LASERS DE ALTA INTENSIDADE E SUAS

INTERAES COM OS TECIDOS

-1

10
4

Excimer

0.2

0.4

Nd

0.6 0.8 1

gua

Laser
Ti:safira (diodo)
Laser
dede
Cr:LiSAF
Lasers
de semicondutor

Tm Ho

Er

CO2

8 10

Hidroxiapatita

4
Comprimento de onda (m)

Laser de eltrons livres

10
3

10
2

10
1

10
0

10
-1

10

-2

10

-3

10

-4

10

Lasers de corante

PRINCIPAIS LASERS MDICOS

Coeficiente de absoro (cm )

MECANISMOS DE INTERAO LASER

DE ALTA INTENSIDADEINTENSIDADE-TECIDO
Trmicas

Carbonizao
Coagulao
Vaporizao
Decomposio trmica
ablao

Fotoablao
Ablao mediada por plasma
Fotorruptura

MECANISMOS DE INTERAO LASERLASERTECIDO

1 fs

1 ps

1 ns

1 ms

1s

15 minutos

15

Ablao por
ondas de choque

12

Ablao induzida por plasma1 TW/cm2

10

1 GW/cm2

10

10

10

10

Intensidade (W/cm2)

1 s

10

10

1 PW/cm2

Fotoablao
UV

1 MW/cm2
1 kW/cm2

Interaes trmicas
IR

1 W/cm2

Interaes fotoqumicas
vis - IR

-3

-15

10

-12

10

-9

10

-6

10

-3

10

1 mW/cm2
0

10

10

Tempo de exposio (s)

ABLAO EXPLOSIVA

FUSO

FUSO

INTERAES TRMICAS
Efeitos dependem de:
Parmetros laser

Comprimento de onda
Densidade de energia
Tempo de exposio
Tamanho do spot
Taxa de repetio

Parmetros do tecido
Coeficiente de absoro
Coeficiente de espalhamento
8

INTERAES TRMICAS

LASERS DE ALTA INTENSIDADE INTERAES TRMICAS

Objetivo: aumentar a temperatura local do tecido para se
obter um efeito desejado
Efeitos: coagulao, vaporizao, carbonizao, derretimento,
corte
Lasers tpicos: CO2, Nd:YAG, Er:YAG, Er,Cr:YSGG, Ho:YAG,
Ho:YLF, Argnio, Diodo
Durao tpica dos pulsos: 1 s at 1 min
Densidades de potncia tpicas: 10 106 W/cm2

10

COMO ESTIMAR A CRATERA GERADA?

(1) MODELO DO ESTOURO
Assume que a ablao ocorre instantaneamente e se estende a uma profundidade
na qual a fluncia do laser cai para um certo valor de limiar.
Ignora:

mudanas transientes nas propriedades pticas do tecido

efeitos da pluma de ablao
conduo de calor no tecido

prev corretamente a forma e profundidade da cratera como

Caractersticas:
funo da fluncia para valores prximos do limiar.
no leva descrio da uniformidade do dano gerado nas
paredes e no fundo da cratera.

Descrio Matemtica:

d (r, ) =

1 F (r , )

1
FL

onde : d (r,) a profundidade da cratera, F (r,) a distribuio de

fluncia do pulso, FL a fluncia de limiar e o coeficiente de absoro

COMO ESTIMAR A CRATERA GERADA?

EXEMPLO DE CLCULO DA CRATERA
laser de Er:YAG (2,94 m) com fluncia de pulso de 25 J/cm2

Profundidade da cratera (m)

A fluncia de limiar para este laser de 10 J/cm2 para o esmalte e 1 J/cm2 para a dentina.
Assumiu-se = 800 cm-1 para o esmalte e = 4500 cm-1 para a dentina

20

esmalte

40

60
-0.6

dentina

-0.4

-0.2

0.0

Raio (mm)

