Está en la página 1de 15

Universidad Autnoma de San Luis Potos Ingeniera en Nanotecnologa y Energas Renovables

Facultad de Ciencias
Qumica General

Definicin

Propiedades

Depositacin al Vaco Depositacin Electrnica Depositacin por vapor Qumico

Depositacin al Vaco
Descripcin
Para formacin de Para obtener

Procedimientos
El material se

Pelculas Finas
De

Espesor Uniforme
xidos Sulfuros Fluoruros Cloruros

Calienta
En Una

Las partes de la

Sustancias
Tendientes a

Superficie
Deben ser

Cmara
De

Evaporar
Sin destruir su

Accesibles Alto Vaco


A la

Identidad Qumica

Fase de Vapor

Descripcin

Implica el empleo de un alto voltaje para eliminar material de una fuente. Los tomos eliminados del objetivo viajan a travs del gas ionizado dentro de la cmara y se depositan en el sustrato

Depositacin Electrnica

Procedimientos

La cmara contiene un gas inerte que se ioniza en el campo de alto voltaje. Los iones, positivos, aceleran hacia la superficie del objetivo y chocan contra ella desprendiendo tomos del material Los tomos se aceleran hacia la superficie del sustrato y forman una pelcula fina.

La superficie se recubre con un compuesto qumico voltil y estable

El compuesto sufre una reaccin qumica para formar un recubrimiento adherente estable

Depositacin por Vapor Qumico

El sustrato caliente suele ser un material cermico

Aplicaciones

Gracias por su Atencin

También podría gustarte