PERFIL DE INVESTIGACION

1. TITULO
DISEO DE UN EQUIPO DE PLASMA DE BAJA DENSIDAD PARA TRATAMIENTOS
SUPERFICIALES DE ACEROS
1.1 Autor: Raphael Franco Feria Jara
1.2 Asesor:

2. PLANTEAMIENTO DEL PROBLEMA
En fsica y qumica, se denomina plasma al cuarto estado de agregacin de la materia, un estado fluido
similar al estado gaseoso pero en el que determinada proporcin de sus partculas estn cargadas
elctricamente y no poseen equilibrio electromagntico, por eso son buenos conductores elctricos y sus
partculas responden fuertemente a las interacciones electromagnticas de largo alcance.
El plasma presenta caractersticas propias que no se dan en los slidos, lquidos o gases, por lo que es
considerado otro estado de agregacin de la materia. Como el gas, el plasma no tiene una forma definida
o un volumen definido, a no ser que est encerrado en un contenedor; pero a diferencia del gas en el que
no existen efectos colectivos importantes, el plasma bajo la influencia de un campo magntico puede
formar estructuras como filamentos, rayos y capas dobles. Los tomos de este estado se mueven
libremente; cuanto ms alta es la temperatura ms rpido se mueven los tomos en el gas, y en el
momento de colisionar la velocidad es tan alta que se produce un desprendimiento de electrones.
Conviene aclarar que el plasma es un gas ionizado (parcial o totalmente) que contiene casi la misma
cantidad de iones y electrones, pero en el que pueden coexistir tomos neutros, con una gran capacidad
de neutralizar carga introducida externamente; macroscpicamente se considera un medio neutro y el
efecto de estas cargas solo se aprecia a nivel microscpico.
3. DESCRIPCION
El proceso de diseo se encuentra en el campo fsico metalrgico , donde las variables ms
importantes son la temperatura, la densidad del plasma, el tipo de tratamiento superficial, el tipo de acero
a tratar, entre otras variables dependientes e independientes.
4. JUSTIFICACION
Debe hacerse con apoyo de la institucin, y con altas expectativas para lograr un avance muy grande
dentro de la Universidad, de esta manera se puede poner en marcha varios proyectos grandes a futuro
5. ANTECEDENTES
La tcnica de implantacin de iones por inmersin en plasmas (PII) fue propuesta por J. Conrad en la
universidad de Wisconsin, Estados unidos en 1987. El objetivo es mejorar las propiedades superficiales
de los materiales y superar las limitaciones del mtodo de implantacin por haces ionicos unidirecconales
que requeria manipulaciones complejas,.
6. OBJETIVOS
Determinar el diseo del equipo, para asi poder hacer el tratamiento y lograr los resultados esperados
Hacer posible este equipo a nivel micro primeramente, para luego aplicarlo a un nivel mayor.
Evaluar los resultados y analizar si podra llevarse a un nivel macro, de ser asi el caso patentar el equipo
diseado
7. METODOLOGIA
Es una metodologa experimental con simulacin.
8. MATERIALES Y EQUIPOS
Camara de vacio cilndrica de acero inoxidable AINSI la altura y el dimetro estn por determinar.
Electrodo de cilindro de acero inoxidable
Diseo puesto en fsico para asi poder hacer el equipo
Tener las reacciones claras dentro de la cmara y saber lo que ocurrir en el proceso de produccin de
plasma primeramente, para luego habiendo llegado a una temperatura adecuada de tratamiento
superficial, hacerlo posible.
9. CRONOGRAMA
Recopilacin
Evaluacin
Obtencion del diseo
Experimentacin
Analisis
Resultados
Informe final

10. PRESUPUESTO
Personales
Materiales
Servicios

11. BIBLIOGRAFIA
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