbitol
Docusato de sodio
Povidona
Sacarina sdica
Benzoato de potasio
Fosfato de codena
cido ctrico anhidro
Cod-efferalgan
(UPSA)
Bicarbonato de sodio
500
158
6. Dispositivos pticos
A
a
Figura 6.13:
Fotografa del
fotodetector Hamamatsu
S1337-66BQ con el
analizador
miniaturizado de
configuracin vrtex.
A: a: vrtex
miniaturizado;
b: plataforma de
soporte. B: ventana del
fotodetector (enmarcada
en rojo).
159
6. Dispositivos pticos
Figura 6.14:
Fotografa del montaje
del fotomultiplicador
Hamamatsu H6779-02 y
uno de los dispositivos
vrtex acoplado (se han
destacado las entradas y
salidas de flujo).
Entrada
Muestra
H2O
Bomba
Figura 6.15:
Esquema del sistema de
flujo empleado para
algunas experiencias de
la evaluacin de los
dispositivos DO2.
Salida
Entrada
Desecho
R.M.
LTCC
Desecho
160
6. Dispositivos pticos
Figura 6.16:
Imgenes tomadas bajo
diversas condiciones
experimentales. a:
dispositivo de =1.2 cm
y 8 entradas a caudal
bajo; b: =0.9 cm y 4
entradas a caudal bajo;
c: =0.9 cm y 4
entradas a caudal
elevado; d: =0.45 cm
y 8 entradas a caudal
elevado. En todos los
casos se hizo fluir
contnuamente agua y
colorante.
D=
0,
45
cm
D=
(4
0,
)
45
cm
(8
)
D=
0,
9
cm
D=
(4
)
0,
9
cm
(8
)
cm
D=
1,
2
cm
(4
(8
)
D=
1,
2
Intensidad (mV)
Figura 6.17:
Intensidades
suministradas por cada
uno de los dispositivos
evaluados. Se indica el
dimetro de la cmara
de reaccin y, entre
parntesis, el nmero de
canales que entran a ella
(n=3).
Caudal: 6.67 ml/min;
volumen de inyeccin
de H2O2: 100 l.
161
6. Dispositivos pticos
Figura 6.18:
Efecto del volumen de
inyeccin en la
intensidad CL.
Intensidad (mV)
4,8
4,6
4,4
4,2
4,0
3,8
3,6
3,4
3,2
0
200
400
600
800
1000
1200
Figura 6.19:
Esquema del sistema de
flujo empleado para la
determinacin de Co2+.
Bomba
H2O
Desecho
Luminol
H2O2
LTCC
Desecho
162
6. Dispositivos pticos
Figura 6.20:
Optimizacin de la
concentracin de
luminol.
Intensidad (mV)
0,0
0,5
1,0
1,5
2,0
2,5
3,0
[Luminol] (mM)
16
Intensidad (mV)
14
Figura 6.21:
Optimizacin del pH de
la solucin de luminol.
12
10
4
9,4
9,6
9,8
10,0
10,2
10,4
10,6
10,8
11,0
11,2
pH de la solucin de luminol
163
6. Dispositivos pticos
Intensidad (mV)
Figura 6.22:
Optimizacin de la
concentracin de H2O2.
20
40
60
80
100
120
[H2O2] (mM)
164
6. Dispositivos pticos
20
Figura 6.23:
Calibrado de Co2+, en
pequeo, ampliacin de
la zona lineal.
Condiciones
experimentales:
Viny=50 l;
[luminol]=1.5 mM
(pH= 10);
[H2O2]=97.9mM
14
12
10
10
Intensidad (mV)
Intensidad (mV)
15
8
6
4
2
0
20
40
60
80
100
[Co2+ ] (M)
0
0
100
200
300
400 1500
2000
2500
3000
[Co2+ ] (M)
Intensidad (mV)
2,0
Figura 6.24:
Estudio de la
repetitividad del
sistema.
1,5
1,0
0,5
0,0
-0,5
0
100
200
300
400
Tiempo (s)
11
165
6. Dispositivos pticos
Figura 6.25:
Esquema del sistema de
flujo empleado en los
estudios de inhibicin
realizados con el
dispositivo DO2.
Fe(CN)63Muestra
Bomba
H2O
Desecho
Luminol
H2O2
LTCC
Desecho
I blanco I inhibicin
100
I blanco
6. Dispositivos pticos
100
100
60
Figura 6.26:
Calibrado obtenido por
inhibicin de la reaccin
CL del luminol con
paracetamol.