0.2

0.4

0.6

12

LASERS DE ALTA INTENSIDADE

MECANISMOS DE INTERAO LASER-TECIDO
Trmicas

Carbonizao
Coagulao
Vaporizao
Decomposio trmica
ablao

Fotoablao
Ablao mediada por plasma
Fotorruptura
13

LASERS DE PULSOS CURTOS E

ULTRACURTOS

14

LASERS DE PULSOS CURTOS E

ULTRACURTOS

15

FOTOABLAO
rompimento direto das ligaes moleculares por ftons de alta
energia (UV)
ablao limpa, associada com pequeno rudo e fluorescncia
duraes de pulso: 10 a 100 ns
intensidades: 107 a 1010 W/cm2
Vantagens:
preciso de corte
Previsibilidade
Completa ausncia de danos trmicos
aplicao mais importante: cirurgias de correo refrativa da
crnea -> leses de miopia, hipermetropia e astigmatismo
16

FOTOABLAO
100 m

17

18

FOTOABLAO - MECANISMO
Simulao
em
tecidos
homogneos (polmeros de
PMMA polimetacrilato de
metila - acrlico) -> fcil
transposio para tecidos
no
homogneos
(biolgicos)

Energia de ligao de C-C = 3,6 eV

Aumento de volume
ocupado por cada
monomero

Fora de repulso ~ 1/r12

r = distncia mdia entre 2 monomeros

19

FOTOABLAO MECANISMO
Absoro de ftons de alta energia (UV)
Promoo
estados excitados
excitadosde
deenergia,
energia,repulsivos
repulsivos
promoo aa estados

Dissociao
dissociao

Ejeo de fragmentos (sem necrose)

ablao

dissociao
vibrao
fton

ee--

ligao covalente
quebrada
AB + h (AB)*

Estado
excitado
instvel
Molcula
orgnica
AB + hv -> (AB)*
tomos
livres

(AB)* A + B + Ecintica

Puig, MPLO

Puig - Setembro /1999

Interao da luz laser com tecidos biolgicos: Aplicaes

20

FOTOABLAO
Diagrama de nveis de energia :

Energia

estado excitado (AB)*

energia de
ligao

estado fundamental AB

Distncia radial
21

FOTOABLAO
Produtos ejetados - mistura de:
tomos: C, N, H, O
Molculas: C2. CN. Ch e CO
Fragmentos estveis: monmeros, HCN, benzeno
Composio dependente do :
248 nm: fragmentos de maior peso molecular
193 nm: superfcies mais lisas e previsveis

22

FOTOABLAO
S-H
C-C
C-S C-N
C-O

Energia de
dissociao de
algumas ligaes
qumicas tpicas:

energia (eV)

2,7 3,0

Laser

Comprimentos de onda e
energias de fton para
alguns sistemas laser
selecionados :

23

ArF
KrF
Nd (4)
XeCl
XeF
Argnio
Nd (2)
He-Ne
Diodo
Nd
Ho
Er
CO2

N-H O-H

C=CC=O

3,6 4,1 4,8

Comprimento
de onda (nm)
193
248
263
308
351
514
526
633
800
1050
2080
2940
10600

6,4

Energia do
fton (eV)
6,4
5,0
4,7
4,0
3,5
2,4
2,4
2,0
1,6
1,2
0,6
0,4
0,1

UV

7,1

FOTOABLAO CLCULO DA
CRATERA FORMADA
Modelo utilizado para fotoablao: Modelo do estouro
Mas: a profundidade de ablao determinada pela energia do pulso at um limite de saturao

Profundidade de ablao
(m/pulso)

Exemplo: ablao de crnea de coelho com laser de ArF

Plasma
absorve
radiao

1,0

0,5

0,0

10
24

10

Fluncia (mJ/cm2)

10

FOTOABLAO
Nd:YLF, 263 nm, 20 J/pulso, 30 ps

Nd:YLF, 532 nm, 150 J/pulso, 30 ps

25

FOTOABLAO
Nd:YLF, 263 nm, 20 J/pulso, 30 ps

Nd:YLF, 532 nm, 150 J/pulso, 30 ps

26

FOTOABLAO
Nd:YLF, 263 nm, 20 J/pulso, 30 ps

Nd:YLF, 532 nm, 150 J/pulso, 30 ps

27

FOTOABLAO
Vantagens :

