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Nas fase em que no constante, ser ento uma funo do tempo [ = f(t)]
Logo: X2 = X1 edt
1.4 - Cintica do consumo de substrato para o processo em batelada na fase
exponencial
Y x/s =X/ -S =(X - X0)/ (S0 - S)
(S0 - S) = (X - X0)/ Y x/s
Como: X = X0 ex te
Ento: S = S0 - [X0 (ex te - 1)]/Y x/s
1.5 - Cintica do aparecimento de produto para o processo em batelada na
fase exponencial
YP/X = P/X = (P - P0)/(X - X0)
YP/X = P/(X - X0)
P = YP/X. X0 (ex te - 1)
2 - PROCESSOS EM REGIME CONTNUO
O regime contnuo pode ser definido como a perpetuao de um ponto da
batelada.
Nomenclatura:
F - vazo de alimentao do reator (l/h)
V - volume de mosto no reator (l)
S - concentrao de substrato limitante (g/l)
X - concentrao celular (g/l)
P - concentrao de produto (g/l)
D = F/V - taxa de diluio no reator (h-1)
T = 1/D - tempo de residncia no reator (h)
- velocidade especfica de crescimento (h-1)
YP/S = - (dP/dt)/(dS/dt) - fator de rendimento P/S
YX/S = - (dX/dt)/(dS/dt) fator de rendimento X/S
YP/X = (dP/dt)/dX/dt) fator de rendimento P/X
YP/S = YP/X . YX/S