Inhibicin (%)
80
40
20
10
0,1
10
100
1000
0
0
20
40
80
90
100
[paracetamol] (mg/l)
Figura 6.27:
Efecto sobre la
capacidad inhibidora del
paracetamol en la
reaccin CL del
luminol. No aparece la
codena.
0
-2
cido
ascrbico
cido
ctrico
cido Glucosa
saliclico
Sacarina Sacarosa
Penicilina
-4
-6
-8
-10
-12
-14
167
6. Dispositivos pticos
Intensidad (mV)
Figura 6.28:
Ejemplo de la
metodologa de
realizacin de un
anlisis. Corresponde al
comprimido Efferalgan
(de Bristol-Myers
Squibb).
0,4
Muestra (inhibicin)
0,3
0,2
0,1
0,0
-0,1
0
20
40
60
80
Tiempo (s)
168
6. Dispositivos pticos
Compuesto
farmacutico
Ben-u-Ron
Frenadol
Efferalgan
Cod-efferalgan
Concentracin
declarada
(mg/comprimido)
500
650
1000
500
Concentracin de
la muestra diluida
(mg/l)
5
10
20
50
Concentracin
mediante CL
(mg/l)
51 (na=2)
131 (n=3)
20.40.1 (n=3)
604 (n=2)
Cada replicado (n) consiste en la media de 3 picos de blancos y 3 de muestra (figura 6.28)
300
500g/l
Figura 6.29:
Registro de picos
obtenidos con varias
concentraciones de
paracetamol.
Intensidad (mV)
2.5mg/l
200
25mg/l
50mg/l
100
100mg/l
0
200
400
600
800
1000
Tiempo (s)
100
Figura 6.30:
Recta de inhibicin
resultante.
10
0,1
10
100
1000
169
6. Dispositivos pticos
170
7. OTRAS APLICACIONES
n paralelo al desarrollo de los microanalizadores en LTCC, se
disearon y construyeron otros dispositivos de igual
importancia en la consecucin de un verdadero microsistema
total de anlisis. Tal y como ya se puso de manifiesto en algunos
apartados de la Introduccin, el desarrollo de la tecnologa LTCC es de
marcado carcter multidisciplinar. Como muestra de ello, los
dispositivos que aparecen en las siguientes secciones forman parte de la
estrecha colaboracin entre el Grupo de Sensores y Biosensores y el
Instituto Tecnolgico de La Laguna (Mxico). Puesto que la aportacin
de este trabajo se basa en el diseo de las plataformas fludicas y su
aplicacin en el mbito de la qumica, no se entrar en detalles
concernientes al diseo electrnico.
La idea bsica de este captulo es el demostrar la posibilidad de
construir un sistema de anlisis miniaturizado que integre todos los
elementos necesarios utilizando nicamente material cermico y su
tecnologa asociada.
7.1 Potencimetro
En la construccin del sistema de medida potenciomtrico
miniaturizado se hizo uso de la tecnologa LTCC del modo ms
convencional, sacando el mximo provecho de la compatibilidad entre
sustrato y pastas conductoras serigrafiables, as como de la
particularidad de fabricacin multicapa, que permite reducir
notablemente las dimensiones de los circuitos a realizar.
El modelo original del circuito electrnico, a partir del cual se dise el
prototipo miniaturizado, fue el utilizado en los equipos analizadores
fabricados por Adasa Sistemas, S.A.
Al igual que al disear determinadas configuraciones de canales y
cavidades, el dibujo del circuito a transferir a la malla serigrfica, tuvo
que contemplar el encogimiento de las cermicas. Este es un parmetro
especialmente crtico, puesto que sobre las pistas conductoras se
deberan soldar los componentes de montaje superficial necesarios para
completar el dispositivo electrnico.
Los dispositivos fueron fabricados utilizando tanto materiales Dupont
como Heraeus, pero sin intercambiar pastas serigrficas y cermicas
para lograr la mxima resolucin en las pistas conductoras. Los
dispositivos obtenidos con ambos materiales fueron satisfactorios.
Adems, el uso de cermicas 0-Shrinkage de Heraeus facilitaba el
diseo del circuito electrnico ya que este sustrato no presenta
encogimiento en el eje X-Y. Sin embargo, debido al alto encogimiento
en el eje Z (32%), para conferir al circuito de suficiente robustez era
necesario el uso del doble de capas cermicas. Es por ello que,
finalmente, se opt por el uso de materiales Dupont para el desarrollo
del mdulo electrnico.