Preciso
Previsibilidade
Completa ausncia de dano trmico aos tecidos adjacentes
(para laser de ArF - 193 nm)

Desvantagens :

Componente trmica significativa para comprimentos de onda

maiores que 193 nm
Baixa velocidade de ablao
(menos que 1 m por pulso e taxas de repetio moderadas)
Citotoxidade - DNA absorve intensamente entre 240-260 nm
Danos ao DNA decrescem na ordem:
248 nm (KrF) > 193 nm (ArF) > 308 nm (XeCl)
28

FOTOABLAO
Principais fontes UV

29

FOTOABLAO
excimer
Lmpada de mercrio
excimer

Radiao dos lasers de excimer menos mutagnica que luz UV ou lmpada de Hg

FOTOABLAO

Luz UV tambm obtida de lasers harmnicos

Adio de um cristal dobrador de frequncia
Nd:YAG ou Nd:YLF = 1064 nm
2 = 526 nm
3 = 355 nm
4 = 263 nm

31

FOTOABLAO
Efeitos em DNA
Formao de dmeros entre 2 bases nitrogenadas
(pirimidinas)

32

LASERS DE ALTA INTENSIDADE FOTOABLAO

Objetivo: quebra de ligaes moleculares por ftons de alta
energia (UV)
Efeitos: ablao muito limpa, associada com fluorescncia
Lasers tpicos: excimers (ArF, KrF, XeCl, XeF)
Durao tpica dos pulsos: 10 a 100 ns
Densidades de potncia tpicas: 107 1010 W/cm2
Principais aplicaes: cirurgia refrativa da crnea

33

LASERS DE ALTA INTENSIDADE

MECANISMOS DE INTERAO LASER-TECIDO
Trmicas

Carbonizao
Coagulao
Vaporizao
Decomposio trmica
ablao

Fotoablao
Ablao mediada por plasma
Fotorruptura
34

ABLAO MEDIADA POR

PLASMA
PLASMA

gs consistindo de ons, eltrons, e partculas neutras (todos

livres)
As partculas tm energias elevadssimas (milhares ou milhes
de graus)
Para se manter este estado necessrio fornecer energia
continuamente para impedir a recombinao. Geralmente
isso feito atravs de um campo eltrico.
O comportamento desse gs dominado pela interao
eletromagntica entre as partculas carregadas.

35

ABLAO MEDIADA POR PLASMA

Campo eltrico -> ruptura dieltrica
= gerao de um plasma devido a um intenso campo eltrico

36

RUPTURA DIELTRICA
O parmetro mais importante deste fenmeno a fora do campo eltrico
local

, a qual determina o colapso ptico do tecido

A fora do campo eltrico est relacionada com a densidade de potncia

intensidade I (equaes da eletrodinmica):

1
I (r , z , t ) = 0 cE 2
2
Onde:
0 = constante dieltrica
c = velocidade da luz
Se E excede um valor de limiar, isto , se o campo eltrico aplicado forar a
ionizao de molculas e tomos, ocorre a ruptura.
37

COLAPSO PTICO
= Ruptura dieltrica causada por um pulso laser de alta
intensidade focalizado em um gs, lquido ou na superfcie de
um slido
Para lasers de ps: ocorre para intensidades acima de 1011
W/cm2 em slidos e lquidos, ou 1014 W/cm2 no ar.

Campo eltrico correspondente: 107 V/cm -> comparvel com

os campos eltricos mdios atmico ou intramolecular
(Coulomb)

38

COLAPSO PTICO
Dentro de poucas centenas de ps, criada uma grande
densidade de eltrons livres no volume focal do feixe laser ->
1018 / cm3
O plasma gerado absorve fortemente a radiao UV, visvel e
IR plasma quente

Para slidos, o pulso laser tambm causa ablao do material

39

ABLAO MEDIADA POR PLASMA

Nd:YLF, 30 ps, 1 mJ, 5.1012 W/cm2

40

MECANISMOS EMVOLVIDOS
Ambos os lasers Q-switched (pulsos de ns) ou Mode-locked (ps ou
fs) podem induzir formao de microplasma localizado
Q-switched: processo de emisso termoinica -> gerao de
eltrons livres devido ionizao trmica do tecido
Mode-locked: ocorre ionizao multi-fotnica devido ao alto campo
eltrico induzido pelo pulso laser intenso
Ionizao multi-fotnica = processo no qual a absoro de vrios
ftons de luz coerente prov a energia necessria para ionizao do
material
41