7. Otras aplicaciones
Figura 7.1:
A: circuito electrnico a
serigrafiar en la
superficie de la
cermica. B: conectores
a serigrafiar en una capa
interna. Ambas capas se
conectaban mediante
vas conductoras.
172
7. Otras aplicaciones
Figura 7.2:
Variantes de los
circuitos electrnicos
construidos. A la
izquierda, materiales
Dupont; a la derecha
Heraeus.
Figura 7.3:
Fotografa del
potencimetro
miniaturizado una vez
soldados los elementos
de montaje superficial.
d1= 6 cm; d2= 4 cm.
d2
d1
173
7. Otras aplicaciones
Figura 7.4:
Montaje experimental:
a: entrada de
agua/muestra;
b: solucin
acondicionadora;
c: desecho;
d: procesador digital de
la seal; 1: DP2;
2: conector elctrico;
3: potencimetro;
4: alimentacin y salida
de la seal elctrica.
d
2
Figura 7.5:
Panel frontal del
instrumento virtual. Se
muestran algunos picos
obtenidos en la
determinacin de un
patrn de cloruros.
174
7. Otras aplicaciones
-120
3550 ppm
355 ppm
35.5 ppm
3.55 ppm
-140
-160
160
140
120
-180
Potencial (mV)
Figura 7.6:
A: picos obtenidos en el
proceso de calibrado,
B: Curva de calibrado
obtenida. Se us la
tarjeta de adquisicin NI
6221.
Potencial (mV)
-100
-200
100
80
60
40
-220
20
0
1
10
100
1000
10000
-240
0
50
100
150
200
Tiempo (s)
175
7. Otras aplicaciones
7.2 Microsistemas
integrado
con
control
de
temperatura
176
7. Otras aplicaciones
Figura 7.8:
A: fotografa del
dispositivo cermico
(3x5.4 cm), donde
R: resistor y
T: termistor. La lnea
punteada indica el canal
de lquido y las grises
los canales de
aislamiento. Los cables
de conexin con el
sistema de medida
externo se soldaban
sobre los puntos R y T.
B: esquema
tridimensional de la
estructura interna del
dispositivo. En azul el
canal de lquido; en
amarillo las pistas
serigrafiadas y en gris
los canales de
aislamiento.
a
b
CONTACTOS ELCTRICOS
SUSTRATO LTCC
VAS ELCTRICAS
PASTA RESISTORA
PASTA CONDUCTORA
INTERNA
Prototipo 1
El primer dispositivo construido es el que aparece en la figura 7.8.
177
7. Otras aplicaciones
A
Figura 7.9:
A y B: fotografas de los
prototipos 2 (3x4.6 cm)
y 3 (3x4.9 cm),
respectivamente, donde
in: entrada de lquidos,
out: salida de lquidos,
T: resistor, R: resistor.
C y D: esquemas de la
estructura
tridimensional de los
dispositivos. En azul los
canales por los que
circula el lquido, en
amarillo las pistas
serigrafiadas y en gris
las estructuras de
aislamiento.
in
out
178
7. Otras aplicaciones
in
R
out
Figura 7.10:
A: fotografa del
dispositivo (3x3.9 cm) y
B: estructura interna
tridimensional.
179
7. Otras aplicaciones
RS-232
Figura 7.11:
Diagrama de la
integracin de la
electrnica y
microfludica en
configuracin feedback.
PID CONTROL
PIC16F877A
Entrada
aire
Salida aire
Control de
seal Current
and Signal
Amplificacin
de
Linearization
Circuito de
linearizacin
Circuit
corriente
y seal
Amplification
de
SignalCircuito
Conditioning
acondicionamiento
Circuit
(SCC)
de seal
(SCC)
180
7. Otras aplicaciones
Prototipo 1
El primer prototipo se descarta porqu se observa que la distribucin
del calor se produce de manera radial con lo que el diseo propuesto es
el que menos aprovecha la temperatura. Por este motivo se disean los
prototipos 2 y 3.2
El prototipo 1, sin embargo, resulta til para evaluar el tipo de
aislamiento a utilizar. Cuando se usa el canal en zig-zag (por encima
del canal de lquido) el termistor mide una temperatura mxima de
44C cuando se usa agua y de 50C cuando se usa aire. Cuando los
canales de aislamiento utilizados se encuentran paralelos al canal de
lquido, la mxima temperatura a la que se llega fue de 36.2C, para
agua, y 42.8C, para aire. El aire ayuda a confinar mejor el calor debido
a su inferior coeficiente de conductividad trmico (0.0264 W/mK).3
Por otro lado, el uso de estructuras de aislamiento en el plano superior
al canal de lquido parece ser mejor opcin para conseguir un
confinamiento del calor ms efectivo.
Prototipo 2 y 3
La diferencia entre estos prototipos se encuentra en el sistema de
refrigeracin escogido. En ambos casos, las estructuras se sitan por
encima y por debajo del plano que contiene el canal por el que circula
el lquido a calentar. Experimentalmente se observa que, de entre las
dos geometras, el canal en forma de espiral, circulando aire por su
interior, resulta ser ms efectivo para lograr un confinamiento del calor
tal que permita calentar ms el lquido que fluye por los canales.
Prototipo 4
La principal aportacin del prototipo 4 es una mayor superficie de canal
de aislamiento. Es interesante observar la ecuacin obtenida en la
recaracterizacin del termistor: T= 2.72 7.55E. La menor pendiente
del termistor, en comparacin a la obtenida en el proceso de
caracterizacin de los dispositivos aislados, cuando no formaban parte
de un sistema de flujo, se asocia al hecho de que, en esta ocasin, el
sistema cermico es ms complejo, hay ms capas entre las pistas
conductoras y la superficie. En estas condiciones, la probabilidad de
que el estrs ocasionado durante el proceso de sinterizado afecte al
comportamiento del termistor, aumenta significativamente.
Para optimizar an ms el confinamiento de calor, se evala el efecto
del caudal de aire que pasa por los canales en forma de espiral. Se
observa que menores caudales facilitan una mayor transferencia de
calor del resistor al lquido. Por este motivo, se decide utilizar esta
metodologa de trabajo para realizar la monitorizacin del
calentamiento de lquido.
181
7. Otras aplicaciones
Figura 7.12:
Estabilizacin de la
seal obtenida, con
oscilaciones de 0.07 en
el estado estacionario.
7.2.4 CONCLUSIONES
Durante la mayor parte del contenido de esta tesis se ha presentado el
sustrato y la tecnologa LTCC como una alternativa a tener en cuenta
en la fabricacin de plataformas fludicas para la fabricacin de
microsistemas de anlisis, que permitieran integrar una o ms etapas
del procedimiento analtico (pretratamiento, deteccin). En este ltimo
captulo se ha mostrado de manera muy general una de las aplicaciones
ms habituales de este material, haciendo uso de su compatibilidad con
la tecnologa de screen-printing: la fabricacin de mdulos
electrnicos. La conclusin ms destacable es la posibilidad de fabricar,
mediante el uso de un sustrato y una tecnologa nica, de manera
modular o monoltica, que es an ms interesante, sistemas que
incluyan la fludica y la electrnica de control.
En la actualidad, en el grupo de investigacin, se trabaja en la
integracin monoltica de la fludica y la electrnica para llevar a cabo
la determinacin potenciomtrica de cloruros, tal y como ya se realizara
anteriormente de manera modular.
Por otro lado, en vista de la precisin conseguida por el conjunto
actuador-sensor, se trabaja en el diseo de dos sistemas que puedan
hacer uso del control de temperatura.
182
7. Otras aplicaciones
183
8. CONCLUSIONES GENERALES
lo largo de los diferentes captulos que conforman esta
memoria, se han ido presentando las conclusiones parciales
concernientes a cada dispositivo diseado y evaluado. Se han
remarcado los excelentes resultados obtenidos, as como las desventajas
observadas en algunos sistemas y se han propuesto soluciones, algunas
de las cuales se estn llevando a cabo en la actualidad.
A modo global, cabra enfatizar que los resultados obtenidos ponen en
evidencia las ventajas ofrecidas por la tecnologa LTCC para realizar la
construccin de microsistemas de anlisis. Entre ellas, deberamos
destacar la facilidad con que es posible construir prototipos de
analizadores con estructura multicapa, lo que facilita enormemente la
integracin de las operaciones unitarias del procedimiento analtico.
Asimismo, se ha demostrado la posibilidad de compatibilizar e integrar
monoltica o modularmente tanto la fludica como la electrnica de
control y deteccin asociada.
Como demostracin de lo dicho, se han integrado y evaluado
exitosamente etapas de pretratamiento (mezcla, difusin gaseosa,
preconcentracin),
sistemas
de
deteccin
(amperomtrico,
potenciomtrico, ptico) y sistemas de electrnicos de medida y
control.