MECANISMOS ENVOLVIDOS
Avalanche de eltrons:
1 e- livre absorve 1 fton e acelera
e- acelerado -> colide com outro tomo -> ionizao do tomo
2 e- livres com menor energia cintica que o e- inicial
Absorvem ftons -> aceleram -> ionizam outros tomos

42

MECANISMOS ENVOLVIDOS
Avalanche de eltrons:
Lasers Q-switched: emisso termoinica devido a uma ionizao
trmica do material
Lasers Mode-locked: ionizao multi-fotnica ocorre devido ao alto
campo eltrico induzido pelo intenso pulso laser

43

MECANISMOS ENVOLVIDOS
INDEPENDENTE do -> energia do fton no est envolvida no
processo

e- pode ter sua energia cintica aumentada pela absoro de

qualquer quantidade de energia, desde que seja entregue em
um curto espao de tempo (ps ou menos)

Coliso inelstica e difuso dos e- livres

44

MECANISMOS ENVOLVIDOS
Densidade de eltrons livres criada no foco do feixe laser:
tipicamente entre 1018 / cm3 e 1021 / cm3.
Temperatura do plasma: tipicamente de algumas dezenas de
milhares de oC.
A energia do pulso ultracurto depositada em uma camada
bastante fina de material: esse processo tem coeficientes de
absoro tpicos acima de 104 cm-1.
A energia dos eltrons transferida para os ons, e acontece a
ejeo do material.

45

CLCULO DA ESPESSURA DO
MATERIAL REMOVIDO
frmula aproximada
femtosegundos

para

ablao

por

pulsos

de

FP
d=
5. E E
Onde:
FP a fluncia do pulso laser
EE a energia de evaporao do material por unidade de
volume.
46

Profundidade de ablao
(
m / pulso)

CLCULO DA ESPESSURA DO
MATERIAL REMOVIDO
Esmalte cariado
Dentina sadia
Esmalte sadio

40

30

20

10

0
0.0

0.2

0.4

0.6

0.8

1.0

Energia do pulso (mJ)

Laser de Nd:YLF : durao 30 ps, foco 30 m

Portanto: A ablao seletiva!

Puig, MPLO

47

OUTRAS CONSIDERAES
Energia do pulso:
refletida pelo plasma
ejetada com os vapores
quebra das ligaes do material
aquecimento do material

48

USLP = ULTRA SHORT LASER PULSES

Empresa: Clark-MXR, Inc. (Michigan, USA)
Modelo: CPA-2001

Ti:Safira
energia por pulso > 0,8 mJ
largura de pulso < 150 fs
comprimento de onda: 775 nm
taxa de repetio: 1kHz
Alimentao: 110V (Sem necessidade de sistema externo de refrigerao)
PREO: US$ 300 000.00 (sem sistema de entrega de feixe)
49

USLP = ULTRA SHORT LASER PULSES

Empresa: Spectra-Physics (California, USA)
Modelo: Hurricane

Ti:Safira
energia por pulso > 0,8 mJ
largura de pulso < 130 fs
comprimento de onda: ~ 825 nm
taxa de repetio: 1kHz (5kHz disponvel)
Tamanho: 93.6 x 64.8 x 22.8 cm
Alimentao: 110V (Sem necessidade de sistema externo de refrigerao)
PREO: US$ 300 000.00 (sem sistema de entrega de feixe)

50

ABLAO MEDIADA POR PLASMA

Dente humano exposto a
16 000 pulsos de um laser
Nd:YLF de picosegundos
(1,05
m).
Durao dos pulsos: 30 ps.
Energia dos pulsos: 1 mJ
A ablao mostrada na
foto

resultado
da
varredura
dos
feixes
focalizados sobre o tecido.
As rachaduras superficiais
ocorreram
durante
a
preparao
para
a
microscopia eletrnica.
51

ABLAO MEDIADA POR PLASMA

50 m

Crnea com Nd:YLF,

30 ps, 200 J

52

ABLAO MEDIADA POR PLASMA

Objetivo: ablao laser pela formao de um plasma ionizante
praticamente sem dependncia com comprimento de onda
Efeitos: ablao limpa, associada com pequeno rudo e claro
azulado
duraes de pulso: 100 fs a 500 ps
intensidades: 1011 a 1013 W/cm2
aplicaes mais importantes: cirurgias da crnea, odontologia
principais lasers usados: Nd:YLF, Ti:Safira, Cr:LiSAF

53

ANLISE DO PLASMA FORMADO

Anlise espectroscpica da centelha de plasma:
densidade de eltrons livres
temperatura do plasma
Composio qumica do plasma

Controle do tecido que sofre ablao

54

ANLISE DO PLASMA FORMADO

LIBS (Laser Induced Breakdown Spectroscopy Espectroscopia de Ruptura
Induzida por Laser)
tcnica espectroanaltica que emprega a microamostragem por ablao a
laser e subseqente excitao dos espcies presentes no microplasma
durante a ablao ou imediatamente aps esta

55

LIBS
emprega um feixe de laser pulsado, de alta irradincia, da
ordem de GW/cm2, que focalizado sobre a superfcie da
amostra
promove a formao de um plasma de alta temperatura,
geralmente entre 10.000 a 20.000 K
Durante a relaxao, os tomos, ons e fragmentos de
molculas excitados no plasma emitem um espectro de
emisso caracterstico do material volatilizado da amostra

56

LIBS

57

LIBS

58

LASERS DE ALTA INTENSIDADE

MECANISMOS DE INTERAO LASER-TECIDO
Trmicas

Carbonizao
Coagulao
Vaporizao
Decomposio trmica
ablao

Fotoablao
Ablao mediada por plasma
Fotorruptura
59

FOTORRUPTURA = FOTODISRUPO =
ABLAO POR ONDAS DE CHOQUE
Principais efeitos do colapso ptico:
Formao de plasma
Gerao de ondas de choque

Se o colapso ptico ocorrer no interior de tecidos moles ou

lquidos, ocorre cavitao ou formao de jato
Durante a fotodisrupo, o tecido dividido por meio de
foras mecnicas
Enquanto que a ablao induzida por plasma confinada
espacialmente na regio de colapso, ondas de choque e
cavitao propagam pelo tecido
Ex: para pulsos de ns, os efeitos mecnicos podem ser da ordem de
mm
60

FOTODISRUPO

Face anterior de uma placa de vidro, exposta a dez pulsos de um laser de Nd:YLF,
com pulsos de 30 ps de durao e energia de 1 mJ, focalizados em 30 m.
61

FOTODISRUPO
FENMENOS QUE OCORREM:
Formao de plasma: comea durante o pulso laser e dura por
poucos ns -> difuso de eltrons livres para o tecido circundante
Gerao de ondas de choque: associada com a expanso do
plasma -> comea durante a formao do plasma
Cavitao: efeito macroscpico que comea de 50 a 150 ns aps
o pulso laser
ocorre quando o laser est focalizado no interior do tecido, e no em sua
superfcie
Bolhas de cavitao = vapor de gua ou xido de carbono que podem se
difundir para o tecido adjacente -> gera colapsos no tecido

Formao de jato: ocorre quando a bolha gerada na

proximidade de uma interface slida
62

FOTODISRUPO

63

FOTODISRUPO
Objetivos: fragmentao e corte de tecido por foras
mecnicas
Efeitos: formao de plasma; gerao de ondas de choque;
cavitao; formao de jato
duraes de pulso: 100 fs a 100 ns
intensidades: 1011 a 1016 W/cm2
aplicaes mais importantes: fragmentao de cristalino
(capsulotomia posterior do cristalino aps cirurgia de
catarata) e destruio de clculos urinrios. Tem se tornado
uma ferramenta bem estabelecida para cirurgias
minimamente invasivas.
64

DVIDAS ???

65